JPS58134471A - 双方向サイリスタ - Google Patents
双方向サイリスタInfo
- Publication number
- JPS58134471A JPS58134471A JP57018503A JP1850382A JPS58134471A JP S58134471 A JPS58134471 A JP S58134471A JP 57018503 A JP57018503 A JP 57018503A JP 1850382 A JP1850382 A JP 1850382A JP S58134471 A JPS58134471 A JP S58134471A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate
- layer
- thyristor
- electrode
- type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 title claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 241000156753 Calycophyllum candidissimum Species 0.000 description 1
- 241000053451 Silis Species 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
- H10D18/80—Bidirectional devices, e.g. triacs
Landscapes
- Thyristors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は高感度双方向サイリスタに関するものである
。
。
第1図は従来の双方向Tイリスタ(トライアック)の構
成を示す断面図で、αQはn形ペース(n、)層、(1
1)はp形ペース(p、)層、(l乃はp形エミッタ(
p、)層、(1!Iはn形エミッタ(n、)層、Q4i
はリモートゲート側のn1層、a句はn形ゲート層、(
l呻はゲート電極、Ql’l’1電極、Q樽はT、電極
である。
成を示す断面図で、αQはn形ペース(n、)層、(1
1)はp形ペース(p、)層、(l乃はp形エミッタ(
p、)層、(1!Iはn形エミッタ(n、)層、Q4i
はリモートゲート側のn1層、a句はn形ゲート層、(
l呻はゲート電極、Ql’l’1電極、Q樽はT、電極
である。
jI2図はこの従来のトライアックのゲートGとT1電
極との間の、電圧電流特性を示す特性図で、電圧V1に
対する電流を工1としたときR□=v1/工、で示され
る内部インピーダンスRQKでゲー)GトT。
極との間の、電圧電流特性を示す特性図で、電圧V1に
対する電流を工1としたときR□=v1/工、で示され
る内部インピーダンスRQKでゲー)GトT。
電極との間が短絡されていることになるので、キャリア
の注入に寄与しない無効電流が流れ、少なくともこの電
流以下ではこのトライアックは点弧しない。このような
理由によって、従”米のトライアックはさまざまの高感
度化の試みが行なわれているにもかかわらず、ゲートト
リガ電流工。1は少なくとも1mA以上を必要としてお
り、集積回路やフォトカプラなどで直接駆動をすること
ができなかった。
の注入に寄与しない無効電流が流れ、少なくともこの電
流以下ではこのトライアックは点弧しない。このような
理由によって、従”米のトライアックはさまざまの高感
度化の試みが行なわれているにもかかわらず、ゲートト
リガ電流工。1は少なくとも1mA以上を必要としてお
り、集積回路やフォトカプラなどで直接駆動をすること
ができなかった。
この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、ゲ
ートトリガ電流の小さいトライアックを得ることを目的
としている。
ートトリガ電流の小さいトライアックを得ることを目的
としている。
第3図はこの発明の一実施例の構成を示す断面図で、簡
単にいえば、通常のpゲートサイリスタ(CRI)とn
ゲートサイリスタ(CR2)とを組合わせたものである
。pゲー、トサイリスタ(CRI)はn1層−1p)層
■υ、p□層磐およびn8層m−・ら表り、91層なり
にゲート電極−がn8層glKT、電極−が設けられて
いる□nゲートサイリスタ(CR2)はn1層に)。
単にいえば、通常のpゲートサイリスタ(CRI)とn
ゲートサイリスタ(CR2)とを組合わせたものである
。pゲー、トサイリスタ(CRI)はn1層−1p)層
■υ、p□層磐およびn8層m−・ら表り、91層なり
にゲート電極−がn8層glKT、電極−が設けられて
いる□nゲートサイリスタ(CR2)はn1層に)。
93層6υ、R3層(至)、リモート1ゲート側のn8
層−およびn形ゲート層に)からな□す、n形ゲート層
−にゲート電極−が、98層−にはでよ電極に)が設け
られている。そして、両すイリ、スタのゲート電極(2
)、、:′ および御が共通に接続され、T1電[1■および(2)
が共通に接続され、pゲートサイリスタ(CRI)の2
1層(支)とnゲートサイリスタ(CR2)のn8層■
とが共通にT2電極−に接続されている。
層−およびn形ゲート層に)からな□す、n形ゲート層
−にゲート電極−が、98層−にはでよ電極に)が設け
られている。そして、両すイリ、スタのゲート電極(2
)、、:′ および御が共通に接続され、T1電[1■および(2)
が共通に接続され、pゲートサイリスタ(CRI)の2
1層(支)とnゲートサイリスタ(CR2)のn8層■
とが共通にT2電極−に接続されている。
このような構成にすることによって、pゲートサイリス
タ(CRI)とnゲートサイリスタ(CR2)とは相互
に干渉することなく、各々の特性を十分発揮することが
でき、ゲートトリガ電流Iatが10μA〜100μA
のトライアックが実現できる。12!に、纂1図の従来
のトライアックでは左右のサイリスタの相互干渉によプ
、dV/dt耐量は最大でも100V/#6程度である
が、この実施例になるトライアックの鳩舎は、pゲート
サイリスタ(CRI)ではp1層m0厚さおよびワーキ
ングポイントの制御により、また、nゲートサイリスタ
(CR2)ではp1層m0厚さを調整し、nMINの構
造を第3図に示したようにエミッタショート構造にする
ことKよって、工。、は100/JA以下で、dV/d
t耐量が500〜100OV/#1!の特性が得られる
。
タ(CRI)とnゲートサイリスタ(CR2)とは相互
に干渉することなく、各々の特性を十分発揮することが
でき、ゲートトリガ電流Iatが10μA〜100μA
のトライアックが実現できる。12!に、纂1図の従来
のトライアックでは左右のサイリスタの相互干渉によプ
、dV/dt耐量は最大でも100V/#6程度である
が、この実施例になるトライアックの鳩舎は、pゲート
サイリスタ(CRI)ではp1層m0厚さおよびワーキ
ングポイントの制御により、また、nゲートサイリスタ
(CR2)ではp1層m0厚さを調整し、nMINの構
造を第3図に示したようにエミッタショート構造にする
ことKよって、工。、は100/JA以下で、dV/d
t耐量が500〜100OV/#1!の特性が得られる
。
譜
第4図はこの、、″発明の他の実施例の構成を示す断面
図で、pゲ]ト□・フィリータ(CR1)と・ゲートサ
イリスタ(CR2)との間の距離をある程度設ければ1
個の半導体チップ内に形成しても、第3図の実施例よ如
多少特性の低下はあるが、一応この発明の所期の特性が
得られる。
図で、pゲ]ト□・フィリータ(CR1)と・ゲートサ
イリスタ(CR2)との間の距離をある程度設ければ1
個の半導体チップ内に形成しても、第3図の実施例よ如
多少特性の低下はあるが、一応この発明の所期の特性が
得られる。
以上説明したように、仁の発明では、pゲートサイリス
タとnゲートサイリスタとを互いに干渉せぬように逆並
列接続してトライアックを構成したのでゲートトリガ電
流の小さいdV/it耐量の大きいトライブックが得ら
れる。
タとnゲートサイリスタとを互いに干渉せぬように逆並
列接続してトライアックを構成したのでゲートトリガ電
流の小さいdV/it耐量の大きいトライブックが得ら
れる。
1111図は従来のトライアックの構成を示す断面図、
第2図はこの従来のトライアックのゲートGとT1電極
との間の電圧電流゛特性を示す特性図、第3図はこの発
明の一実施例の構成を示す断面図、第4図はこの発明の
他の実施例の構成を示す断面図である。 図において、(CR1)はpゲートサイリス□り、(C
R2)はnゲートサイリスタ、■はpゲートサイリスタ
(CRI)のp、 (アノード)層、翰はpゲートサイ
リスタ(CRI)のn、 (カソード)層、(ロ)はp
ゲートサイリスタ((!R1)のPi (ゲート)層、
に)はnゲートサイリスタ(OR2)のp、 (アノー
ド)層、−ばnゲートサイリスタ(CR2)のn、(カ
ンード珈、(至)はnゲートサイリスタ(CR2)のn
形ゲート層、輪は金属板である。 なお、図中同一符号は同一または和尚部分を示す0 代理人 葛野信−(外1名) 第1図 第2図 第3図 第4図
第2図はこの従来のトライアックのゲートGとT1電極
との間の電圧電流゛特性を示す特性図、第3図はこの発
明の一実施例の構成を示す断面図、第4図はこの発明の
他の実施例の構成を示す断面図である。 図において、(CR1)はpゲートサイリス□り、(C
R2)はnゲートサイリスタ、■はpゲートサイリスタ
(CRI)のp、 (アノード)層、翰はpゲートサイ
リスタ(CRI)のn、 (カソード)層、(ロ)はp
ゲートサイリスタ((!R1)のPi (ゲート)層、
に)はnゲートサイリスタ(OR2)のp、 (アノー
ド)層、−ばnゲートサイリスタ(CR2)のn、(カ
ンード珈、(至)はnゲートサイリスタ(CR2)のn
形ゲート層、輪は金属板である。 なお、図中同一符号は同一または和尚部分を示す0 代理人 葛野信−(外1名) 第1図 第2図 第3図 第4図
Claims (2)
- (1) Pゲートサイリスタのアノードおよびカソー
ドをそれぞれnゲートサイリスタのカソードおよびアノ
ードに接続し、上記pゲートサイリスタのpゲートと上
記nゲートサイリスタのnゲートとを接続して上記pゲ
ートサイリスタと上記nゲートサイリスタとを互いに干
渉しないように逆並列接続してなることを特徴とする双
方向サイリスタ0 - (2)pゲートサイリスタのアノードとnゲートサイリ
スタのカソードとを一枚の金属板に互いに間隔をおいて
接続したことを特徴とする特許請求の範囲m1項記載の
双方向サイリスタ0(3)pゲートサイリスタとnゲー
トサイリスタとをともに1個の半導体チップ内に組み込
んでなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
双方同サイリスタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57018503A JPS58134471A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | 双方向サイリスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57018503A JPS58134471A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | 双方向サイリスタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58134471A true JPS58134471A (ja) | 1983-08-10 |
Family
ID=11973424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57018503A Pending JPS58134471A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | 双方向サイリスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58134471A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63253665A (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
EP1524767A2 (fr) * | 2003-10-17 | 2005-04-20 | St Microelectronics S.A. | Structure de commutateur SCR à commande HF |
EP3091572A1 (fr) * | 2015-05-05 | 2016-11-09 | STMicroelectronics (Tours) SAS | Commutateur bidirectionnel de puissance |
EP3096456A1 (fr) * | 2015-05-20 | 2016-11-23 | STMicroelectronics (Tours) SAS | Commutateur bidirectionnel de puissance a performances en commutation ameliorees |
FR3069957A1 (fr) * | 2017-08-02 | 2019-02-08 | Stmicroelectronics (Tours) Sas | Commutateur unidirectionnel a gachette referencee a l'electrode principale de face arriere |
EP4398309A1 (en) * | 2022-12-30 | 2024-07-10 | Littelfuse Semiconductor (Wuxi) Co., Ltd. | High noise immunity triac structure with insulating trench |
-
1982
- 1982-02-05 JP JP57018503A patent/JPS58134471A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63253665A (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
EP1524767A2 (fr) * | 2003-10-17 | 2005-04-20 | St Microelectronics S.A. | Structure de commutateur SCR à commande HF |
FR2861228A1 (fr) * | 2003-10-17 | 2005-04-22 | St Microelectronics Sa | Structure de commutateur scr a commande hf |
EP1524767A3 (fr) * | 2003-10-17 | 2005-08-10 | St Microelectronics S.A. | Structure de commutateur SCR à commande HF |
US7161191B2 (en) | 2003-10-17 | 2007-01-09 | Stmicroelectronics S.A. | HF-control SCR switch structure |
FR3036001A1 (fr) * | 2015-05-05 | 2016-11-11 | St Microelectronics Tours Sas | Commutateur bidirectionnel de puissance |
EP3091572A1 (fr) * | 2015-05-05 | 2016-11-09 | STMicroelectronics (Tours) SAS | Commutateur bidirectionnel de puissance |
US9997623B2 (en) | 2015-05-05 | 2018-06-12 | Stmicroelectronics (Tours) Sas | Bidirectional power switch |
EP3096456A1 (fr) * | 2015-05-20 | 2016-11-23 | STMicroelectronics (Tours) SAS | Commutateur bidirectionnel de puissance a performances en commutation ameliorees |
FR3036534A1 (fr) * | 2015-05-20 | 2016-11-25 | St Microelectronics Tours Sas | Commutateur bidirectionnel de puissance a performances en commutation ameliorees |
FR3069957A1 (fr) * | 2017-08-02 | 2019-02-08 | Stmicroelectronics (Tours) Sas | Commutateur unidirectionnel a gachette referencee a l'electrode principale de face arriere |
US10707337B2 (en) | 2017-08-02 | 2020-07-07 | Stmicroelectronics (Tours) Sas | One-way switch with a gate referenced to the main back side electrode |
EP4398309A1 (en) * | 2022-12-30 | 2024-07-10 | Littelfuse Semiconductor (Wuxi) Co., Ltd. | High noise immunity triac structure with insulating trench |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS58134471A (ja) | 双方向サイリスタ | |
US3566211A (en) | Thyristor-type semiconductor device with auxiliary starting electrodes | |
JPH0587153B2 (ja) | ||
US3978514A (en) | Diode-integrated high speed thyristor | |
US20020000565A1 (en) | Surface breakdown bidirectional breakover protection component | |
JPH055383B2 (ja) | ||
JPH0139661B2 (ja) | ||
JPH03225960A (ja) | 半導体デバイス | |
JP3635098B2 (ja) | サイリスタおよびそのアセンブリ | |
JPS5866356A (ja) | 可制御型半導体装置 | |
US5229313A (en) | Method of making a semiconductor device having multilayer structure | |
US3648122A (en) | Metal-insulator-metal solid-state rectifier | |
JPS59163867A (ja) | ゲ−トタ−ンオフサイリスタ | |
JPS6112072A (ja) | 半導体装置 | |
JPH02294073A (ja) | 大阻止容量半導体素子 | |
JPH0653511A (ja) | 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタの構造 | |
JPH07230733A (ja) | 半導体アレスタ | |
JP3193386B2 (ja) | 両方向性サイリスタ | |
JPS6031112B2 (ja) | Pn接合を有するシヨツトキダイオ−ド | |
JP2527031B2 (ja) | 半導体集積回路装置 | |
JP2953623B2 (ja) | プレーナ型サイリスタ | |
JPS6114675B2 (ja) | ||
JPH05347406A (ja) | アノードヘテロ接合構造型半導体装置 | |
SU865080A1 (ru) | Полупроводниковый прибор "Дефензор | |
JPS61232671A (ja) | 逆導通gtoサイリスタ |