JPH09292674A - Heat-developable photosensitive material - Google Patents
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Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
し、特に印刷製版用に適している熱現像材料に関するも
のである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly to a photothermographic material suitable for printing plate making.
【0002】[0002]
【従来の技術】熱現像処理法を用いて写真画像を形成す
る熱現像感光材料は、例えば米国特許第3152904
号、3457075号、及びD.モーガン (Morgan) と
B.シェリー (Shely)による「熱によって処理される銀
システム (Thermally Processed Silver Systems) 」
(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテリアル
ズ(Imaging Processes and Materials) Neblette 第8
版、スタージ (Sturge) 、V.ウォールワース (Walwor
th) 、A.シェップ (Shepp)編集、第2頁、1969年
に開示されている。2. Description of the Related Art A photothermographic material for forming a photographic image by using a heat development processing method is disclosed, for example, in US Pat. No. 3,152,904.
No. 3457075 and D.C. Morgan and B.M. "Thermally Processed Silver Systems" by Shely
(Imaging Processes and Materials) Neblette 8th
Edition, Sturge, V.I. Walwor
th), A. It is disclosed in Shepp, pp. 2, 1969.
【0003】このような熱現像感光材料は、還元可能な
銀源(例えば有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えば
ハロゲン化銀)、銀の色調を制御する色調剤及び還元剤
を通常バインダーマトリックス中に分散した状態で含有
しており、ドライシルバーと呼ばれている。熱現像感光
材料は常温で安定であるが、露光後高温(例えば、80
℃以上)に加熱した場合に還元可能な銀源(酸化剤とし
て機能する)と還元剤との間の酸化還元反応を通じて銀
を生成する。この酸化還元反応は露光で発生した潜像の
触媒作用によって促進される。露光領域中の有機銀塩の
反応によって生成した銀は黒色画像を提供し、これは非
露光領域と対照をなし、画像の形成がなされる。In such a photothermographic material, a reducible silver source (for example, an organic silver salt), a catalytically active amount of a photocatalyst (for example, silver halide), a toning agent for controlling the color tone of silver and a reducing agent are usually used as a binder. It is contained in the matrix in a dispersed state and is called dry silver. The photothermographic material is stable at room temperature, but at a high temperature (for example, 80
When heated to (° C. or higher), silver is produced through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and the reducing agent. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.
【0004】このような熱現像感光材料は、マイクロ感
材や、レントゲンに使われてきたが、印刷感材としては
一部で使われているのみである。それは、得られる画像
のDmaxが低く、階調が軟調なために、印刷用感材と
しては画質が著しく悪いからであった。[0004] Such photothermographic materials have been used for micro-sensitive materials and X-rays, but are only partially used as printing photosensitive materials. This is because the obtained image has a low Dmax and soft gradation, so that the image quality of the printing photosensitive material is extremely poor.
【0005】一方、近年レーザーや発光ダイオードの発
達により、600〜800nmに発振波長を有するスキャ
ナーやイメージセッターが広く普及し、これらの出力機
に適性を有する、感度、Dmaxが高く、かつ硬調な感
材の開発が強く望まれていた。また、簡易処理、ドライ
化への要求も強くなっている。On the other hand, with the recent development of lasers and light-emitting diodes, scanners and imagesetters having an oscillation wavelength of 600 to 800 nm have become widespread, and the sensitivity, Dmax and high contrast suitable for these output machines are high. The development of wood was strongly desired. Also, demands for simple processing and dry processing are increasing.
【0006】米国特許第5464738号には、ドライ
シルバーの還元剤としてスルホニルヒドラジドを用いる
と、硬調な画像が得られることが記載されている。[0006] US Patent No. 5,647,738 describes that use of sulfonyl hydrazide as a reducing agent for dry silver provides a high-contrast image.
【0007】米国特許第5496695号には、ドライ
シルバーの還元剤としてヒンダード・フェノールとホル
ミルヒドラジン、もしくはトリチル・ヒドラジンの併用
によって硬調画像が得られることが記載されている。US Pat. No. 5,496,695 describes that a high contrast image can be obtained by using a combination of hindered phenol and formyl hydrazine or trityl hydrazine as dry silver reducing agents.
【0008】これらの画像形成法は、いずれも120℃
以上の高温で熱現像することを特徴としており、硬調画
像形成に伴ういくつかの問題を有している。その1つ
は、ヒドラジン類を、用いた時の黒点 (pepper fog) と
呼ばれるノイズである。ヒドラジン類を用いた時の通常
の湿式現像では良く知られている現象として、黒ポツが
あるが、ドライ熱現像システムで発生する黒点は、かな
り様相を異にし、熱現像温度依存性が極めて大きく、高
温ほど発生しやすい。また、湿式現像系では、現像液p
H依存性が大きく、感材の感光性乳剤層に酸性化合物、
酸性ポリマーを含ませることで黒点ないし黒ポツの発生
を抑えられる。一方、熱現像系では、感材中に有機脂肪
酸や、フタル酸誘導体などの芳香族カルボン酸、および
還元剤としてビスフェノール誘導体などを多量に含んで
おり、十分、酸性雰囲気になっている。にもかかわら
ず、高温で熱現像すると黒点が発生する。All of these image forming methods are performed at 120 ° C.
It is characterized by heat development at the above high temperature, and has some problems associated with the formation of a high contrast image. One of them is noise called peper fog when hydrazines are used. As a well-known phenomenon in normal wet development when using hydrazines, there is a black spot, but the black spot generated in a dry thermal development system has a considerably different aspect, and the thermal development temperature dependency is extremely large. It is more likely to occur at higher temperatures. In the wet development system, the developer p
H dependency is large, acidic compounds in the photosensitive emulsion layer of the light-sensitive material,
By including an acidic polymer, the generation of black dots or black spots can be suppressed. On the other hand, the thermal development system contains a large amount of organic fatty acids, aromatic carboxylic acids such as phthalic acid derivatives, and bisphenol derivatives as a reducing agent in the light-sensitive material, and is in a sufficiently acidic atmosphere. Nevertheless, black spots occur when thermally developed at high temperatures.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、超硬
調でDmaxの高い熱現像感光材料を提供することにあ
る。さらに、具体的には、黒点の発生が抑えられた画質
の良い印刷製版用熱現像感光材を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a photothermographic material having a super-high contrast and a high Dmax. Furthermore, specifically, it is to provide a photothermographic material for printing plate making which has a high image quality in which the generation of black dots is suppressed.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成される。 (1)有機銀塩、感光性ハロゲン化銀、還元剤および超
硬調化剤を含む熱現像感光材料において、次の一般式で
表わされる化合物を含有することを特徴とする熱現像感
光材料。 (一般式) C−L−D (ここで、Cはハロゲン化銀への吸着を促進する基を表
わし、Dは酸基を表わし、Lは二価の連結基を表わし、
C−L−Dは可視部に実質的に吸収極大を有しない。) (2)超硬調化剤がヒドラジン誘導体である上記(1)
の熱現像感光材料。The above object of the present invention is attained by the following constitutions. (1) A photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a super-high contrast agent, which contains a compound represented by the following general formula. (General Formula) C-L-D (wherein C represents a group that promotes adsorption to silver halide, D represents an acid group, L represents a divalent linking group,
C-L-D has substantially no absorption maximum in the visible region. (2) The above (1), wherein the ultrahigh contrast agent is a hydrazine derivative
Photothermographic material.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる超硬調化剤に
ついて説明する。本発明で用いられる超硬調化剤は、単
独では現像薬として機能しないが、現像薬としての還元
剤と併用することで、超硬調な画像を与えることができ
る。従って、前述の従来技術における還元剤の併用と
は、全く、概念も作用効果も異なる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The ultrahigh contrast agent used in the present invention will be described. The super-high contrast agent used in the present invention does not function alone as a developer, but can be used in combination with a reducing agent as a developer to give a super-high contrast image. Therefore, the concept and action and effect are completely different from the above-described conventional use of a reducing agent together.
【0012】超硬調化剤は、ヒドラジン誘導体、もしく
は四級窒素原子を含む化合物から選ぶことができる。The ultrahigh contrast agent can be selected from a hydrazine derivative or a compound containing a quaternary nitrogen atom.
【0013】超硬調化剤としてのヒドラジン誘導体は、
下記一般式(I)によって表わされる化合物が好まし
い。The hydrazine derivative as an ultrahigh contrast agent is
Compounds represented by the following general formula (I) are preferred.
【0014】[0014]
【化1】 Embedded image
【0015】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽
和ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミ
ノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−基、
−SO2 −基、−SO−基、In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group. And G 1 is a —CO— group,
A —SO 2 — group, a —SO— group,
【0016】[0016]
【化2】 Embedded image
【0017】−CO−CO−基、チオカルボニル基、又
はイミノメチレン基を表わし、A1 、A2 はともに水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無
置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換
のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
シル基を表わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲内
より選ばれ、R2 と異なってもよい。Represents a --CO--CO-- group, a thiocarbonyl group, or an iminomethylene group, wherein both A 1 and A 2 are hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted Alternatively, it represents an unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2.
【0018】一般式(I)において、R1 で表わされる
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、
特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル
基である。ここで分岐アルキル基はその中に1つまたは
それ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成す
るように環化されていてもよい。また、このアルキル基
は置換基を有していてもよい。In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms,
Particularly, it is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent.
【0019】一般式(I)において、R1 で表わされる
芳香族基は単環または2環のアリール基または不飽和ヘ
テロ環基である。ここで、不飽和ヘテロ環基は単環また
は2環のアリール基と縮環してヘテロアリール基を形成
してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジ
ン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、
キノリン環、イソキノリン環、ベンスイミダゾール環、
チアゾール環、ベンゾチアゾール環等があるが、なかで
もベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に好
ましいものはアリール基である。In the general formula (I), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. For example, benzene ring, naphthalene ring, pyridine ring, pyrimidine ring, imidazole ring, pyrazole ring,
Quinoline ring, isoquinoline ring, benzimidazole ring,
There are a thiazole ring, a benzothiazole ring and the like, and among them, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.
【0020】R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環
を含む基、ピリジニウム基、ヒドロキシ基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アルキルまたは
アリールスルホニルオキシ基、アミノ基、カルボンアミ
ド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ウレタ
ン基、ヒドラジド構造を持つ基、4級アンモニウム構造
を持つ基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキルま
たはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリールス
ルフィニル基、カルボキシル基、スルホ基、アシル基、
アルコキシまたはアリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、
ニトロ基、ニトロシル基、リン酸アミド基、ジアシルア
ミノ基、イミド基、アシルウレア構造を持つ基、セレン
原子またはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造
または4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられ、
好ましい置換基としては直鎖、分岐または環状のアルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル
基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜3の単環ま
たは2環のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1
〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜
20のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミ
ノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、スルホ
ンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、
ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つもの)、
リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のもの)な
どである。The aliphatic group or aromatic group of R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a group containing a heterocycle, a pyridinium group, Has a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, an alkyl or aryl sulfonyloxy group, an amino group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a ureido group, a thioureido group, a semicarbazide group, a thiosemicarbazide group, a urethane group, and a hydrazide structure. Group, group having quaternary ammonium structure, alkyl or arylthio group, alkyl or aryl sulfonyl group, alkyl or aryl sulfinyl group, carboxyl group, sulfo group, acyl group,
Alkoxy or aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, halogen atom, cyano group,
A nitro group, a nitrosyl group, a phosphoric acid amide group, a diacylamino group, an imide group, a group having an acylurea structure, a group containing a selenium atom or a tellurium atom, a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure, and the like.
Preferred substituents are a linear, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl moiety having 1 to 3 carbon atoms), An alkoxy group (preferably having 1 carbon atom)
To 20), a substituted amino group (preferably having 1 to carbon atoms)
An amino group substituted with an alkyl group of 20), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms),
Ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms),
And a phosphoric amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).
【0021】一般式(I)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。In the general formula (I), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, benzene. It contains a ring.
【0022】不飽和ヘテロ環基としては少なくとも1つ
の窒素、酸素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合
物で、例えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾ
リル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニウム
基、キノリニウム基、キノリニル基などがある。ピリジ
ル基またはピリジニウム基が特に好ましい。The unsaturated heterocyclic group is a compound having a 5- or 6-membered ring containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom, for example, imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group, pyridinium group, Examples include quinolinium group and quinolinyl group. Pyridyl or pyridinium groups are particularly preferred.
【0023】アルコキシ基としては炭素数1〜8のアル
コキシ基のものが好ましく、アリールオキシ基としては
単環のものが好ましく、アミノ基としては無置換アミノ
基、及び炭素数1〜10のアルキルアミノ基、アリール
アミノ基が好ましい。The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the aryloxy group is preferably a monocyclic group, the amino group is an unsubstituted amino group, and the alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms. A group and an arylamino group are preferred.
【0024】R2 は置換されていても良く、好ましい置
換基としてはR1 の置換基として例示したものがあては
まる。R 2 may be substituted, and as the preferable substituent, those exemplified as the substituent of R 1 are applicable.
【0025】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、G1 が−CO−基の場合には、水素原子、アルキル
基(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピ
ル基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル
基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリー
ル基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタン
スルホニルフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル
基など)、−C2 F2 COOM(M:水素原子、アルカ
リ金属原子)などである。Preferred among the groups represented by R 2 are hydrogen atom, alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3 and 3 when G 1 is —CO— group. -Methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc.), aralkyl group (for example, o-hydroxybenzyl group, etc.), aryl group (for example, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc.), —C 2 F 2 COOM (M: hydrogen atom, alkali metal atom) and the like.
【0026】また、G1 が−SO2 −基の場合には、R
2 はアルキル基(例えば、メチル基など)、アラルキル
基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリー
ル基(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基
(例えば、ジメチルアミノ基など)などが好ましい。When G 1 is a --SO 2 --group, R is R.
2 is preferably an alkyl group (eg, methyl group), an aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, phenyl group) or a substituted amino group (eg, dimethylamino group).
【0027】G1 が−COCO−基の場合にはアルコキ
シ基、アリーロキシ基、アミノ基が好ましい。When G 1 is a --COCO-- group, an alkoxy group, an aryloxy group and an amino group are preferred.
【0028】一般式(I)のGとしては−CO−基、−
COCO−基が好ましく、−CO−基が最も好ましい。As G in the general formula (I), --CO-- group,-
A COCO- group is preferred, and a -CO- group is most preferred.
【0029】又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子か
ら分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を
生成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、その例としては、例えば特開昭63−29751号
などに記載のものが挙げられる。[0029] Also, R 2 is be as occurring cyclization reaction to form a cyclic structure containing disrupts portion of G 1 -R 2 from the remainder molecule, -G 1 -R 2 moiety of atoms Examples thereof include those described in JP-A-63-29751.
【0030】R1 はR2 に少くとも1つのニトロ基、又
はニトロシル基を持つヒドラジン誘導体が好しい。特に
R1 に少なくとも1つのニトロ基、又はニトロシル基を
有するものが好ましい。R 1 is preferably a hydrazine derivative having at least one nitro group or nitrosyl group in R 2 . Particularly, those having at least one nitro group or nitrosyl group in R 1 are preferable.
【0031】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状、又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる))である。A1 、A2
としては水素原子が最も好ましい。A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group, or the sum of Hammett's substituent constants is-).
A phenylsulfonyl group substituted so as to have a value of 0.5 or more; an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group or a substituent having a sum of Hammett's substituent constants of -0.5 or more); A benzoyl group or a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group; ))). A 1 , A 2
Is most preferably a hydrogen atom.
【0032】一般式(I)のR1 、R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR1 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR1 の置換基として例示したものがあては
まる。The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (I) may be further substituted, and preferable examples thereof include those exemplified as the substituents of R 1 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent, ...
, Etc. may be substituted multiple times, and preferred examples also include those exemplified as the substituent of R 1 .
【0033】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。R 1 or R 2 of the general formula (I) may have a ballast group or a polymer, which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler, incorporated therein. A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, for example, an alkyl group,
It can be selected from aralkyl group, alkoxy group, phenyl group, alkylphenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
【0034】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオ
アミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの
米国特許第4,385,108号、同4,459,34
7号、特開昭59−195233号、同59−2002
31号、同59−201045号、同59−20104
6号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基があげられる。R 1 or R 2 in the general formula (I) may have a group incorporated therein to enhance adsorption to the surface of the silver halide grain. Examples of such an adsorbing group include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,34 such as an alkylthio group, an arylthio group, a thiourea group, a heterocyclic thioamide group, a mercapto heterocyclic group, and a triazole group.
7, JP-A-59-195233 and JP-A-59-2002.
No. 31, No. 59-201045, No. 59-20104
No. 6, No. 59-201047, No. 59-201048
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
No. 3, No. 61-270744, No. 62-948, No. 63-234244, No. 63-234245, No. 6
The groups described in 3-234246 are mentioned.
【0035】一般式(I)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0036】[0036]
【化3】 Embedded image
【0037】[0037]
【化4】 Embedded image
【0038】[0038]
【化5】 Embedded image
【0039】[0039]
【化6】 [Chemical 6]
【0040】[0040]
【化7】 Embedded image
【0041】[0041]
【化8】 Embedded image
【0042】[0042]
【化9】 Embedded image
【0043】[0043]
【化10】 Embedded image
【0044】[0044]
【化11】 Embedded image
【0045】[0045]
【化12】 [Chemical 12]
【0046】[0046]
【化13】 Embedded image
【0047】[0047]
【化14】 Embedded image
【0048】[0048]
【化15】 Embedded image
【0049】[0049]
【化16】 Embedded image
【0050】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,478,928
号、同4,560,638号、同4,686,167
号、同4,912,016号、同4,988,604
号、同4,994,365号、同5,041,355
号、同5,104,769号、英国特許第2,011,
391B号、欧州特許第217,310号、同301,
799号、同356,898号、特開昭60−1797
34号、同61−170733号、同61−27074
4号、同62−178246号、同62−270948
号、同63−29751号、同63−32538号、同
63−104047号、同63−121838号、同6
3−129337号、同63−223744号、同63
−234244号、同63−234245号、同63−
234246号、同63−294552号、同63−3
06438号、同64−10233号、特開平1−90
439号、同1−100530号、同1−105941
号、同1−105943号、同1−276128号、同
1−280747号、同1−283548号、同1−2
83549号、同1−285940号、同2−2541
号、同2−77057号、同2−139538号、同2
−196234号、同2−196235号、同2−19
8440号、同2−198441号、同2−19844
2号、同2−220042号、同2−221953号、
同2−221954号、同2−285342号、同2−
285343号、同2−289843号、同2−302
750号、同2−304550号、同3−37642
号、同3−54549号、同3−125134号、同3
−184039号、同3−240036号、同3−24
0037号、同3−259240号、同3−28003
8号、同3−282536号、同4−51143号、同
4−56842号、同4−84134号、同2−230
233号、同4−96053号、同4−216544
号、同5−45761号、同5−45762号、同5−
45763号、同5−45764号、同5−45765
号、特願平5−94925号に記載されたものを用いる
ことができる。As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
No. 3516 (November 1983, P. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,20.
No. 7, 4,269,929, 4,276,364
Nos. 4,278,748 and 4,385,108
No. 4,459,347 and 4,478,928
Nos. 4,560,638 and 4,686,167
Nos. 4,912,016 and 4,988,604
No. 4,994,365, No. 5,041,355
No. 5,104,769, British Patent 2,011,
391B, EP 217,310, EP 301,310,
No. 799, No. 356, 898, JP-A-60-1797.
No. 34, No. 61-170733, No. 61-27074
No. 4, 62-178246, 62-270948
Nos. 63-29751, 63-32538, 63-110407, 63-121838, and 6
3-129337, 63-223744, 63
-234244, 63-234245, 63-
No. 234246, No. 63-294552, No. 63-3
Nos. 06438 and 64-10233, JP-A-1-90
No. 439, No. 1-100530, No. 1-1095941
No. 1-105943, No. 1-276128, No. 1-280747, No. 1-283548, No. 1-2
No. 83549, No. 1-285940, No. 2-2541
No. 2, No. 2-77057, No. 2-139538, No. 2
196234, 2-196235, 2-19
No. 8440, No. 2-198441, No. 2-19844
No. 2, No. 2-220042, No. 2-221953,
2-221954, 2-285342, 2-
No. 285343, No. 2-289843, No. 2-302
No. 750, No. 2-304550, No. 3-37642
No. 3-54549, No. 3-125134, No. 3
Nos. -184039, 3-240036, 3-24
No. 0037, No. 3-259240, No. 3-28003
No. 8, 3-282536, 4-51143, 4-56842, 4-84134, 2-230
No. 233, No. 4-96053, No. 4-216544
Nos. 5-45761, 5-45762, 5-
No. 45763, No. 5-45764, No. 5-45765
And Japanese Patent Application No. 5-94925 can be used.
【0051】またこの他にも特公平6−77138号に
記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報
3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号に
記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同
公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6
−230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)
および一般式(6)で表される化合物で、具体的には同
公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−
10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−4
2、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合
物6−7。特開平6−289520号に記載の一般式
(I)および一般式(2)で表される化合物で、具体的
には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−1
7)および2−1)。特開平6−313936号に記載
の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体的
には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−3
13951号に記載の(化1)で表される化合物で、具
体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−
5610号に記載の一般式(I)で表される化合物で、
具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜
I−38。特開平7−77783号に記載の一般式(I
I)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜2
7頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−1
04426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44。に記載されたもの
を用いることができる。In addition to these, the compounds represented by (Chemical formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically the compounds described on pages 3 and 4 of the publication. Compounds represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. JP 6
General formulas (4) and (5) described in JP-A-230497
And compounds represented by the general formula (6), specifically, Compounds 4-1 to 4- described on pages 25 and 26 of the publication.
Compounds 5-1 to 5-4 described on page 10, pages 28 to 36
2, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. Compounds represented by formulas (I) and (2) described in JP-A-6-289520, specifically, compounds 1-1) to 1-1 described on pages 5 to 7 of the same publication
7) and 2-1). Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-6-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same. JP-A-6-3
A compound represented by (Chemical Formula 1) described in No. 13951, specifically, a compound described on pages 3 to 5 of the same publication. JP-A-7-
A compound represented by the general formula (I) described in 5610,
Specifically, Compounds I-1 to I-5 described on pages 5 to 10 of the publication are described.
I-38. The general formula (I described in JP-A-7-77783)
The compound represented by I), specifically, pages 10 to 2 of the same publication.
Compounds II-1 to II-102 described on page 7. JP-A-7-1
General formula (H) and general formula (H
compounds represented by a), specifically, pages 8 to 15 of the same publication.
Compounds H-1 to H-44 described on page. It is possible to use those described in.
【0052】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としては有機酸銀とハロゲン化銀とを合わせたトータル
の銀1モルあたり1×10-6モルないし1×10-1モル
含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし5
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is preferably 1 × 10 -6 mol to 1 × 10 -1 mol per 1 mol of total silver of organic acid silver and silver halide, Especially 1 × 10 −5 mol to 5
The preferable addition amount is in the range of x10 -2 mol.
【0053】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な有機
溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。The hydrazine derivative of the present invention is a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like.
【0054】また、既に良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散して用いることもできる。By a well-known emulsification and dispersion method, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are used to dissolve and mechanically dissolve them. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method.
【0055】本発明ではヒドラジン誘導体と併用して、
カブリ防止剤としてインダゾール類(例えばニトロイン
ダゾール)を使用することが好ましい。In the present invention, in combination with a hydrazine derivative,
It is preferable to use indazoles (for example, nitroindazole) as an antifoggant.
【0056】本感光材料には、ヒドラジン誘導体と併用
して、アミン誘導体、オニウム塩化合物、ジスルフィド
誘導体、およびヒドロキシアミン誘導体などの造核促進
剤を添加することが好ましい。It is preferable to add a nucleation accelerator such as an amine derivative, an onium salt compound, a disulfide derivative and a hydroxyamine derivative to the light-sensitive material in combination with the hydrazine derivative.
【0057】造核推進剤の化合物例としては、特願平7
−266204号に記載のA−1〜A−47があげられ
る。As a compound example of the nucleating propellant, Japanese Patent Application No.
A-1 to A-47 described in JP-A-266204.
【0058】四級窒素原子を含む超硬調化剤としては、
次の一般式(Pa),(Pb),および(Pc)で表わ
されるピリジニウム、およびキノリニウム化合物、もし
くは後述の一般式(T)で表わされるテトラゾリウム化
合物が用いられる。As the ultrahigh contrast agent containing a quaternary nitrogen atom,
The pyridinium and quinolinium compounds represented by the following general formulas (Pa), (Pb), and (Pc), or the tetrazolium compound represented by the general formula (T) described later are used.
【0059】[0059]
【化17】 Embedded image
【0060】式中、A1 、A2 、A3 、A4 及びA
5 は、含窒素ヘテロ環を完成させるための非金属原子群
を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよ
く、ベンゼン環が縮合してもかまわない。A1 、A2 、
A3 、A4 及びA5 で構成されるヘテロ環は置換基を有
してもよく、それぞれ同一で異なっていてもよい。置換
基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル
基、カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホン
アミド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。好ま
しい例としてはA1 、A2 、A3 、A4 及びA5 は5〜
6員環(例えば、ピリジン環、イミダゾール環、チオゾ
ール環、オキサゾール環、ピラジン環、ピリミジン環な
ど)をあげることができ、更に好ましい例としてピリジ
ン環を挙げることができる。Where A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A
5 represents a group of nonmetallic atoms for completing the nitrogen-containing heterocycle, which may contain an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, and may be condensed with a benzene ring. A 1 , A 2 ,
The hetero ring composed of A 3 , A 4 and A 5 may have a substituent and may be the same and different. As the substituent, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group,
Alkenyl group, alkynyl group, halogen atom, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group, amino Represents a group, a sulfonamide group, a sulfonyl group, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, an alkylthio group and an arylthio group. Preferred examples of A 1 , A 2 , A 3 , A 4 and A 5 are 5 to 5.
Examples include a 6-membered ring (for example, a pyridine ring, an imidazole ring, a thiozole ring, an oxazole ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, and the like), and a more preferred example is a pyridine ring.
【0061】Bp は、2価の連結基を表す。2価の連結
基とは、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−S
O2 −、−SO−、−O−、−S−、−CO−、−N
(R6)−(R6 はアルキル基、アリール基、水素原子
を表す)を単独又は組合せて構成されるものを表す。好
ましい例としては、Bp はアルキレン、アルケニレンを
あげることができる。B p represents a divalent linking group. The divalent linking group means alkylene, arylene, alkenylene, -S
O 2 -, - SO -, - O -, - S -, - CO -, - N
(R 6) - (R 6 is an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom) represents what is configured alone or in combination. Preferred examples of Bp include alkylene and alkenylene.
【0062】R1 、R2 及びR3 は、炭素数1以上20
以下のアルキル基を表す。R1 、R2 は同一でも異なっ
ていてもよい。アルキル基とは、置換あるいは無置換の
アルキル基を表し、置換基としては、A1 、A2 、
A3 、A4 及びA5 の置換基としてあげた置換基と同様
である。R 1 , R 2 and R 3 have 1 or more carbon atoms and 20
The following alkyl groups are represented. R 1 and R 2 may be the same or different. The alkyl group represents a substituted or unsubstituted alkyl group, and examples of the substituent include A 1 , A 2 ,
It is the same as the substituent described as the substituent for A 3 , A 4 and A 5 .
【0063】好ましい例としては、R1 、R2 及びR3
はそれぞれ炭素数4〜10のアルキル基を表す。更に好
ましい例として置換あるいは無置換のアリール置換アル
キル基を表す。Xp は分子全体の電荷を均衡さすに必要
な対イオンを表す。例えば、塩素イオン、臭素イオン、
ヨウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トルエン
スルホナート、オキザラート、を表す。np は分子全体
の電荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子内
塩の場合には、np は0である。次に本発明に係るピリ
ジニウム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれ
らに限定されない。Preferred examples are R 1 , R 2 and R 3
Represents an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. A more preferred example is a substituted or unsubstituted aryl-substituted alkyl group. X p represents a counter ion required to balance the charge of the entire molecule. For example, chlorine ion, bromine ion,
Represents iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate, oxalate. n p represents the number of counter ions required to balance the charge of the entire molecule, and n p is 0 in the case of an intramolecular salt. Next, specific examples of the pyridinium compound according to the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
【0064】[0064]
【化18】 Embedded image
【0065】[0065]
【化19】 Embedded image
【0066】[0066]
【化20】 Embedded image
【0067】[0067]
【化21】 [Chemical 21]
【0068】[0068]
【化22】 Embedded image
【0069】[0069]
【化23】 Embedded image
【0070】本発明において、上記一般式(T)で示さ
れるトリフェニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の
置換基R1 、R2 、R3 は水素原子もしくは電子吸引性
度を示すハメットのシグマ値(σp )が負のものが好ま
しい。In the present invention, the substituents R 1 , R 2 , and R 3 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the above general formula (T) are hydrogen atoms or Hammett's sigma value (σ Those in which p ) is negative are preferred.
【0071】フェニル置換におけるハメットのシグマ値
は多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ
ミストリー(Journal of Medical Chemistry)第20巻、
304頁、1977年、記載のC.ハンシュ(C.Hansch)
等の報文等に見ることが出来、とくに好ましい負のシグ
マ値を有する基としては、例えばメチル基(σp =−
0.17以下いずれもσp 値)エチル値(−0.1
5)、シクロプロピル基(−0.21)、n−プロピル
基(−0.13)、isoプロピル基(−0.15)、
シクロブチル基(−0.15)、n−ブチル基(−0.
16)、iso−ブチル基(−0.20)、n−ベンチ
ル基(−0.15)、シクロヘキシル基(−0.2
2)、アミノ基(−0.66)、アセチルアミノ基(−
0.15)、ヒドロキシル基(−0.37)、メトキシ
基(−0.27)、エトキシ基(−0.24)、プロポ
キシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.32)、ベ
ントキシ基(−0.34)等が挙げられ、これらはいず
れも本発明の一般式(T)の化合物の置換基として有用
である。Hammett's sigma value for phenyl substitution is well documented, eg, Journal of Medical Chemistry, Volume 20,
304, 1977, C.I. Hansch
And the like, and particularly preferred groups having a negative sigma value include, for example, a methyl group (σ p = −
All values below 0.17 are σ p values) ethyl values (-0.1
5), cyclopropyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), isopropyl group (-0.15),
Cyclobutyl group (-0.15), n-butyl group (-0.
16), iso-butyl group (-0.20), n-bentyl group (-0.15), cyclohexyl group (-0.2)
2), amino group (-0.66), acetylamino group (-
0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27), ethoxy group (-0.24), propoxy group (-0.25), butoxy group (-0.32), Examples thereof include a bentoxy group (-0.34), which are all useful as a substituent of the compound of the general formula (T) of the present invention.
【0072】nは、1あるいは2を表し、Xr n-で示さ
れるアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物イ
オン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫
酸、過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン
酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的には
p−トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベン
ゼンスルホン酸アニオン、p−ドデシルベンゼンスルホ
ン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニ
オン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル
硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸
系アニオン、ジ−2−エチルヘキシルスルホサクシネー
トアニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオ
ン、セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等のポ
リエーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステアリ
ン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリル酸
アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げるこ
とができる。N represents 1 or 2, and examples of the anion represented by X r n- are halogen ions such as chloride ion, bromide ion and iodide ion, and inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid and perchloric acid. Acid radicals, organic acid radicals such as sulfonic acid and carboxylic acid, anionic activators, specifically, lower alkylbenzene sulfonate anions such as p-toluene sulfonate anion and higher alkylbenzenes such as p-dodecylbenzene sulfonate anion. Higher alkyl sulfate ester anions such as sulfonate anion and lauryl sulfate anion, borate anions such as tetraphenylboron, dialkyl sulfosuccinate anions such as di-2-ethylhexyl sulfosuccinate anion, cetyl polyethenoxysulfate anions, etc. Polyether alcohol Ester anion, higher aliphatic acid such as stearic acid anion anion, those with a acid radical in a polymer of polyacrylic acid anion, and the like.
【0073】以下、一般式(T)で表される化合物の具
体例を下記に挙げるが、テトラゾリウム化合物はこれに
限定されるものではない。Specific examples of the compound represented by formula (T) are shown below, but the tetrazolium compound is not limited thereto.
【0074】[0074]
【化24】 Embedded image
【0075】上記テトラゾリウム化合物は、例えばケミ
カル・レビュー(Chemical Reviews)第55巻、第335
頁〜483頁に記載の方法にしたがって容易に合成する
ことができる。The above-mentioned tetrazolium compound is described in, for example, Chemical Reviews Vol. 55, 335.
The compound can be easily synthesized according to the method described on pages 483 to 483.
【0076】一般式(T)で表されるテトラゾリウム化
合物は1種を用いてもまた2種以上を適宜の比率で組み
合わせて用いてもよい。The tetrazolium compound represented by formula (T) may be used alone or in combination of two or more kinds at an appropriate ratio.
【0077】本発明に用いられるピリジニウム化合物及
びテトラゾリウム化合物は、ハロゲン化銀乳剤層側の層
ならば、どの層にも用いることができるが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に用いることが好ま
しい。また、添加量はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲ
ン組成、化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適
量は異なるが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10
-6〜10-1モルの範囲が好ましく、特に10-5〜10-2
モルの範囲が好ましい。The pyridinium compound and the tetrazolium compound used in the present invention can be used in any layer on the silver halide emulsion layer side, but are preferably used in the silver halide emulsion layer or its adjacent layer. Is preferred. The optimum amount to be added varies depending on the particle size of the silver halide grains, the halogen composition, the degree of chemical sensitization, the type of the inhibitor, and the like.
The range is preferably from -6 to 10 -1 mol, particularly from 10 -5 to 10 -2.
A molar range is preferred.
【0078】次に本発明で用いる一般式(II)で表わさ
れる、ハロゲン化銀吸着基と酸基を同時に有しかつ実質
的には可視域(より具体的には440nm以上の領域)に
吸収極大を持たない化合物について説明する。Next, the compound represented by the general formula (II) used in the present invention has a silver halide adsorbing group and an acid group at the same time and substantially absorbs in the visible region (more specifically, in the region of 440 nm or more). A compound having no maximum will be described.
【0079】一般式(II) C−L−DGeneral formula (II) C-L-D
【0080】Cはハロゲン化銀への吸着を促進する基を
表わし、Dは酸基を表わし、Lは二価の連結基を表わ
す。C represents a group that promotes adsorption to silver halide, D represents an acid group, and L represents a divalent linking group.
【0081】ここで、「実質的に可視光域に吸収極大を
持たない」化合物とは写真感光材料上の残色が実用上問
題のないレベル以下の色調をもつ化合物を意味し、より
詳しくは、現像処理後の残色が実用上問題のないレベル
以下の色調をもつ化合物である。Here, the compound "having substantially no absorption maximum in the visible light region" means a compound having a color tone such that the residual color on the photographic light-sensitive material is below a level at which there is no practical problem. The residual color after development is a compound having a color tone of a level below a level at which there is no practical problem.
【0082】好ましくは、上記化合物のメタノール中で
の吸収極大が460nm以下のもの、より好ましくは43
0nm以下のものである。Preferably, the absorption maximum of the above compound in methanol is 460 nm or less, more preferably 43.
It is less than 0 nm.
【0083】ハロゲン化銀への吸着基Cとしては、通常
用いられるものすべてを含むが、例えばチオアミド成分
を有する基、メルカプト基、複素環基、シアニンやメロ
シアニンなどの化合物から水素原子が1個離脱したラジ
カル体からなる基、さらにはこれらから選ばれる二つ以
上の組合せからなる基があげられる。The adsorbing group C to silver halide includes all those usually used, but for example, one hydrogen atom is desorbed from a compound having a thioamide component, a mercapto group, a heterocyclic group, a compound such as cyanine or merocyanine. Examples of the group include radical groups, and groups including a combination of two or more selected from these.
【0084】Cで表わされるチオアミド吸着促進基は、
−(C=S)−アミノ−で示されるような二価にチオア
ミド基を含むことを特徴とする。このチオアミド基は、
5ないし6員の複素環の一部であってもよい。有用なチ
オアミド吸着促進基は、常用のチオアミド吸着促進基、
例えば米国特許4,030,925号、同4,031,
127号、同4,080,207号、同4,245,0
37号、同4,255,511号、同4,266,01
3号及び同4,276,364号、ならびにリサーチ・
ディスクロージャー(Research Disclosure) 第151
巻、1976年11月、15,162項、ならびに同、
第170巻、1978年12月、17,626項に開示
されているものから選ぶことができる。The thioamide adsorption promoting group represented by C is
It is characterized by containing a divalent thioamide group as shown by-(C = S) -amino-. This thioamide group is
It may be part of a 5 to 6 membered heterocycle. A useful thioamide adsorption promoting group is a conventional thioamide adsorption promoting group,
For example, U.S. Pat. Nos. 4,030,925 and 4,031,
No. 127, No. 4,080,207, No. 4,245,0
No. 37, No. 4,255,511, No. 4,266,01
3 and 4,276,364, and research
Research Disclosure No. 151
Vol., November 1976, Item 15, 162, and ibid.
It can be selected from those disclosed in Volume 170, December 1978, Item 17,626.
【0085】特に好ましいチオアミド基は式(III)に示
されるものである。Particularly preferred thioamido groups are those of formula (III).
【0086】 一般式(III) R4 −E−(C=S)−E′−General formula (III) R 4 -E- (C = S) -E'-
【0087】式中、E及びE′の一方は−N(R5 )−
を表わし、他方は、−O−、−S−または、−N
(R6 )−を表わす。R4 は水素原子、脂肪族基もしく
は芳香族基を表わすか、またはEもしくはE′と共に5
員もしくは6員複素環を完成させる。EのR5 またはR
6 は水素原子、脂肪族基または芳香族基を表わす。E′
位のR5 及びR6 は、E′が芳香環に直接接合する場合
には、水素またはベンジル置換基を表わし、そうでない
場合にはE位の場合と同様な置換基から選ぶことができ
る。ただしR4 ,R5 及びR6 のうち少なくとも一つは
水素原子である。R4,R5 及びR6 の脂肪族基につい
ては、同じでも異なっていてもよく、炭素数1〜18個
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ヘキサデシ
ル基など)、炭素数2〜18個のアルケニル基(例えば
アリル基、2−ブテニル基など)、炭素数2〜18個の
アルキニル基(例えばプロパルギル基など)、炭素数3
〜12のシクロアルキル基(例えばシクロヘキシル基な
ど)などがあげられる。In the formula, one of E and E'is --N (R 5 )-
And the other is -O-, -S-, or -N.
(R 6) - represent. R 4 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group, or 5 together with E or E ′
Complete a 6-membered or 6-membered heterocycle. R 5 or R of E
6 represents a hydrogen atom, an aliphatic group or an aromatic group. E '
Positions R 5 and R 6 represent hydrogen or benzyl substituents when E ′ is directly attached to the aromatic ring, and can otherwise be selected from the same substituents as in the E position. However, at least one of R 4 , R 5 and R 6 is a hydrogen atom. The aliphatic groups of R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different and may be an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, hexadecyl group, etc.), 2 to 18 carbon atoms. Alkenyl groups (eg, allyl group, 2-butenyl group, etc.), C2-C18 alkynyl groups (eg, propargyl group), C3
To 12 cycloalkyl groups (eg, cyclohexyl group) and the like.
【0088】R4 ,R5 及びR6 の芳香族基について
は、同じでも異なっていてもよく、炭素数6〜20個の
もので、例えばフェニル基、ナフチル基などがあげられ
る。The aromatic groups represented by R 4 , R 5 and R 6 may be the same or different and have 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group and a naphthyl group.
【0089】R4 ,R5 及びR6 は、適当な置換基を有
してもよい。置換基としては例えば、アルキル基(好ま
しくは、炭素数1〜18個のもので、例えばメチル基、
エチル基、ヘキシル基、イソブチル基など)、アルケニ
ル基(好ましくは炭素数2〜18個のもので、例えばビ
ニル基、アリール基、ブチニル基など)、アルキニル基
(好ましくは炭素数2〜18個のもので、例えばエチニ
ル基、プロパルギル基、ブチニル基など)、アラルキル
基(好ましくは炭素数7〜20個のもので、例えばベン
ジル基など)、芳香族基(好ましくは炭素数6〜20個
のもので、例えばフェニル基、ナフチル基など)、ヒド
ロキシ基、脂肪族オキシ基(アルコキシ基、アルケニル
オキシ基、アルキニルオキシ基など;好ましくは炭素数
1〜18個のもので、例えばメトキシ基、エトキシ基、
アリールオキシ基、プロパルギルオキシ基、ブチニルオ
キシ基など)、芳香族オキシ基(好ましくは炭素数6〜
20個のもので、例えばフェニルオキシ基など)、ハロ
ゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど)、アミノ基、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜
18個のもので、例えばメチルアミノ基、ジメチルアミ
ノ基、ヘキシルアミノ基、フェニルアミノ基など)、脂
肪族チオ基(好ましくは炭素数1〜18個のもので、例
えばメチルチオ基、ヘキシルチオ基など)、芳香族チオ
基(好ましくは炭素数6〜20個のもので、例えばフェ
ニルチオ基など)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数
1〜18個のもので、例えばアセトキシ基、ベンゾキシ
基など)、スルホニルオキシ基(好ましくは炭素数1〜
18個のもので、例えばメタンスルホニルオキシ基、ト
ルエンスルホニルオキシ基など)、アシルアミノ基(好
ましくは、炭素数1〜18個のもので、例えばアセチル
アミノ基、ベンゾイルアミノ基など)、スルホニルアミ
ノ基(好ましくは炭素数1〜18個のもので、例えばメ
タンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基
など)、カルボキシル基、脂肪族オキシカルボニル基
(好ましくは炭素数1〜18個のもので、例えばメトキ
シカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基など)、芳
香族オキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20個
のもので、例えばフェノキシカルボニル基など)、アシ
ル基(好ましくは炭素数1〜20個のもので、例えばホ
ルミル基、アセチル基、ベンゾイル基など)、カルバモ
イル基、N−置換カルバモイル基(好ましくは炭素数2
〜20個のもので、例えばN−メチルカルバモイル基、
N−イソブチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモ
イル基など)、スルファモイル基、N−置換スルファモ
イル基(好ましくは炭素数1〜18個のもので、N−メ
チルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイ
ル基、N−ブチニルスルファモイル基、N−フェニルス
ルファモイル基など)、スルホ基、シアノ基、ウレイド
基、置換ウレイド基(好ましくは炭素数2〜20個のも
ので、例えば3−メチルウレイド基、3−アリルウレイ
ド基、3−フェニルウレイド基など)、置換ウレタン基
(好ましくは炭素数2〜20個のもので、例えばメトキ
シカルボニルアミノ基、シクロヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基など)、炭
酸エステル基(好ましくは、炭素数2〜20個のもの
で、例えばエトキシカルボニルオキシ基、オキシカルボ
ニルオキシ基、フェノキシカルボニルオキシ基など)ま
たは置換もしくは無置換のイミノ基(好ましくは炭素数
18個以下のもので、例えばN−メチルイミノ基、N−
フェニルイミノ基など)があげられる。R 4 , R 5 and R 6 may have a suitable substituent. As the substituent, for example, an alkyl group (preferably one having 1 to 18 carbon atoms, for example, a methyl group,
An ethyl group, a hexyl group, an isobutyl group, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 18 carbon atoms, for example, a vinyl group, an aryl group, a butynyl group, etc.), an alkynyl group (preferably having 2 to 18 carbon atoms) Such as ethynyl group, propargyl group, butynyl group), aralkyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, such as benzyl group), aromatic group (preferably having 6 to 20 carbon atoms) And, for example, phenyl group, naphthyl group, etc., hydroxy group, aliphatic oxy group (alkoxy group, alkenyloxy group, alkynyloxy group, etc.); preferably those having 1 to 18 carbon atoms, for example, methoxy group, ethoxy group,
Aryloxy group, propargyloxy group, butynyloxy group, etc.), aromatic oxy group (preferably having 6 to 6 carbon atoms)
20 groups, such as phenyloxy groups), halogen atoms (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), amino groups, substituted amino groups (preferably having 1 to 1 carbon atoms)
18 groups, such as methylamino group, dimethylamino group, hexylamino group, phenylamino group, etc., aliphatic thio groups (preferably having 1 to 18 carbon atoms, such as methylthio group, hexylthio group, etc.) An aromatic thio group (preferably having 6 to 20 carbon atoms such as phenylthio group), an acyloxy group (preferably having 1 to 18 carbon atoms such as acetoxy group, benzoxy group etc.), sulfonyloxy group Group (preferably having 1 to 1 carbon atoms)
18 groups, for example, methanesulfonyloxy group, toluenesulfonyloxy group, etc.), acylamino groups (preferably, those having 1 to 18 carbon atoms, such as acetylamino group, benzoylamino group, etc.), sulfonylamino groups ( Preferably, those having 1 to 18 carbon atoms, such as methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc., carboxyl group, aliphatic oxycarbonyl group (preferably those having 1 to 18 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group. , Butyloxycarbonyl group, etc.), aromatic oxycarbonyl group (preferably having 7 to 20 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group), acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, for example formyl Groups, acetyl groups, benzoyl groups, etc.), carbamoyl groups, N-substituted carboxylic groups. Bamoiru group (preferably 2 carbon atoms
~ 20, for example N-methylcarbamoyl group,
N-isobutylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group, N-substituted sulfamoyl group (preferably having 1 to 18 carbon atoms, N-methylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group) Moyl group, N-butynylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, etc.), sulfo group, cyano group, ureido group, substituted ureido group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, for example, 3-methyl Ureido group, 3-allylureido group, 3-phenylureido group, etc., substituted urethane group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, for example, methoxycarbonylamino group, cyclohexyloxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, etc.) ), A carbonic acid ester group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, such as ethoxy Ruboniruokishi group, oxycarbonyl group, phenoxy etc. aryloxycarbonyl group) or a substituted or unsubstituted imino group (preferably those of less than 18 carbon atoms, such as N- methylimino group, N-
Phenylimino group).
【0090】さらに上記置換基は、更にこれらの置換基
で置換されていてもよい。Further, the above substituents may be further substituted with these substituents.
【0091】E′位のR5 またはR6 は好ましくは水素
である。R 5 or R 6 at the E'position is preferably hydrogen.
【0092】E及びE′が共にアミノ基のときは、吸着
促進基はチオウレア基である。水素の他に特に好ましい
E位のR4 及びR5 またはR6 としては、置換アルキル
基、例えばアルコキシアルキル基(例えばメトキシエチ
ル基)、ハロアルキル基(例えばペルハロアルキル基
で、トリフルオロメチル基及び同族体を含む)、アラル
キル基(例えばフェニルアルキル基またはナフチルアル
キル基)ならびに未置換アルキル基(例えばメチル基、
ヘキシル基など)及びアリール基(例えばフェニル基、
ナフチル基、アルキルフェニル基、シアノフェニル基、
ハロフェニル基、アルコキシフェニル基など)などがあ
げられる。When both E and E'are amino groups, the adsorption promoting group is a thiourea group. In addition to hydrogen, particularly preferred R 4 and R 5 or R 6 at the E position are substituted alkyl groups such as alkoxyalkyl groups (eg methoxyethyl group), haloalkyl groups (eg perhaloalkyl group, trifluoromethyl group and homologues). ), Aralkyl groups (eg phenylalkyl groups or naphthylalkyl groups) and unsubstituted alkyl groups (eg methyl groups,
Hexyl group) and aryl groups (eg phenyl group,
Naphthyl group, alkylphenyl group, cyanophenyl group,
Halophenyl group, alkoxyphenyl group, etc.) and the like.
【0093】R4 ,R5 及びR6 は通常1〜18個の炭
素原子を含み、特に好ましい一形態において、8個また
はそれ以下の炭素原子を含むものである。R 4 , R 5 and R 6 usually contain from 1 to 18 carbon atoms, and in a particularly preferred form they contain 8 or less carbon atoms.
【0094】チオカルボニル基がオキシ基、例えばR4
−O−に結合する場合には、得られるきチオウレタン基
である。チオカルボニル基がチオ基、例えばR4 −S−
に結合する場合には、得られる基はジチオカルバマート
基である。E及びE′のうち、どちらかといえば、Eが
−O−または−S−である場合が一般に好ましい。更に
Eは−S−よりも−O−である方が、より好ましい。The thiocarbonyl group is an oxy group, for example R 4
When bonded to -O-, it is the resulting thiourethane group. The thiocarbonyl group is a thio group, for example R 4 —S—
When attached to, the resulting group is a dithiocarbamate group. If anything, among E and E ', it is generally preferred that E is -O- or -S-. Furthermore, E is more preferably -O- rather than -S-.
【0095】EまたはE′とR4 とが一緒になって複素
環を形成する場合、好ましくは5員または6員の環であ
る。When E or E'and R 4 together form a heterocycle, it is preferably a 5- or 6-membered ring.
【0096】E′とR4 とで形成される好ましい環はメ
ロシアニン色素において酸性核としてみられるものであ
り、例えば、4−チアゾリン−2−チオン、チアゾリジ
ン−2−チオン、4−オキサゾリン−2−チオン、オキ
サゾリジン−2−チオン、2−ピラゾリ−5−チオン、
4−イミダゾリン−2−チオン、2−チオヒダントイ
ン、ローダニン、イソローダニン、2−チオ−2,4−
オキサゾリジンジオン、チオパルピツール酸、1,3,
4−チアジアゾリン−2−チオン、及び1,3,4−オ
キサジアゾリン−2−チオンなどがあげられる。これら
は更にR4 で述べた適当な置換基で置換されていてもよ
い。Preferred rings formed by E'and R 4 are those found as acidic nuclei in merocyanine dyes, such as 4-thiazolin-2-thione, thiazolidine-2-thione, 4-oxazoline-2-. Thione, oxazolidine-2-thione, 2-pyrazoli-5-thione,
4-imidazoline-2-thione, 2-thiohydantoin, rhodanine, isorhodanine, 2-thio-2,4-
Oxazolidinedione, thioparpituric acid, 1,3
4-thiadiazoline-2-thione, 1,3,4-oxadiazoline-2-thione and the like can be mentioned. These may be further substituted with the appropriate substituents described for R 4 .
【0097】EとR4 とが一緒になって複素環を形成す
る場合については、後に述べるCの複素環と同様なもの
があげられる。好ましい例としては更にピロール、ピロ
リン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、ピペラジ
ン及びインドールなどがあげられる。When E and R 4 are combined to form a heterocycle, the same as the heterocycle of C described later can be mentioned. Preferable examples further include pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, piperidine, morpholine, piperazine and indole.
【0098】Cのメルカプト基としては、脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基またはヘテロ基メルカプト
基(この場合、SH基が結合する炭素の隣りは窒素原子
ではない)があげられる。Examples of the mercapto group of C include an aliphatic mercapto group, an aromatic mercapto group and a hetero group mercapto group (in this case, the nitrogen atom is not adjacent to the carbon to which the SH group is bonded).
【0099】脂肪族メルカプト基としては、例えば、メ
ルカプトアルキル基(例えばメルカプトエチル基やメル
カプトプロピル基など)、メルカプトアルケニル基(例
えばメルカプトプロペニル基など)及びメルカプトアル
キニル基(例えばメルカプトブチニル基など)があげら
れる。芳香族メルカプト基としては、例えばメルカプト
フェニル基やメルカプトナフチル基があげられる。ヘテ
ロ環メルカプト基の例としては、例えば4−メルカプト
ピリジン基、5−メルカプトキノリニル基、6−メルカ
プトベンゾチアゾリル基などがあげられる。Examples of the aliphatic mercapto group include a mercaptoalkyl group (eg, mercaptoethyl group and mercaptopropyl group), a mercaptoalkenyl group (eg, mercaptopropenyl group) and a mercaptoalkynyl group (eg, mercaptobutynyl group). can give. Examples of the aromatic mercapto group include a mercaptophenyl group and a mercaptonaphthyl group. Examples of the heterocyclic mercapto group include 4-mercaptopyridine group, 5-mercaptoquinolinyl group, 6-mercaptobenzothiazolyl group and the like.
【0100】Cの複素環基としては、窒素、酸素、硫黄
と炭素の組合せからなる5員ないし6員の複素環があげ
られる。好ましい複素環の例としては、例えば、ベンゾ
トリアゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾ
ール、ベンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチア
ゾール、チアゾール、ベンゾオキサゾール、オキサゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、トリアジンな
どがあげられる。これらの複素環は適当な置換基を有し
てもよい。置換基としては、R4 の置換基として述べた
ものがあげられる。Examples of the heterocyclic group of C include a 5-membered to 6-membered heterocyclic ring composed of a combination of nitrogen, oxygen, sulfur and carbon. Examples of preferable heterocycles include benzotriazole, triazole, tetrazole, indazole, benzimidazole, imidazole, benzothiazole, thiazole, benzoxazole, oxazole, thiadiazole, oxadiazole and triazine. These heterocycles may have a suitable substituent. As the substituent, those mentioned as the substituent of R 4 can be mentioned.
【0101】複素環としては好ましくはベンゾトリアゾ
ール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾールであ
り、特に好ましくはベンゾトリアゾール及びインダゾー
ルである。The heterocycle is preferably benzotriazole, triazole, tetrazole or indazole, and particularly preferably benzotriazole or indazole.
【0102】複素環基として好ましい具体例をあげる
と、例えばエンゾトリアゾール−5−イル、6−クロロ
ベンゾトリアゾール−5−イル、ベンゾトリアゾール−
5−カルボニル、5−フェニル−1,3,4−トリアゾ
ール−2−イル、4−(5−メチル−1,3,4−トリ
アゾール−2−イル)ベンゾイル、1H−テトラゾール
−5−イル及び3−シアノインダゾール−5−イルなど
があげられる。Specific preferred examples of the heterocyclic group include enzotriazol-5-yl, 6-chlorobenzotriazol-5-yl and benzotriazole-.
5-carbonyl, 5-phenyl-1,3,4-triazol-2-yl, 4- (5-methyl-1,3,4-triazol-2-yl) benzoyl, 1H-tetrazol-5-yl and 3 -Cyanoindazol-5-yl and the like can be mentioned.
【0103】Cで表わされる前述のシアニンやメロシア
ニンなどの化合物のラジカル体からなる基に用いられる
ものとしては、実質的に可視域に吸収極大を持たないも
のであり、例えばモノメチンシアニンやアポメロシアニ
ン等から選ばれる。更に具体的には、一般式(IV)で表わ
されるシアニンや、一般式(V) で表わされるメロシアニ
ンから選ばれる。The radicals of the above-mentioned compounds such as cyanine and merocyanine represented by C are those having substantially no absorption maximum in the visible region, and examples thereof include monomethinecyanine and apomerocyanine. Etc. are selected. More specifically, it is selected from cyanine represented by the general formula (IV) and merocyanine represented by the general formula (V).
【0104】ここで、上述のモノメチンシアニン、アポ
メロシアニン更に、一般式(IV)で示されるシアニン、
一般式(V)で示されるメロシアニンは通常ハロゲン化
銀乳剤に対する広義の分光増感色素として知られている
ものが多く存在するが、実質的に可視域に吸収極大を有
しない化合物であるから、本発明に有効に用いられる。Here, the above-mentioned monomethinecyanine, apomerocyanine, and the cyanine represented by the general formula (IV),
Many merocyanines represented by the general formula (V) are generally known as spectral sensitizing dyes in a broad sense for silver halide emulsions, but since they are compounds that do not substantially have an absorption maximum in the visible region, It is effectively used in the present invention.
【0105】[0105]
【化25】 Embedded image
【0106】Z41及びZ42は各々ベンゾオキサゾール
核、ベンゾチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフ
トオキサゾール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナ
ゾール核、チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール
核、セレナゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核又は
キノリン核を完成するに必要な非金属原子群を表わす。
R41及びR42は各々アルキル基またはアラルキル基を表
わす。X4 は電荷バランス対イオンであり、nは0又は
1を表わす。Z 41 and Z 42 are benzoxazole nucleus, benzothiazole nucleus, benzoselenazole nucleus, naphthoxazole nucleus, naphthothiazole nucleus, naphthoselenazole nucleus, thiazole nucleus, thiazoline nucleus, oxazole nucleus, selenazole nucleus and selenazoline nucleus, respectively. , Represents a non-metal atomic group necessary for completing a pyridine nucleus or a quinoline nucleus.
R 41 and R 42 each represent an alkyl group or an aralkyl group. X 4 is a charge balance counter ion, and n represents 0 or 1.
【0107】ここで、一般式(IV)がラジカル体となる
場合には、好ましくは、Z41,Z42で示される原子群ま
たはR41,R42に示される基から水素原子が1個離脱し
たものであり、特にR41,R42から水素原子が1個離脱
したものが好ましい。Here, when the general formula (IV) is a radical, it is preferable that one hydrogen atom be desorbed from the atom group represented by Z 41 or Z 42 or the group represented by R 41 or R 42. It is preferable that one hydrogen atom be removed from R 41 and R 42 .
【0108】また、一般式(IV)において、置換基とし
て酸基を有したもの(例えばR41,R42が酸基を有した
アルキル基またはアラルキル基)においては、それ自体
が一般式(II)で示される化合物となりうる。Further, in the general formula (IV), those having an acid group as a substituent (for example, R 41 and R 42 are alkyl groups or aralkyl groups having an acid group) are themselves represented by the general formula (II ).
【0109】一般式(IV)において、Z41及びZ42で形
成される複素環として好ましくはベンゾオキサゾール
核、ベンゾチアゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフ
トチアゾール核、チアゾール核、またはオキサゾール核
であり、更に好ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベン
ゾチアゾール核、またはナフトオキサゾール核であり、
最も好ましくは、ベンゾオキサゾール核またはナフトオ
キサゾール核である。一般式(IV)において、Z41又は
Z42で形成される複素環は少くとも一つの置換基で置換
されていてもよく、その置換基としてはハロゲン原子
(例えば弗素、塩素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキ
ル基(好ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメチル
基、エチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フ
ェネチル基)、アリール基(例えばフェニル基)、アル
コキシ基(好ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基)、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭
素数2〜5のもの、例えばエトキシカルボニル基)、ヒ
ドロキシ基、シアノ基等を挙げる事ができる。In the general formula (IV), the heterocyclic ring formed by Z 41 and Z 42 is preferably a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, a naphthoxazole nucleus, a naphthothiazole nucleus, a thiazole nucleus or an oxazole nucleus, and Preferably, a benzoxazole nucleus, a benzothiazole nucleus, or a naphthoxazole nucleus,
Most preferably, it is a benzoxazole nucleus or a naphthoxazole nucleus. In formula (IV), the heterocycle formed by Z 41 or Z 42 may be substituted with at least one substituent, and the substituent may be a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine). , Nitro group, alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, phenethyl group), aryl group (eg phenyl group), alkoxy group (preferably carbon) Those having a number of 1 to 4, such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group), carboxyl group, alkoxycarbonyl group (preferably having a carbon number of 2 to 5, such as ethoxycarbonyl group), hydroxy group, cyano group, etc. Can be mentioned.
【0110】一般式(IV) でZ41及びZ42に関し、ベン
ゾチアゾール核としては、例えばベンゾチアゾール、4
−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾー
ル、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチ
アゾール、5−ニトロベンゾチアゾール、4−メチルベ
ンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メ
チルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、
6−ブロモベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾ
ール、5−フェニルベンゾチアゾール、5−メトキシベ
ンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−
エトキシベンゾチアゾール、5−プロポキシベンゾチア
ゾール、5−カルボキシベンゾチアゾール、5−エトキ
シカルボニルベンゾチアゾール、5−フェネチルベンゾ
チアゾール、5−フルオロベンゾチアゾール、5−クロ
ロ−6−メチルベンゾチアゾール、5−トリフルオロメ
チルベンゾチアゾール、5,6−ジメチルベンゾチアゾ
ール、5−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾール、
などを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフト
〔2,1−d〕チアゾール、ナフト〔1,2−d〕チア
ゾール、ナフト〔2,3−d〕チアゾール、5−メトキ
シナフト〔1,2−d〕チアゾール、7−エトキシナフ
ト〔1,2−d〕チアゾール、5−メトキシナフト
〔2,3−d〕チアゾール、などを、ベンゾセレナゾー
ル核としては例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロ
ベンゾセレナゾール、5−ニトロベンゾセレナゾール、
5−メトキシベンゾセレナゾール、5−エトキシベンゾ
セレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、5
−クロロ−6−メチルベンゾセレナゾール、などを、ナ
フトセレナゾール核としては例えば、ナフト〔1,2−
d〕セレナゾール、ナフト〔2,1−d〕セレナゾール
などを、チアゾール核としては例えば、チアゾール核、
4−メチルチアゾール核、4−フェニルチアゾール核、
4,5−ジメチルチアゾール核、4,5−ジフェニルチ
アゾール核、などを、チアゾリン核として例えば、チア
ゾリン核、4−メチルチアゾリン核などが挙げられる。Regarding Z 41 and Z 42 in the general formula (IV), the benzothiazole nucleus is, for example, benzothiazole or 4
-Chlorobenzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7-chlorobenzothiazole, 5-nitrobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromo Benzothiazole,
6-bromobenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole, 5-methoxybenzothiazole, 6-methoxybenzothiazole, 5-
Ethoxybenzothiazole, 5-propoxybenzothiazole, 5-carboxybenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, 5-phenethylbenzothiazole, 5-fluorobenzothiazole, 5-chloro-6-methylbenzothiazole, 5-trifluoromethyl Benzothiazole, 5,6-dimethylbenzothiazole, 5-hydroxy-6-methylbenzothiazole,
Examples of the naphthothiazole nucleus include naphtho [2,1-d] thiazole, naphtho [1,2-d] thiazole, naphtho [2,3-d] thiazole, 5-methoxynaphtho [1,2-d]. ] Thiazole, 7-ethoxynaphtho [1,2-d] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,3-d] thiazole, and the like, and examples of the benzoselenazole nucleus include benzoselenazole and 5-chlorobenzoselenazole. , 5-nitrobenzoselenazole,
5-methoxybenzoselenazole, 5-ethoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, 5
-Chloro-6-methylbenzoselenazole and the like can be used as the naphthoselenazole nucleus, for example, naphtho [1,2-
Examples of the thiazole nucleus include d] selenazole, naphtho [2,1-d] selenazole, and the like.
4-methylthiazole nucleus, 4-phenylthiazole nucleus,
Examples of thiazoline nuclei such as 4,5-dimethylthiazole nuclei and 4,5-diphenylthiazole nuclei include thiazoline nuclei and 4-methylthiazoline nuclei.
【0111】一般式(IV)においてZ41及びZ42に関
し、ベンゾオキサゾール核としては例えば、ベンゾオキ
サゾール核、5−クロロベンゾオキサゾール核、5−メ
チルベンゾオキサゾール核、5−ブロモベンゾオキサゾ
ール核、5−フルオロベンゾオキサゾール核、5−フェ
ニルベンゾオキサゾール核、5−メトキシベンゾオキサ
ゾール核、5−エトキシベンゾオキサゾール核、5−ト
リフルオロメチルベンゾオキサゾール核、5−ヒドロキ
シベンゾオキサゾール核、5−カルボキシベンゾオキサ
ゾール核、6−メチルベンゾオキサゾール核、6−クロ
ロベンゾオキサゾール核、6−メトキシベンゾオキサゾ
ール核、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール核、5,6
−ジメチルベンゾオキサゾール核などを、ナフトオキサ
ゾール核としては例えば、ナフト〔2,1−d〕オキサ
ゾール核、ナフタ〔2,1−d〕オキサゾール核、ナフ
ト〔2,3−d〕オキサゾール核、5−メトキシナフト
〔1,2−d〕オキサゾール核、などを挙げる事ができ
る。Regarding Z 41 and Z 42 in the general formula (IV), examples of the benzoxazole nucleus include a benzoxazole nucleus, a 5-chlorobenzoxazole nucleus, a 5-methylbenzoxazole nucleus, a 5-bromobenzoxazole nucleus, and a 5-bromobenzoxazole nucleus. Fluorobenzoxazole nucleus, 5-phenylbenzoxazole nucleus, 5-methoxybenzoxazole nucleus, 5-ethoxybenzoxazole nucleus, 5-trifluoromethylbenzoxazole nucleus, 5-hydroxybenzoxazole nucleus, 5-carboxybenzoxazole nucleus, 6 -Methylbenzoxazole nucleus, 6-chlorobenzoxazole nucleus, 6-methoxybenzoxazole nucleus, 6-hydroxybenzoxazole nucleus, 5,6
A naphtho [2,1-d] oxazole nucleus, a naphtha [2,1-d] oxazole nucleus, a naphtho [2,3-d] oxazole nucleus, 5- Methoxynaphtho [1,2-d] oxazole nucleus and the like can be mentioned.
【0112】更にZ41及びZ42に関し、オキサゾール核
としては例えば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾ
ール核、4−エチルオキサゾール核、4−フェニルオキ
サゾール核、4−ベンジルオキサゾール核、4−メトキ
シオキサゾール核、4,5−ジメチルオキサゾール核、
5−フェニルオキサゾール核又は4−メトキシオキサゾ
ール核などを、ピリジン核としては例えば2−ピリジン
核、4−ピリジン核、5−メチル−2−ピリジン核、3
−メチル−4−ピリジン核などを、又キノリン核として
例えば、2−キノリン核、4−キノリン核、3−メチル
−2−キノリン核、5−エチル−2−キノリン核、6−
メチル−2−キノリン核、8−フルオロ−4−キノリン
核、8−クロロ−2−キノリン核、8−フルオロ−2−
キノリン核、6−メトキシ−2−キノリン核、6−エト
キシ−4−キノリン核、8−クロロ−4−キノリン核、
8−メチル−4−キノリン核、8−メトキシ−4−キノ
リン核などを挙げる事ができる。Further with respect to Z 41 and Z 42 , examples of the oxazole nucleus include an oxazole nucleus, 4-methyloxazole nucleus, 4-ethyloxazole nucleus, 4-phenyloxazole nucleus, 4-benzyloxazole nucleus, 4-methoxyoxazole nucleus, 4,5-dimethyloxazole nucleus,
Examples of a 5-phenyloxazole nucleus or a 4-methoxyoxazole nucleus include pyridine nuclei such as a 2-pyridine nucleus, a 4-pyridine nucleus, a 5-methyl-2-pyridine nucleus,
-Methyl-4-pyridine nucleus and the like, and as a quinoline nucleus, for example, 2-quinoline nucleus, 4-quinoline nucleus, 3-methyl-2-quinoline nucleus, 5-ethyl-2-quinoline nucleus, 6-
Methyl-2-quinoline nucleus, 8-fluoro-4-quinoline nucleus, 8-chloro-2-quinoline nucleus, 8-fluoro-2-
Quinoline nucleus, 6-methoxy-2-quinoline nucleus, 6-ethoxy-4-quinoline nucleus, 8-chloro-4-quinoline nucleus,
Examples thereof include 8-methyl-4-quinoline nucleus and 8-methoxy-4-quinoline nucleus.
【0113】一般式(IV)において、R41及びR42で表
わされるアルキル基は無置換及び置換基を含み、無置換
アルキル基としては、炭素原子の数が18以下、特に8
以下が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n−プロ
ピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクタデ
シル基などがあげられる。また、置換アルキル基として
は、アルキル部分の炭素原子の数が6以下のものが好ま
しく、特に炭素原子の数が4以下のものが好ましく、例
えば、スルホ基で置換されたアルキル基(スルホ基はア
ルコキシ基やアリール基等を介して結合していてもよ
い。例えば2−スルホエチル基、3−スルホプロピル
基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2−
(−3−スルホプロポキシ)エチル基、2−〔2−(3
−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−ヒドロ
キシ−3−スルホプロピル基、p−スルホフェネチル
基、p−スルホフェニルプロピル基など)カルボキシ基
で置換されたアルキル基(カルボキシ基はアルコキシ基
やアリール基等を介して結合してもよい。例えば、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボ
キシプロピル基、4−カルボキシブチル基、など)、ヒ
ドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル
基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、アシロキシア
ルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基、3−アセ
トキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基(例え
ば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、な
ど)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えば、2−
メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル
プロピル基、4−エトキシカルボニルブチル基、な
ど)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル基)、シ
アノアルキル基(例えば2−シアノエチル基など)、カ
ルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイルエチル
基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2−フェノ
キシエチル基、3−フェノキシプロピル基など)、アラ
ルキル基(例えば2−フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基など)、又はアリーロキシアルキル基(例えば2
−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基な
ど)などがあげられる。In the general formula (IV), the alkyl group represented by R 41 and R 42 includes an unsubstituted group and a substituent, and the unsubstituted alkyl group has 18 or less carbon atoms, particularly 8 carbon atoms.
The following are preferable, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-hexyl group, and an n-octadecyl group. The substituted alkyl group preferably has 6 or less carbon atoms in the alkyl moiety, and particularly preferably 4 or less carbon atoms. For example, an alkyl group substituted with a sulfo group (a sulfo group is They may be bonded via an alkoxy group, an aryl group, etc. For example, 2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2-
(-3-Sulfopropoxy) ethyl group, 2- [2- (3
-Sulfopropoxy) ethoxy] ethyl group, 2-hydroxy-3-sulfopropyl group, p-sulfophenethyl group, p-sulfophenylpropyl group, etc.) Alkyl group substituted with a carboxy group (wherein the carboxy group is an alkoxy group or an aryl group) And the like, for example, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, etc.), hydroxyalkyl group (eg, 2-hydroxyethyl group, 3 -Hydroxypropyl group, etc.), acyloxyalkyl group (eg, 2-acetoxyethyl group, 3-acetoxypropyl group, etc.), alkoxyalkyl group (eg, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, etc.), alkoxy Carbonylalkyl group (for example, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonylpropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc.), vinyl group-substituted alkyl group (eg, allyl group), cyanoalkyl group (eg, 2-cyanoethyl group), carbamoylalkyl group (eg, 2-carbamoylethyl group, etc.), aryloxyalkyl group (eg, 2-phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.), aralkyl group (eg, 2-phenethyl group, 3-phenylpropyl group, etc.), or aryloxyalkyl group. (Eg 2
-Phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.) and the like.
【0114】R41,R42で示される置換基としては、特
に、少なくとも一方がスルホ基もしくはカルボキシル基
を有したアルキル基であることが好ましい。It is particularly preferable that at least one of the substituents represented by R 41 and R 42 is an alkyl group having a sulfo group or a carboxyl group.
【0115】電荷バランス対イオンX4 は、複素環中に
四級アンモニウム塩で生じた正電荷を相殺することがで
きる任意の陰イオンであり、例えば、臭素イオン、塩素
イオン、沃素イオン、p−トルエンスルホン酸イオン、
エチルスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸イオン、チオシアンイオンなどであ
る。この場合nは1である。The charge balance counter ion X 4 is any anion capable of canceling out the positive charge generated by the quaternary ammonium salt in the heterocycle, and examples thereof include bromide ion, chloride ion, iodine ion and p- ion. Toluene sulfonate ion,
Examples thereof include ethyl sulfonate ion, perchlorate ion, trifluoromethane sulfonate ion, and thiocyanate ion. In this case, n is 1.
【0116】複素環四級アンモニウム塩がさらにスルホ
アルキル置換基のような陰イオン置換基を含む場合は、
塩はベタインの形をとることができ、その場合には対イ
オンは必要なく、nは0である。複素環四級アンモニウ
ム塩が2個の陰イオン置換基、たとえば2個のスルホア
ルキル基を有する場合には、X4 は陽イオン性対イオン
であり、例えあアルカリ金属イオン(ナトリウムイオ
ン、カリウムイオンなど)やアンモニウム塩(トリエチ
ルアンモニウムなど)などがあげられる。When the heterocyclic quaternary ammonium salt further contains an anionic substituent such as a sulfoalkyl substituent,
The salt may take the form of betaine, in which case no counterion is needed and n is 0. When the heterocyclic quaternary ammonium salt has two anion substituents, for example two sulfoalkyl groups, X 4 is a cationic counterion, such as an alkali metal ion (sodium ion, potassium ion). Etc.) and ammonium salts (such as triethylammonium).
【0117】[0117]
【化26】 Embedded image
【0118】Z5 はチアゾリン核、チアゾリジン核、セ
レナゾリン核、セレナゾリジン核、ピロリジン核、ジヒ
ドロピリジン核、オキサゾリン核、オキサゾリジン核、
イミダゾリン核、インドリン核、テトラゾリン核、ベン
ゾチアゾリン核、ベンゾセレナゾリン核、ベンズイミダ
ゾリン核、ベンズオキサゾリン核、ナフトチアゾリン
核、ナフトセレナゾリン核、ナフタオキサゾリン核、ナ
フトイミダゾリン核又はジヒドロキシノリン核を完成す
るのに必要な非金属原子群を表わす。Qはローダニン
核、2−チオオキサゾリン−2,4−ジオン核、2−チ
オセレナゾリン−2,4−ジオン核、2−チオヒダント
イン核、バルビツール酸核又は2−チオバルツビール酸
核を完成するに必要な非金属原子群を表わす。R51及び
R52は各々水素原子、アルキル基、又はアリール基を表
わす。Z 5 is a thiazoline nucleus, thiazolidine nucleus, selenazoline nucleus, selenazolidine nucleus, pyrrolidine nucleus, dihydropyridine nucleus, oxazoline nucleus, oxazolidine nucleus,
To complete the imidazoline nucleus, indoline nucleus, tetrazoline nucleus, benzothiazoline nucleus, benzoselenazoline nucleus, benzimidazoline nucleus, benzoxazoline nucleus, naphthothiazoline nucleus, naphthoselenazoline nucleus, naphthaloxazoline nucleus, naphthimidazoline nucleus or dihydroxynoline nucleus Represents a group of non-metal atoms required for. Q is to complete a rhodamine nucleus, a 2-thiooxazoline-2,4-dione nucleus, a 2-thioselenazoline-2,4-dione nucleus, a 2-thiohydantoin nucleus, a barbituric acid nucleus or a 2-thiobarzbyric acid nucleus. Represents the necessary non-metallic atomic group. R 51 and R 52 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
【0119】pは0又は1を表わす。P represents 0 or 1.
【0120】ここで、一般式(V)の化合物がラジカル
体となる場合には、好ましくは、Z5 ,Qで示される原
子群またはR51,R52に示される基から水素原子が1個
離脱したものであり、特にR51,R52から水素原子が1
個離脱したものが好ましい。Here, when the compound of the general formula (V) is in the form of a radical, preferably, one hydrogen atom is selected from the group of atoms represented by Z 5 and Q or the groups represented by R 51 and R 52. It has been released, and in particular 1 hydrogen atom from R 51 and R 52.
Those separated from each other are preferable.
【0121】また一般式(V)において、置換基として
酸基を有した化合物(例えばR51,R52が酸基を有した
アルキル基またはアラルキル基)においては、それ自体
が一般式(II)で示される化合物となりうる。In the compound of the general formula (V) having an acid group as a substituent (for example, R 51 and R 52 are an alkyl group or an aralkyl group having an acid group), the compound itself has the general formula (II). Can be a compound represented by.
【0122】ここで、Z5 は、各々チアゾリン核(例え
ば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4−フェニル
チアゾリン、4,5−ジメチルチアゾリン、4,5−ジ
フェニルチアゾリンなど)、ベンゾチアゾリン核(例え
ば、ベンゾチアゾリン、4−クロロベンゾチアゾリン、
5−クロロベンゾチアゾリン、6−クロロベンゾチアゾ
リン、7−クロロベンゾチアゾリン、5−ニトロベンゾ
チアゾリン、6−ニトロベンゾチアゾリン、4−メチル
ベンゾチアゾリン、5−メチルベンゾチアゾリン、6−
メチルベンゾチアゾリン、5−ブロモベンゾチアゾリ
ン、6−ブロモベンゾチアゾリン、5−ヨードベンゾチ
アゾリン、5−メトキシベンゾチアゾリン、6−メトキ
シベンゾチアゾリン、5−エトキシベンゾチアゾリン、
5−プロポキシベンゾチアゾリン、5−ブトキシベンゾ
チアゾリン、5−カルボキシベンゾチアゾリン、5−エ
トキシカルボニルベンゾチアゾリン、5−フェネチルベ
ンゾチアゾリン、5−フロオロベンゾチアゾリン、5−
クロロ−6−メチルベンゾチアゾリン、5−トリフルオ
ロメチルベンゾチアゾリン、5,6−ジメチルベンゾチ
アゾリン、5−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾリ
ン、テトラヒドロベンゾチアゾリン、4−フェニルベン
ゾチアゾリン、5−フェニルベンゾチアゾリン、な
ど)、ナフトチアゾリン核(例えば、ナフト〔2,1−
d〕チアゾリン、ナフト〔1,2−d〕チアゾリン、ナ
フト〔2,3−d〕チアゾリン、5−メトキシナフト
〔1,2−d〕チアゾリン、7−エトキシナフト〔2,
1−d〕チアゾリン、8−メトキシナフト〔2,1−
d〕チアゾリン、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チ
アゾリンなど)、チアゾリジン核(例えばチアゾリジ
ン、4−メチルチアゾリジン、4−ニトロチアゾリジン
など)、オキサゾリン核(例えば、オキサゾリン、4−
メチルオキサゾリン、4−ニトロオキサゾリン、5−メ
チルオキサゾリン、4−フェニルオキサゾリン、4,5
−ジフェニルオキサゾリン、4−エチルオキサゾリンな
ど)、ベンズオキサゾリン核(ベンズオキサゾリン、5
−クロロベンズオキサゾリン、5−メチルベンズオキサ
ゾリン、5−ブロモベンズオキサゾリン、5−フルオロ
ベンズオキサゾリン、5−フェニルベンズオキサゾリ
ン、5−メトキシベンズオキサゾリン、5−ニトロベン
ズオキサゾリン、5−トリフルオロメチルベンズオキサ
ゾリン、5−ヒドロキシベンズオキサゾリン、5−カル
ボキシベンズオキサゾリン、6−メチルベンズオキサゾ
リン、6−クロロベンズオキサゾリン、6−ニトロベン
ズオキサゾリン、6−メトキシベンズオキサゾリン、6
−ヒドロキシベンズオキサゾリン、5,6−ジメチルベ
ンズオキサゾリン、5−エトキシベンズオキサゾリンな
ど)、ナフトオキサゾリン核(例えば、ナフト〔2,1
−d〕オキサゾリン、ナフト〔1,2−d〕オキサゾリ
ン、ナフト〔2,3−d〕オキサゾリン、5−ニトロナ
フト〔1,2−d〕オキサゾリンなど)、オキサゾリジ
ン核(例えば4,4−ジメチルオキサゾリジンなど)、
セレナゾリン核(例えば、4−メチルセレナゾリン、4
−ニトロセレナゾリン、4−フェニルセレナゾリンな
ど)、セレナゾリジン核(例えばセレナゾリジン、4−
メチルセレナゾリジン、4−フェニルセレナゾリジンな
ぞ)、ベンゾセレナゾリン核(例えば、ベンゾセレナゾ
リン、5−クロルベンゾセレナゾリン、5−ニトロベン
ゾセレナゾリン、5−メトキシベンゾセレナゾリン、5
−ヒドロキシベンゾセレナゾリン、6−ニトロベンゾセ
レナゾリン、5−クロル−6−ニトロベンゾセレナゾリ
ンなぞ)、ナフトセレナゾリン核(例えば、ナフト
〔2,1−d〕セレナゾリン、ナフト〔1,2−d〕セ
レナゾリンなど)、3,3−ジアルキルインドリン核
(例えば3,3−ジメチルインドリン、3,3−ジエチ
ルインドリン、3,3−ジメチル−5−ジアノインドリ
ン、3,3−ジメチル−6−ニトロインドリン、3,3
−ジメチル−5−ニトロインドリン、3,3−ジメチル
−5−メトキシインドリン、3,3−ジメチル−5−メ
チルインドリン、3,3−ジメチル−5−クロルインド
リンなど)、イミダゾリン核(例えば、1−アルキルイ
ミダゾリン、1−アルキル−4−フェニルイミダゾリ
ン、1−アリールイミダゾリンなど)、ベンズイミダゾ
リン核(例えば1−アリキルベンズイミダゾリン、1−
アルキル−5−クロロベンズイミダゾリン、1−アルキ
ル−5,6−ジクロロ−ベンズイミダゾリン、1−アル
キル−5−メトキシベンズイミダゾリン、1−アルキル
−5−シアノベンズイミダゾリン、1−アルキル−5−
フルオロベンズイミダゾリン、1−アルキル−5−トリ
フルオロメチルベンズイミダゾリン、1−アリル−5,
6−ジクロロベンズイミダゾリン、1−アリル−5−ク
ロロベンズイミダゾリン、1−アリールベンズイミダゾ
リン、1−アリール−5−クロロベンズイミダゾリン、
1−アリール−5,6−ジクロロベンズイミダゾリン、
1−アリール−5−メトキシベンズイミダゾリン、1−
アリール−5−シアノベンズイミダゾリンなど)、ナフ
トイミダゾリン核(例えば、1−アルキルナフト〔1,
2−d〕イミダゾリン、1−アリールナフト〔1,2−
d〕イミダゾリンなど)、前述のアルキルは特に炭素原
子1〜8のもの、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル等の無置換アルキル基やヒドロキ
シアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、3−
ヒドロキシプロピル等)等が望ましい。前述のアリール
基は、フェニル、ハロゲン(例えばクロル)置換フェニ
ル、アルキル(例えばメチル)置換フェニル、アルコキ
シ(例えばメトキシ)置換フェニルなどを表わす。)、
ピロリジン核(例えば2−ピロリジンなど)、ジヒドロ
ピリジン核(例えば1,4−ジヒドロピリジン、5−メ
チル−1,2−ジヒドロピリジン、3−メチル−1,4
−ジヒドロピリジンなど)、ジヒドロキノリン核(例え
ば、1,4−ジヒドロキノリン、3−メチル−1,2−
ジヒドロキノリン、5−エチル−1,2−ジヒドロキノ
リン、6−メチル−1,2−ジヒドロキノリン、6−ニ
トロ−1,2−ジヒドロキノリン、8−フルオロ−1,
2−ジヒドロキノリン、6−メトキシ−1,2−ジヒド
ロキノリン、6−ヒドロキシ−1,2−ジヒドロキノリ
ン、8−クロロ−1,2−ジヒドロキノリン、6−エト
キシ−1,4−ジヒドロキノリン、6−ニトロ−1,4
−ジヒドロキノリン、8−クロロ−1,4−ジヒドロキ
ノリン、8−フルオロ−1,4−ジヒドロキノリン、8
−メチル−1,4−ジヒドロキノリン、8−メトキシ−
1,4−ジヒドロキノリン、ジヒドロイソキノリン、6
−ニトロ−1,2−イソキノリン、6−ヒトロ−2,3
−ジヒドロイソキノリンなど)、テトラゾリン核をそれ
ぞれ完成するのに必要な非金属原子群を表わす。Here, Z 5 is a thiazoline nucleus (eg, thiazoline, 4-methylthiazoline, 4-phenylthiazoline, 4,5-dimethylthiazoline, 4,5-diphenylthiazoline, etc.) and a benzothiazoline nucleus (eg, Benzothiazoline, 4-chlorobenzothiazoline,
5-chlorobenzothiazoline, 6-chlorobenzothiazoline, 7-chlorobenzothiazoline, 5-nitrobenzothiazoline, 6-nitrobenzothiazoline, 4-methylbenzothiazoline, 5-methylbenzothiazoline, 6-
Methylbenzothiazoline, 5-bromobenzothiazoline, 6-bromobenzothiazoline, 5-iodobenzothiazoline, 5-methoxybenzothiazoline, 6-methoxybenzothiazoline, 5-ethoxybenzothiazoline,
5-propoxybenzothiazoline, 5-butoxybenzothiazoline, 5-carboxybenzothiazoline, 5-ethoxycarbonylbenzothiazoline, 5-phenethylbenzothiazoline, 5-fluorobenzothiazoline, 5-
Chloro-6-methylbenzothiazoline, 5-trifluoromethylbenzothiazoline, 5,6-dimethylbenzothiazoline, 5-hydroxy-6-methylbenzothiazoline, tetrahydrobenzothiazoline, 4-phenylbenzothiazoline, 5-phenylbenzothiazoline, Etc.), a naphthothiazoline nucleus (for example, naphtho [2,1-
d] thiazoline, naphtho [1,2-d] thiazoline, naphtho [2,3-d] thiazoline, 5-methoxynaphtho [1,2-d] thiazoline, 7-ethoxynaphtho [2,2]
1-d] thiazoline, 8-methoxynaphtho [2,1-
d] thiazoline, 5-methoxynaphtho [2,3-d] thiazoline, etc., thiazolidine nucleus (eg, thiazolidine, 4-methylthiazolidine, 4-nitrothiazolidine, etc.), oxazoline nucleus (eg, oxazoline, 4-
Methyloxazoline, 4-nitrooxazoline, 5-methyloxazoline, 4-phenyloxazoline, 4,5
-Diphenyloxazoline, 4-ethyloxazoline, etc.), a benzoxazoline nucleus (benzoxazoline, 5
-Chlorobenzoxazoline, 5-methylbenzoxazoline, 5-bromobenzoxazoline, 5-fluorobenzoxazoline, 5-phenylbenzoxazoline, 5-methoxybenzoxazoline, 5-nitrobenzoxazoline, 5-trifluoromethylbenzoxazoline, 5 -Hydroxybenzoxazoline, 5-carboxybenzoxazoline, 6-methylbenzoxazoline, 6-chlorobenzoxazoline, 6-nitrobenzoxazoline, 6-methoxybenzoxazoline, 6
-Hydroxybenzoxazoline, 5,6-dimethylbenzoxazoline, 5-ethoxybenzoxazoline, etc.), naphthooxazoline nucleus (for example, naphtho [2,1
-D] oxazoline, naphtho [1,2-d] oxazoline, naphtho [2,3-d] oxazoline, 5-nitronaphtho [1,2-d] oxazoline, etc.), oxazolidine nucleus (eg, 4,4-dimethyloxazolidine, etc.) ),
The selenazoline nucleus (e.g., 4-methyl selenazoline, 4
-Nitroselenazolin, 4-phenylselenazolin, etc.), selenazolidine nucleus (for example, selenazolidine, 4-
Methyl selenazolidine, 4-phenyl selenazolidine riddle, benzoselenazoline nucleus (for example, benzoselenazoline, 5-chlorobenzoselenazoline, 5-nitrobenzoselenazoline, 5-methoxybenzoselenazoline, 5
-Hydroxybenzoselenazoline, 6-nitrobenzoselenazoline, 5-chloro-6-nitrobenzoselenazoline riddle), naphthoselenazoline nucleus (for example, naphtho [2,1-d] selenazoline, naphtho [1,2-d] ] Selenazoline, etc.), 3,3-dialkylindoline nucleus (for example, 3,3-dimethylindoline, 3,3-diethylindoline, 3,3-dimethyl-5-dianoindoline, 3,3-dimethyl-6-nitroindoline) , 3, 3
-Dimethyl-5-nitroindoline, 3,3-dimethyl-5-methoxyindoline, 3,3-dimethyl-5-methylindoline, 3,3-dimethyl-5-chloroindoline, etc.), imidazoline nucleus (e.g., 1- Alkyl imidazoline, 1-alkyl-4-phenyl imidazoline, 1-aryl imidazoline, etc.), benzimidazoline nucleus (for example, 1-alkyl benzimidazoline, 1-
Alkyl-5-chlorobenzimidazoline, 1-alkyl-5,6-dichloro-benzimidazoline, 1-alkyl-5-methoxybenzimidazoline, 1-alkyl-5-cyanobenzimidazoline, 1-alkyl-5
Fluorobenzimidazoline, 1-alkyl-5-trifluoromethylbenzimidazoline, 1-allyl-5
6-dichlorobenzimidazoline, 1-allyl-5-chlorobenzimidazoline, 1-arylbenzimidazoline, 1-aryl-5-chlorobenzimidazoline,
1-aryl-5,6-dichlorobenzimidazoline,
1-aryl-5-methoxybenzimidazoline, 1-
Aryl-5-cyanobenzimidazoline, etc.), naphthoimidazoline nucleus (for example, 1-alkylnaphtho [1,
2-d] imidazoline, 1-arylnaphtho [1,2-
d] imidazoline etc.), said alkyls being especially those of 1 to 8 carbon atoms, for example methyl, ethyl, propyl,
Unsubstituted alkyl groups such as isopropyl and butyl and hydroxyalkyl groups (eg, 2-hydroxyethyl group, 3-
And hydroxypropyl. The aforementioned aryl group represents phenyl, halogen (for example, chloro) -substituted phenyl, alkyl (for example, methyl) -substituted phenyl, alkoxy (for example, methoxy) -substituted phenyl and the like. ),
Pyrrolidine nucleus (for example, 2-pyrrolidine), dihydropyridine nucleus (for example, 1,4-dihydropyridine, 5-methyl-1,2-dihydropyridine, 3-methyl-1,4)
-Dihydropyridines, etc.), dihydroquinoline nuclei (eg 1,4-dihydroquinoline, 3-methyl-1,2-
Dihydroquinoline, 5-ethyl-1,2-dihydroquinoline, 6-methyl-1,2-dihydroquinoline, 6-nitro-1,2-dihydroquinoline, 8-fluoro-1,
2-dihydroquinoline, 6-methoxy-1,2-dihydroquinoline, 6-hydroxy-1,2-dihydroquinoline, 8-chloro-1,2-dihydroquinoline, 6-ethoxy-1,4-dihydroquinoline, 6 -Nitro-1,4
-Dihydroquinoline, 8-chloro-1,4-dihydroquinoline, 8-fluoro-1,4-dihydroquinoline, 8
-Methyl-1,4-dihydroquinoline, 8-methoxy-
1,4-dihydroquinoline, dihydroisoquinoline, 6
-Nitro-1,2-isoquinoline, 6-hitoro-2,3
-Dihydroisoquinoline, etc.) and tetrazoline represent nonmetallic atomic groups necessary for completing the nucleus.
【0123】これらのうちZ5 は好ましくは、オキサゾ
リン核、オキサゾリジン核、チアゾリン核、ベンゾチア
ゾリン核、チアゾリジン核、ベンズオキサゾリン、ナフ
トオキサゾリン核、セレナゾリン核、セレナゾリジン
核、ベンゾセレナゾリン核、ベンズイミダゾリン核、ピ
ロリジン核、ジヒドロピロリジン核、テトラゾリン核の
場合である。Z5 の特に好ましいものはオキサゾリン
核、オキサゾリジン核、ベンズオキサゾリン核、チアゾ
リン核、チアゾリジン核、セレナゾリン核、セレナゾリ
ジン核、ベンズイミダゾリン核、ピロリジン核、ジヒド
ロピリジン核であるZ5 としてさらに好ましいものは、
オキサゾリン核、オキサゾリジン核、ベンズオキサゾリ
ン核、チアゾリン核、チアゾリジン核、ベンズイミダゾ
リン核、ピロリジン核である。Of these, Z 5 is preferably oxazoline nucleus, oxazolidine nucleus, thiazoline nucleus, benzothiazoline nucleus, thiazolidine nucleus, benzoxazoline, naphthoxazoline nucleus, selenazoline nucleus, selenazolidine nucleus, benzoselenazoline nucleus, benzimidazoline nucleus, This is the case with pyrrolidine nuclei, dihydropyrrolidine nuclei and tetrazoline nuclei. Particularly preferred are oxazoline nucleus of Z 5, oxazolidine nucleus, benzoxazoline nucleus, a thiazoline nucleus, a thiazolidine nucleus, a selenazoline nucleus, Serenazorijin nucleus, benzimidazoline nucleus, pyrrolidine nucleus, even more preferred as Z 5 is a dihydropyridine nucleus,
They are an oxazoline nucleus, an oxazolidine nucleus, a benzoxazoline nucleus, a thiazoline nucleus, a thiazolidine nucleus, a benzimidazoline nucleus and a pyrrolidine nucleus.
【0124】R51及びR52は各々水素原子、無置換アル
キル基(炭素原子数1〜18、好ましくは1〜8のアル
キル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、ヘキシル、ドテシル、オクタデシルな
ど)、置換アルキル基〔例えばアラルキル基(例えば、
ベンジル、β−フェニルエチルなど)、ヒドロキシアル
キル基(例えば、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキ
シプロピル、2−ヒドロキシエトキシエチルなど)、カ
ルボキシアルキル基(例えば、カルボキシメチル、2−
カルボキシエチル、3−カルボキシプロピル、4−カル
ボキシブチルなど)、スルホ基で置換されたアルキル基
(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介してアル
キル基に結合してもよい。例えば2−スルホエチル、3
−スルホプロピル、3−スルホブチル、4−スルホブチ
ル、2−〔3−スルホプロポキシ〕エチル、2−ヒドロ
キシ−3−スルホプロピル、2−〔2−(3−スルホプ
ロポキシ)エトキシ〕エチル、p−スルホフェネチルな
ど)、サルフェートアルキル基(例えば、3−サルフェ
ートプロピル、4−サルフェートブチルなど)、メルカ
プト基、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル基)、
アシロキシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル
基、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアル
キル基(例えば、2−メトキシエチル基、3−メトキシ
プロピル基など)、アルコキシカルボニルアルキル基
(例えば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メト
キシカルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブ
チル基など)、シアノアルキル基(例えば、2−シアノ
エチル基など)、カルボモイルアルキル基(例えば、2
−カルバモイルエチル基など)、アリーロキシアルキル
基(例えば、2−フェノキシエチル基、3−フェノキシ
プロピル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば、
2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基な
ど)、メルカプトアルキル基(例えば、2−メルカプト
エチル基、3−メルカプトプロピル基など)、アルキル
チオアルキル基(例えば、2−メチルチオエチル基な
ど)、又はアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
ナフチル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基な
ど)を表わす。なかでもR51,R52の少なくとも一方が
スルホ基もしくはカルボキシル基を有したアルキル基で
あることが好ましい。R 51 and R 52 are each a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group (an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 8 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, hexyl, dothesyl, Octadecyl etc.), substituted alkyl group [eg aralkyl group (eg,
Benzyl, β-phenylethyl etc.), hydroxyalkyl group (eg 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2-hydroxyethoxyethyl etc.), carboxyalkyl group (eg carboxymethyl, 2-
Carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, etc.), an alkyl group substituted with a sulfo group (the sulfo group may be bonded to the alkyl group via an alkoxy group, an aryl group, etc., for example, 2-sulfoethyl, Three
-Sulfopropyl, 3-sulfobutyl, 4-sulfobutyl, 2- [3-sulfopropoxy] ethyl, 2-hydroxy-3-sulfopropyl, 2- [2- (3-sulfopropoxy) ethoxy] ethyl, p-sulfophenethyl Etc.), a sulfate alkyl group (eg, 3-sulfatepropyl, 4-sulfatebutyl, etc.), a mercapto group, a vinyl group-substituted alkyl group (eg, an allyl group),
Acyloxyalkyl group (for example, 2-acetoxyethyl group, 3-acetoxypropyl group, etc.), alkoxyalkyl group (for example, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, etc.), alkoxycarbonylalkyl group (for example, 2- Methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonylpropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc.), cyanoalkyl group (eg, 2-cyanoethyl group, etc.), carbomoylalkyl group (eg, 2
-Carbamoylethyl group, etc.), aryloxyalkyl group (eg, 2-phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.), aryloxyalkyl group (eg,
2-phenoxyethyl group, 3-phenoxypropyl group, etc.), mercaptoalkyl group (eg, 2-mercaptoethyl group, 3-mercaptopropyl group, etc.), alkylthioalkyl group (eg, 2-methylthioethyl group), or aryl Groups (eg phenyl, tolyl,
Naphthyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, etc.). Among them, at least one of R 51 and R 52 is preferably an alkyl group having a sulfo group or a carboxyl group.
【0125】Qは各々ローダニン核、2−チオオキサゾ
リン−2,4−ジオン核、2−チオセレナゾリン−2,
4−ジオン核、バルビツール酸核又はチオバルビツール
酸核〔例えば1−アルキル基(例えば1−メチル、1−
エチル、1−プロピル、1−ブチルなど)、1,3−ジ
アルキル基(例えば1,3−ジメチル、1,3−ジエチ
ル、1,3−ジプロピル、1,3−ジイソプロピル、
1,3ジシクロヘキシル、1,3−ジ(β−メトキシエ
チル)など)、1,3−ジアリール基(例えば、1,3
−ジフェニル、1,3−ジ(pクロロフェニル)、1,
3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)など)、1
−スルホアルキル基(例えば1−(2−スルホエチ
ル)、1−(3−スルホプロピル)、1−(4−スルホ
ブチル)など)、1,3−ジスルホアルキル基(例え
ば1,3−ジ(2−スルホエチル)、1,3−ジ(3−
スルホプロピル)、1,3−ジ−(4−スルホシクロヘ
キシルなど)、1,3−ジ−(スルホアリール基(例え
ば、1,3−ジ−(4−スルホフェニル)など)、また
は1−スルホアリール基(例えば1−(4−スルホフェ
ニル)など)を含有するバルビツール核またはチオバル
ビツール酸核〕、又はチオヒダントイン核(但し1位の
置換基は3位(R52)と同義であるが両者は同一でも異
っていてもよい)を完成するに必要な非金属原子群を表
わす。Q is a rhodanine nucleus, 2-thiooxazoline-2,4-dione nucleus, 2-thioselenazoline-2,
4-dione nucleus, barbituric acid nucleus or thiobarbituric acid nucleus [eg 1-alkyl group (eg 1-methyl, 1-
Ethyl, 1-propyl, 1-butyl, etc.), 1,3-dialkyl group (for example, 1,3-dimethyl, 1,3-diethyl, 1,3-dipropyl, 1,3-diisopropyl,
1,3 dicyclohexyl, 1,3-di (β-methoxyethyl), etc., 1,3-diaryl group (eg, 1,3
-Diphenyl, 1,3-di (pchlorophenyl), 1,
3-di (p-ethoxycarbonylphenyl) and the like), 1
-Sulfoalkyl group (for example, 1- (2-sulfoethyl), 1- (3-sulfopropyl), 1- (4-sulfobutyl), etc.), 1,3-disulfoalkyl group (for example, 1,3-di ( 2-sulfoethyl), 1,3-di (3-
Sulfopropyl), 1,3-di- (4-sulfocyclohexyl etc.), 1,3-di- (sulfoaryl group (eg 1,3-di- (4-sulfophenyl) etc.), or 1-sulfo. A barbitur nucleus or a thiobarbituric acid nucleus containing an aryl group (eg 1- (4-sulfophenyl) etc.), or a thiohydantoin nucleus (wherein the substituent at the 1-position is synonymous with the 3-position (R 52 )) Both may be the same or different) represents a non-metal atomic group necessary to complete the above.
【0126】Qによって形成される複素環は好ましくは
ローダニン核、又はチオヒダントイン核のであり、更に
好ましくはローダニン核である。The heterocycle formed by Q is preferably a rhodamine nucleus or a thiohydantoin nucleus, more preferably a rhodamine nucleus.
【0127】Cとして好ましくはシアニン、メロシアニ
ンからなるラジカルであり、最も好ましくはシアニンか
らなるラジカルである。C is preferably a radical composed of cyanine and merocyanine, and most preferably a radical composed of cyanine.
【0128】Dは酸基を表わす。酸基としては、現像処
理時に解離してアニオンになり得るものがあげられる。
その例としては、Cの置換基としてすでに一部述べてい
るが、更に詳しく説明すると、例えば、スルホン酸基、
カルボン酸基、ホスホン酸基、スルフィン酸基、スルホ
アミノ基、ホスフィン酸基、硫酸モノエステル基、スル
ホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシイミノ
基、ヒドロキシアミノカルボニル基、スルフィンアミド
基、スルフィナモイル基、またはヒドロキシアミノスル
ホニル基などがあげられる。D represents an acid group. Examples of the acid group include those capable of being dissociated into anions during development processing.
Some examples thereof have already been described as the substituent of C, but a more detailed description will be made, for example, with a sulfonic acid group,
Carboxylic acid group, phosphonic acid group, sulfinic acid group, sulfoamino group, phosphinic acid group, sulfuric acid monoester group, sulfonamide group, sulfamoyl group, hydroxyimino group, hydroxyaminocarbonyl group, sulfinamide group, sulfinamoyl group, or hydroxyamino group Examples thereof include a sulfonyl group.
【0129】Dとしては好ましくは、スルホン酸基、カ
ルボン酸基、ホスホン酸基、スルフィン酸基、スルホア
ミノ基、または硫酸モノエステル基であり、更に好まし
くは、スルホン酸基、カルボン酸基、またはホスホン酸
基であり、最も好ましくはスルホン酸基である。D is preferably a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a phosphonic acid group, a sulfinic acid group, a sulfoamino group, or a sulfuric acid monoester group, more preferably a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, or a phosphonic acid group. Acid groups, most preferably sulfonic acid groups.
【0130】Dで表わされる酸基は、酸アニオンの形で
あってもよい。この場合電荷バランス対イオンとして適
当なカチオンを有してもよい。そのようなカチオンとし
て、例えば、アンモニウム塩(例えばトリエチルアンモ
ニウムやピリジニウムなど)や、アルカリ金属イオン
(例えばナトリウムイオンやカリウムイオンなど)など
があげられる。The acid group represented by D may be in the form of an acid anion. In this case, it may have a suitable cation as a charge balance counter ion. Examples of such cations include ammonium salts (eg, triethylammonium and pyridinium) and alkali metal ions (eg, sodium ion and potassium ion).
【0131】Lは二価の連結基である。Lで表わされる
二価の連結基としては、C,N,SOのうち少なくとも
1種を含む原子、または原子団である。L is a divalent linking group. The divalent linking group represented by L is an atom or an atomic group containing at least one of C, N and SO.
【0132】Lとして具体的には、例えばアルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、
−O−,−S−,−NH−,−N=,−CO−,または
−SO2 −(これらの基は置換基を有していてもよい)
などの単独、または二つ以上の組合せからなるものであ
る。Lとして更に具体的に説明すると、例えば、(3)
アルキレン基(好ましくは炭素数1〜12のもので、例
えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラ
メチレン基など)、(2)アルケニレン基(好ましくは
炭素数2〜12のもので、例えばビニレン基、ブテニレ
ン基など)、(3)アルキニレン基(好ましくは炭素数
2〜12のもので、例えばエチニレン基、ブチニレン基
など)、(4)アリーレン基(好ましくは炭素数6〜1
0個のもので、例えばフェニレン基、ナフチレン基な
ど)、(5)−O−、(6)−S−、(7)−NH−、
(8)−N=、(9)−CO−、(10)−SO2 −など
で、更にこれらの組合せとして例えばSpecific examples of L include alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group,
-O -, - S -, - NH -, - N =, - CO-, or -SO 2 - (which may have these groups the substituent)
Etc., or a combination of two or more. More specifically, as L, for example, (3)
Alkylene group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, for example, methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, etc.), (2) alkenylene group (preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, vinylene group) , Butenylene group, etc.), (3) alkynylene group (preferably having 2 to 12 carbon atoms, for example, ethynylene group, butynylene group, etc.), (4) arylene group (preferably having 6 to 1 carbon atoms).
0, for example, phenylene group, naphthylene group, etc.), (5) -O-, (6) -S-, (7) -NH-,
(8) -N =, (9 ) -CO -, (10) -SO 2 - and the like, further, for example, as a combination thereof
【0133】[0133]
【化27】 Embedded image
【0134】および、(1)〜(4)と(5)〜(16)
の適当な組合せ(例えば、And (1) to (4) and (5) to (16)
An appropriate combination of (for example,
【0135】[0135]
【化28】 Embedded image
【0136】などが挙げられる。本発明に用いられる一
般式(II)で示される化合物としては、特に、酸基を有
した一般式(IV)または一般式(V)の化合物が好まし
い。中でも前者の方が黒ポツ、残色の点で好ましい。And the like. As the compound represented by the general formula (II) used in the present invention, a compound of the general formula (IV) or the general formula (V) having an acid group is particularly preferable. Among them, the former is preferable in terms of black spots and residual color.
【0137】一般式(II)において、Cがメルカプト
基、または複素環基である場合の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。Specific examples in the case where C is a mercapto group or a heterocyclic group in the general formula (II) are shown below.
However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0138】[0138]
【化29】 Embedded image
【0139】一般式(II)において、Cが一般式(III)
で示される化合物の具体例を以下に示す。但し本発明は
以下の化合物に限定されるものではない。In the general formula (II), C is the general formula (III)
Specific examples of the compound represented by are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0140】[0140]
【化30】 Embedded image
【0141】[0141]
【化31】 Embedded image
【0142】一般式(II)ないし(III)で示される複素
環化合物は、A.Katritzky and C.W.Reese 編の“Compre
hensive Heterocyclic Chemistry,The Structure,React
ions,Synthesis and Use of Heterocyclic Compounds”
Pergamon Press,Oxford (1984)第2巻〜第6巻
を、またチオアミド化合物は、E.Miiller 編の“Method
en der Organischen Chemie ”,Georg Thieme Verlag,S
tuttgart(1955)第9巻を参照すれば容易に合成で
き、また記載のないものも類似の方法により合成でき
る。The heterocyclic compounds represented by the general formulas (II) to (III) are described in "Compre" by A.Katritzky and CWReese.
hensive Heterocyclic Chemistry, The Structure, React
ions, Synthesis and Use of Heterocyclic Compounds ”
Pergamon Press, Oxford (1984), Volumes 2-6, and thioamide compounds, edited by E. Miiller, "Method.
en der Organischen Chemie ”, Georg Thieme Verlag, S
It can be easily synthesized by referring to tuttgart (1955) Vol. 9, and those not described can be synthesized by a similar method.
【0143】一般式(II)においてCが一般式(IV)及
び(V)で示される化合物のラジカル体を有した化合物
の具体例を以下に示す但し本発明は以下の化合物に限定
されるものではない。Specific examples of compounds in which C in the general formula (II) has a radical of the compounds represented by the general formulas (IV) and (V) are shown below, but the present invention is limited to the following compounds: is not.
【0144】[0144]
【化32】 Embedded image
【0145】[0145]
【化33】 Embedded image
【0146】[0146]
【化34】 Embedded image
【0147】[0147]
【化35】 Embedded image
【0148】[0148]
【化36】 Embedded image
【0149】[0149]
【化37】 Embedded image
【0150】[0150]
【化38】 Embedded image
【0151】前記一般式(IV)ないし(V)で表わされ
る化合物は、米国特許2,852,385号、同2,6
94,638号、同3,615,635号、同2,91
2,329号、同3,314,031号、同3,39
7,060号、同3,506,443号、英国特許1,
339,833号などに記載のもので、上記明細書また
はF.M.Hamer 著の“The Cyanine Dyes and Related Com
pounds”,IntersciencePublishers,New York (196
4)を参照すれば当業者は容易に合成でき、また記載の
ないものも類似の方法により合成できる。The compounds represented by the above general formulas (IV) to (V) are described in US Pat. Nos. 2,852,385 and 2,6.
No. 94,638, No. 3,615,635, No. 2,91
2,329, 3,314,031, 3,39
7,060, 3,506,443, British Patent 1,
339,833 and the like, which are described in the above specification or "The Cyanine Dyes and Related Com" by FM Hamer.
pounds ”, IntersciencePublishers, New York (196
With reference to 4), those skilled in the art can easily synthesize the compounds, and those not described can be synthesized by a similar method.
【0152】本発明において、一般式(II)で表わされ
る化合物を写真感光材料中に含有させるときには、ハロ
ゲン化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の
非感光性の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、
フィルター層、ハレーション防止層など)に含有させて
もよい。具体的には使用する化合物が水溶性の場合には
水溶液として、また難水溶性の場合にはアルコール類、
エステル類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の
溶液として、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハ
ロゲン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から
塗布前までの任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了
時後から塗布前の間に添加するのが好ましい。特に塗布
のために用意された塗布液中に添加するのがよい。In the present invention, when the compound represented by the general formula (II) is contained in the photographic light-sensitive material, it is preferably contained in the silver halide emulsion layer, but other non-photosensitive hydrophilic colloid layers ( For example, protective layer, intermediate layer,
Filter layer, antihalation layer, etc.). Specifically, when the compound to be used is water-soluble, it is used as an aqueous solution.
It may be added to a hydrophilic colloid solution as a solution of an organic solvent miscible with water such as esters and ketones. When it is added to the silver halide emulsion layer, it may be added at any time from the start of chemical ripening to before coating, but it is preferably added after the end of chemical ripening and before coating. Particularly, it is preferable to add it to a coating solution prepared for coating.
【0153】本発明において、一般式(II)で表わされ
る化合物は、ハロゲン化銀1モル当り1×10-6モルな
いし1×10-2モル含有させるのが好ましく特に1×1
0-5ないし1×10-3モル含有させるのが好ましい。In the present invention, the compound represented by the general formula (II) is preferably contained in an amount of 1 × 10 -6 to 1 × 10 -2 mol per mol of silver halide, particularly 1 × 1.
It is preferable to contain 0 -5 to 1 x 10 -3 mol.
【0154】黒点防止剤として、次の公知の化合物を用
いてもよい。これらの化合物は、単独で用いても良い
し、本発明の黒点防止剤に追加して用いることができ
る。The following known compounds may be used as the black spot preventing agent. These compounds may be used alone or in addition to the black spot preventing agent of the present invention.
【0155】WO93/02388、WO93/085
03に記載のチオ尿素化合物、WO93/08504、
特開平4−258,951に記載のイソチオ尿化合物、
特開平8−43985、同6−180,480、同4−
316,042、同2−120,850、同2−10
3,532に記載の含窒素ヘテロ環化合物、同4−6
7,140、同3−44,630に記載のプリン化合
物、同4−190,227に記載のメルカプト化合物、
同62−30,243に記載のプレカーサー化合物、米
国特許第5,256,519号に記載のテトラザインデ
ン化合物、特開昭61−223,834、同61−22
8,437に記載の酸化合物を用いることができる。WO93 / 02388, WO93 / 085
Thiourea compound described in WO 03/08504,
An isothiourine compound described in JP-A-4-258,951;
JP-A-8-43985, 6-180, 480, 4-
316, 042, the same 2-120, 850, the same 2-10
3,532 nitrogen-containing heterocyclic compounds, 4-6
7,140, the purine compound described in 3-44,630, the mercapto compound described in 4-190,227,
Precursor compounds described in JP-A-62-30,243, tetrazaindene compounds described in US Pat. No. 5,256,519, JP-A-61-223,834, JP-A-61-222.
The acid compound described in 8,437 can be used.
【0156】有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金
属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質であっ
てもよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテコー
ルなどの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダード
フェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成層の
1〜10重量%として存在すべきである。多層構造にお
いて、還元剤をエマルジョン層以外の層に加える場合
は、わずかに高い割合である約2〜15%がより望まし
い傾向がある。The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent should be present as 1 to 10% by weight of the imaging layer. In multi-layer constructions, a slightly higher percentage, about 2-15%, tends to be more desirable when the reducing agent is added to layers other than the emulsion layer.
【0157】有機銀塩を利用した熱現像写真感光材料に
おいては広範囲の還元剤が開示されている。例えば、フ
ェニルアミドオキシム、2−チエニルアミドオキシムお
よびp−フェノキシフェニルアミドオキシムなどのアミ
ドオキシム;例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキ
シベンズアルデヒドアジンなどのアジン;2,2′−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオニル−β−フェニルヒ
ドラジンとアスコルビン酸との組合せのような脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン酸との組合
せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、
レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合せ(例えば
ハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒドロキシ
ルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンまたはホル
ミル−4−メチルフェニルヒドラジンの組合せなど);
フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシフェニルヒド
ロキサム酸およびβ−アニリンヒドロキサム酸などのヒ
ドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノールとの
組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル
−α−シアノ−2−メチルフェニルアセテート、エチル
−α−シアノフェニルアセテートなどのα−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロ
キシ−1,1′−ビナフチルおよびビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタンに例示されるようなビス−β
−ナフトール;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒド
ロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンまたは2′,4′−ジヒドロキシアセト
フェノンなど)の組合せ;3−メチル−1−フェニル−
5−ピラゾロンなどの、5−ピラゾロン;ジメチルアミ
ノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘ
キソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリド
ンヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクト
ン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールおよびp−ベンゼンスルホンアミドフェノール
などのスルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニル
インダン−1,3−ジオンなど;2,2−ジメチル−7
−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−
1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒドロピリ
ジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
パン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6
−メチルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチ
ルヘキサンおよび2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンなど);アスコルビン
酸誘導体(例えば、パルミチン酸1−アスコルビル、ス
テアリン酸アスコルビルなど);ならびにベンジルおよ
びビアセチルなどのアルデヒドおよびケトン;3−ピラ
ゾリドンおよびある種のインダン−1,3−ジオンなど
がある。A wide range of reducing agents have been disclosed in the photothermographic materials using organic silver salts. For example, amidoximes such as phenylamidooxime, 2-thienylamidooxime and p-phenoxyphenylamidooxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehyde azine; 2,2'-bis (hydroxymethyl) propionyl. A combination of an aliphatic carboxylic acid aryl hydrazide and ascorbic acid, such as a combination of -β-phenylhydrazine and ascorbic acid; polyhydroxybenzene and hydroxylamine,
A combination of reductone and / or hydrazine, such as a combination of hydroquinone with bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone or formyl-4-methylphenylhydrazine;
Hydroxamic acids such as phenylhydroxamic acid, p-hydroxyphenylhydroxamic acid and β-anilinehydroxamic acid; combinations of azines with sulfonamide phenols (eg phenothiazine and 2,6-dichloro-
Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as ethyl-α-cyano-2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-
Binaphthyl, 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl and bis-β as exemplified by bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane.
-Naphthol; a combination of bis-β-naphthol and a 1,3-dihydroxybenzene derivative (eg, 2,4-dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl-
5-pyrazolone, such as 5-pyrazolone; reductone as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone; 2,6-dichloro-4 Sulfonamidophenol reducing agents such as -benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; 2,2-dimethyl-7
Chromans such as -t-butyl-6-hydroxychroman; 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-
1,4-dihydropyridines such as 1,4-dihydropyridine; bisphenols (for example, bis (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,
2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6)
-Methylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4)
Ascorbic acid derivatives (e.g., 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and certain indan-1,3-diones. and so on.
【0158】本発明で特に好ましい還元剤として下記一
般式(R−I)、一般式(R−II)、一般式(R−II
I)、一般式(R−IV)で表される化合物が挙げられる。Particularly preferred reducing agents in the present invention are the following general formula (R-I), general formula (R-II) and general formula (R-II).
I) and compounds represented by the general formula (R-IV).
【0159】[0159]
【化39】 Embedded image
【0160】なお、一般式(R−III )においてZが形
成する環構造は下記のものである。In the general formula (R-III), the ring structure formed by Z is as follows.
【0161】[0161]
【化40】 Embedded image
【0162】また、一般式(R−IV)においてZが形成
する環構造は下記のものである。In the general formula (R-IV), the ring structure formed by Z is as follows.
【0163】[0163]
【化41】 Embedded image
【0164】式中、L1 、L2 は、CH−R6 で表され
る基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。In the formula, L 1 and L 2 are a group represented by CH-R 6 or a sulfur atom. n represents a natural number.
【0165】R(R1 〜R10、R1 ′〜R5 ′、R11〜
R13、R11′〜R13′、R21〜R26、R21′〜R24′を
含む)は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜30)、
アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、アミノ基も
しくは−O−Aで表される置換基である。ただし、R1
〜R5 の少なくとも一つ及びR1 ′〜R5 ′の少なくと
も一つ及びR7 〜R10の少なくとも一つは−O−Aで表
される基である。また、R同士で環を形成しても良い。
A、A′は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜3
0)、アシル基(炭素数1〜30)、アリール基、リン
酸基、スルホニル基を表す。R、A、A′は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
(活性メチン基を含む)、ニトロ基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、複素環を含む基、4級化され
た窒素原子を含むヘテロ環(例えばピリジニオ基)を含
む基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基
もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、ウレタン基、カルボキシル基、イ
ミド基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基を含む基、4級のアンモニオ基を含む基、メル
カプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チ
オ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(ア
ルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基、ス
ルファモイル基、アシルスルファモイル基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルカルバモイル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、リン酸アミド基、リン酸エステル構
造を含む基、アシルウレア構造を持つ基、セレン原子ま
たはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造または
4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられる。R、
A、A′の置換基はさらに置換されていても良く、好ま
しい例としてはRの置換基として例示したものが挙げら
れる。さらにその置換基、その置換基の置換基、置換基
の置換基の置換基・・・、というように多重に置換され
ていても良く、好ましい例はやはりR、A、A′の置換
基として例示したものがあてはまる。R (R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11 to
Including R 13, R 11 '~R 13 ', R 21 ~R 26, R 21 '~R 24') is a hydrogen atom, an alkyl group (having 1 to 30 carbon atoms),
An aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, an amino group, or a substituent represented by -OA. However, R 1
At least one of the at least one and R 7 to R 10 in at least to R 5 one and R 1 '~R 5' is a group represented by -O-A. Further, R may form a ring with each other.
A and A 'each represent a hydrogen atom or an alkyl group (having 1 to 3 carbon atoms).
0), an acyl group (1 to 30 carbon atoms), an aryl group, a phosphate group, and a sulfonyl group. R, A and A 'may be substituted, and typical substituents include, for example, alkyl groups (including active methine groups), nitro groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, groups containing heterocycles, A group containing a quaternary heterocycle containing a nitrogen atom (for example, a pyridinio group), a hydroxy group, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group Group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, urethane group, carboxyl group, imide group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group A hydrazino group, a quaternary ammonium group, a mercapto group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group, Sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, (alkyl or aryl) sulfonylcarbamoyl group, halogen atom, cyano group, phosphoric amide group, group containing a phosphoric ester structure, acyl Group having a rare structure, a group containing a selenium atom or a tellurium atom, and a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure. R,
The substituents of A and A'may be further substituted, and preferable examples thereof include those exemplified as the substituent of R. Further, the substituents, the substituents of the substituents, the substituents of the substituents of the substituents, etc. may be multiply substituted, and preferable examples are also the substituents of R, A and A ′. The examples given apply.
【0166】以下に、一般式(R−I)、一般式(R−
II)、一般式(R−III)、一般式(R−IV)で表される
化合物の具体例を示す。ただし、本発明は以下の化合物
に限定されるものではない。Hereinafter, the general formula (R-I) and the general formula (R-
Illustrative examples of the compounds represented by II), general formula (R-III) and general formula (R-IV) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0167】[0167]
【表1】 [Table 1]
【0168】[0168]
【化42】 Embedded image
【0169】[0169]
【表2】 [Table 2]
【0170】[0170]
【表3】 [Table 3]
【0171】[0171]
【表4】 [Table 4]
【0172】[0172]
【表5】 [Table 5]
【0173】[0173]
【表6】 [Table 6]
【0174】[0174]
【表7】 [Table 7]
【0175】[0175]
【化43】 Embedded image
【0176】本発明の還元剤の使用量は好ましくは銀1
モル当り1×10-2〜10モル、特に1×10-2〜1.
5モルである。The amount of the reducing agent used in the present invention is preferably silver 1.
1 × 10 −2 to 10 mol per mol, particularly 1 × 10 −2 to 1.
5 moles.
【0177】また本発明では還元剤と前記硬調化剤のモ
ル比を1:10-3〜1:10-1の範囲に設定することが
好ましい。Further, in the present invention, it is preferable to set the molar ratio of the reducing agent to the contrast increasing agent in the range of 1:10 -3 to 1:10 -1 .
【0178】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理法
を用いて写真画像を形成するものである。このような熱
現像感光材料としては前述のとおり例えば米国特許第3
152904号、3457075号、及びD.モーガン
(Morgan)とB.シェリー(Shely) による「熱によって処
理される銀システム(Themally Processed Silver Syste
ms) 」(イメージング・プロセッシーズ・アンド・マテ
リアルズ(Imaging Processes and Materials)Neblette
第8版、スタージ(Sturge)、V.ウォールワース(Walwo
rth)、A.シェップ(Shepp) 編集、第2頁、1969
年)等に開示されている。The photothermographic material of the present invention forms a photographic image using a heat development processing method. Such a photothermographic material is disclosed in, for example, US Pat.
No. 152904, 3457075, and D.C. Morgan
(Morgan) and B. “Themally Processed Silver System” by Shely.
ms) "(Imaging Processes and Materials Neblette
Eighth Edition, Sturge, V.I. Walwo
rth), A. Edited by Shepp, page 2, 1969
Year).
【0179】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理を
用いて写真画像を形成するものであればよいが、還元可
能な銀源(有機銀塩)、触媒活性量の光触媒(例えばハ
ロゲン化銀)、銀の色調を抑制する色調剤及び還元剤を
通常(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態
で含有している熱現像感光材料であることが好ましい。
本発明の熱現像感光材料は常温で安定であるが、露光後
処理液を供給することなく高温(例えば、60℃以下、
好ましくは80℃以上また、好ましくは120℃以下)
に加熱することで現像される。加熱することで還元可能
な銀源(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化
還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露
光で発生した潜像の触媒作用によって促進される。露光
領域中の有機銀塩の反応によって生成した銀は黒色画像
を提供し、これは非露光領域と対照をなし、画像の形成
がなされる。The heat-developable light-sensitive material of the present invention may be any one capable of forming a photographic image by using a heat-development treatment, including a reducible silver source (organic silver salt) and a catalytically active amount of a photocatalyst (eg, halogenated compound). It is preferable that the photothermographic material contains silver), a toning agent that suppresses the color tone of silver, and a reducing agent, usually in a state of being dispersed in an (organic) binder matrix.
The photothermographic material of the present invention is stable at room temperature, but at a high temperature (for example, 60 ° C. or lower, without supplying a post-exposure treatment liquid).
(Preferably 80 ° C or higher, and preferably 120 ° C or lower)
It is developed by heating to. Heating produces silver through a redox reaction between a reducible silver source (which functions as an oxidizing agent) and the reducing agent. This oxidation-reduction reaction is promoted by the catalytic action of the latent image generated by the exposure. The silver formed by the reaction of the organic silver salt in the exposed areas provides a black image, which contrasts with the unexposed areas, resulting in the formation of an image.
【0180】本発明ではこの画像形成過程に硬調化剤が
関与して超硬調な画像を形成するものと考えられる。硬
調化剤による超硬調な連結形成は液処理されるシステム
では公知であるが、有機銀塩を用いた熱現像システムに
おいては全く知られておらず、予想外のことである。In the present invention, it is considered that a high contrast agent is involved in this image forming process to form an ultrahigh contrast image. The super-high contrast connection formation by the contrast-increasing agent is known in the system for liquid treatment, but it is not known in the thermal development system using the organic silver salt, which is unexpected.
【0181】本発明の熱現像感光材料は支持体上に少な
くとも一層の感光層を有している。支持体の上に感光層
のみを形成しても良いが、感光層の上に少なくとも1層
の非感光層を形成することが好ましい。The photothermographic material of the invention has at least one photosensitive layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-photosensitive layer on the photosensitive layer.
【0182】感光層に通過する光の量または波長分布を
抑制するために感光層と同じ側または反対側にフィルタ
ー層を形成しても良いし、感光層に染料または顔料を含
ませても良い。染料としては特願平7−1184号の化
合物が好ましい。A filter layer may be formed on the same side or the opposite side of the photosensitive layer in order to suppress the amount or wavelength distribution of light passing through the photosensitive layer, or the photosensitive layer may contain a dye or a pigment. . As the dye, the compound of Japanese Patent Application No. 7-1184 is preferable.
【0183】感光層は複数層にしても良く、また階調の
調節のため感度を高感層/低感層または低感層/高感層
にしても良い。The photosensitive layer may be composed of a plurality of layers, and the sensitivity may be a high sensitive layer / low sensitive layer or a low sensitive layer / high sensitive layer for adjusting gradation.
【0184】各種の添加剤が感光層、非感光層、または
その他の形成層のいずれに添加しても良い。Various additives may be added to any of the light-sensitive layer, non-light-sensitive layer, and other forming layers.
【0185】本発明の熱現像感光材料には例えば、界面
活性剤、酸化防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、被覆助剤等を用いても良い。The photothermographic material of the invention may contain, for example, a surfactant, an antioxidant, a stabilizer, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a coating aid and the like.
【0186】好適なバインダーは透明又は半透明で、一
般に無色であり、天然ポリマー合成樹脂やポリマー及び
コポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば:
ゼラチン、アラビアゴム、ポリ(ビニルアルコール)、
ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリ(ビニルピロリ
ドン)、ガゼイン、デンプン、ポリ(アクリル酸)、ポ
リ(メチルメタクリル酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ
(メタクリル酸)、コポリ(スチレン−無水マレイン
酸)、コポリ(スチレン−アクリロニトリル)、コポリ
(スチレン−ブタジエン)、ポリ(ビニルアセタール)
類(例えば、ポリ(ビニルホルマール)及びポリ(ビニ
ルブチラール))、ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタ
ン)類、フェノキシ樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポ
リ(エポキシド)類、ポリ(カーボネート)類、ポリ
(ビニルアセテート)、セルロースエステル類、ポリ
(アミド)類がある。バインダーは水又は有機溶媒また
はエマルジョンから被覆形成してもよい。Suitable binders are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymeric synthetic resins, polymers and copolymers, and other film-forming media such as:
Gelatin, gum arabic, poly (vinyl alcohol),
Hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate,
Cellulose acetate butyrate, poly (vinylpyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methylmethacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (styrene-maleic anhydride), copoly (Styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal)
(Eg, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)), poly (esters), poly (urethanes), phenoxy resins, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides), poly (carbonates), There are poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amide) s. The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
【0187】色調剤の添加は非常に望ましい。好適な色
調剤の例は調査報告第17029号に開示されており、
次のものがある:イミド類(例えば、フタルイミド);
環状イミド類、ピラゾリン−5−オン類、及びキナゾリ
ノン(例えば、スクシンイミド、3−フェニル−2−ピ
ラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナゾ
リン及び2,4−チアゾリジンジオン);ナフタールイ
ミド類(例えば、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタール
イミド);コバルト錯体(例えば、コバルトのヘキサミ
ントリフルオロアセテート)、メルカプタン類(例え
ば、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール);N
−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミド類(例
えば、N−(ジメチルアミノメチル)フタルイミド);
ブロックされたピラゾール類、インチウロニウム(isoth
iuronium) 誘導体及びある種の光漂白剤の組み合わせ
(例えば、N,N′ヘキサメチレン(1−カルバモイル
−3,5−ジメチルピラゾール)、1,8−(3,6−
ジオキサオクタン)ビス(イソチウロニウムトリフルオ
ロアセテート)、及び2−(トリブロモメチルスルホニ
ル)ベンゾチアゾールの組み合わせ);メロシアニン染
料(例えば、3−エチル−5−((3−エチル−2−ベ
ンゾチアゾリニリデン(benzpthiazolinylidene))−1
−メチルエチリデン)−2−チオ−2,4−オキサゾリ
ジンジオン(oxazolidinedione));フタラジノン、フタ
ラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(例えば、
4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラ
ジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び
2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタ
ラジノンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ(例えば、
6−クロロフタラジノン+ベンゼンスルフィン酸ナトリ
ウム又は8−メチルフタラジノン+p−トリスルホン酸
ナトリウム);フタラジン+フタル酸の組み合わせ;フ
タラジン(フタラジンの付加物を含む)とマレイン酸無
水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸
又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(例えば、
フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及
びテトラクロロフタル酸無水物)から選択される少なく
とも1つの化合物との組み合わせ;キナゾリンジオン
類、ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体;ベンズ
オキサジン−2,4−ジオン類(例えば、1,3−ベン
ズオキサジン−2,4−ジオン);ピリミジン類及び不
斉−トリアジン類(例えば、2,4−ジヒドロキシピリ
ミジン)、及びテトラアザペンタレン誘導体(例えば、
3,6−ジメロカプト−1,4−ジフェニル−1H、4
H−2,3a,5,6a−テトラアザペンタレン。The addition of toning agents is highly desirable. Examples of suitable toning agents are disclosed in Research Report No. 17029,
There are the following: imides (eg, phthalimide);
Cyclic imides, pyrazolin-5-ones, and quinazolinones (eg, succinimide, 3-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline, and 2,4-thiazolidinedione); naphthalimides (eg, , N-hydroxy-1,8-naphthalimide); cobalt complexes (eg, hexamine trifluoroacetate of cobalt), mercaptans (eg, 3-mercapto-1,2,4-triazole); N
-(Aminomethyl) aryldicarboximides (eg, N- (dimethylaminomethyl) phthalimide);
Blocked pyrazoles, incuronium (isoth
iuronium) combinations of derivatives and certain photobleaches (eg, N, N'hexamethylene (1-carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole), 1,8- (3,6-
A combination of dioxaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2- (tribromomethylsulfonyl) benzothiazole); a merocyanine dye (for example, 3-ethyl-5-((3-ethyl-2-benzothia Zorinilidene) -1
-Methylethylidene) -2-thio-2,4-oxazolidinedione); phthalazinone, phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (e.g.,
4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione; a combination of phthalazinone and a sulfinic acid derivative (eg, ,
6-chlorophthalazinone + sodium benzenesulfinate or 8-methylphthalazinone + sodium p-trisulfonate); combination of phthalazine + phthalic acid; phthalazine (including adduct of phthalazine), maleic anhydride, and phthalic acid , 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivatives and their anhydrides (for example,
Phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride) in combination with at least one compound; quinazolinediones, benzoxazine, naltoxazine derivatives; benzoxazine-2,4-dione (Eg 1,3-benzoxazine-2,4-dione); pyrimidines and asymmetric-triazines (eg 2,4-dihydroxypyrimidine), and tetraazapentalene derivatives (eg
3,6-dimerocapto-1,4-diphenyl-1H, 4
H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene.
【0188】好ましい色調剤としてはフタラゾンであ
る。A preferable toning agent is phthalazone.
【0189】触媒活性量の光触媒として有用なハロゲン
化銀は感光性のいかなるハロゲン化銀(例えば、臭化
銀、ヨウ化銀、銀化銀、塩臭化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ
臭化銀等)であってもよいがヨウ素イオンを含むことが
好ましい。このハロゲン化銀はいかなる方法で画像形成
層に添加されてもよく、このときハロゲン化銀は還元可
能な銀源に近接するように配置する。一般にハロゲン化
銀は還元可能銀源に対して0.75〜30重量%の量を
含有することが好ましい。ハロゲン化銀は、ハロゲンイ
オンとの反応による銀石鹸部の変換によって調製しても
よく、予備形成して石鹸の発生時にこれを添加してもよ
く、またはこれらの方法の組み合わせも可能である。後
者が好ましい。A silver halide useful as a catalytically active amount of a photocatalyst is any light sensitive silver halide (eg, silver bromide, silver iodide, silver silver, silver chlorobromide, silver iodobromide, chloroiodo). However, it is preferable that the iodide ion is contained. The silver halide may be added to the imaging layer in any manner, with the silver halide being placed in close proximity to the reducible silver source. In general, it is preferred that the silver halide contains from 0.75 to 30% by weight, based on the reducible silver source. Silver halide may be prepared by conversion of the silver soap portion by reaction with a halide ion, may be preformed and added during the generation of the soap, or a combination of these methods is possible. The latter is preferred.
【0190】還元可能な銀源は還元可能な銀イオン源を
含有する有機及びヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖(10
〜30、好ましくは15〜25の炭素原子数)の脂肪族
カルボン酸が好ましい。配位子が、4.0〜10.0の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機又は無為の銀
塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Research Dis
closure 第17029及び29963に記載されてお
り、次のものがある:有機酸の塩(例えば、没食子酸、
シュウ酸、ベヘン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ラ
ウリン酸等);銀のカルボキシアルキルチオ尿素塩(例
えば、1−(3−カルボキシプロピル)チオ尿素、1−
(3−カルボキシプロピル)−3,3−ジメチルチオ尿
素等);アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カルボン酸
とのポリマー反応生成物の銀錯体(例えば、アルデヒド
類(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアル
デヒド)、ヒドロキシ置換酸類(例えば、サリチル酸、
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、5,5−チ
オジサリチル酸)、チオエン類の銀塩又は錯体(例え
ば、3−(2−カルボキシエチル)−4−ヒドロキシメ
チル−4−(チアゾリン−2−チオエン、及び3−カル
ボキシメチル−4−チアゾリン−2−チオエン)、イミ
ダゾール、ピラゾール、ウラゾール、1,2,4−チア
ゾール及び1H−テトラゾール、3−アミノ−5−ベン
ジルチオ−1,2,4−トリアゾール及びベンゾトリア
ゾールから選択される窒素酸と銀との錯体また塩;サッ
カリン、5−クロロサリチルアルドキシム等の銀塩;及
びメルカプチド類の銀塩。好ましい銀塩はベヘン酸銀で
ある。還元可能な銀源は好ましくは銀量として3g/m2
以下である。さらに好ましくは2g/m2以下である。Reducible silver sources are silver salts of organic and heteroorganic acids containing a source of reducible silver ions, especially long chain (10
Aliphatic carboxylic acids of up to 30 (preferably 15 to 25 carbon atoms) are preferred. Organic or neat silver salt complexes in which the ligand has a total stability constant for silver ions of 4.0 to 10.0 are also useful. An example of a suitable silver salt is Research Dis
closures described in 17029 and 29996, and include: salts of organic acids (eg, gallic acid,
Oxalic acid, behenic acid, stearic acid, palmitic acid, lauric acid, etc.); carboxyalkylthiourea salt of silver (for example, 1- (3-carboxypropyl) thiourea, 1-
(3-carboxypropyl) -3,3-dimethylthiourea, etc.); silver complexes of polymer reaction products of aldehydes and hydroxy-substituted aromatic carboxylic acids (for example, aldehydes (formaldehyde, acetaldehyde, butyraldehyde), hydroxy-substituted acids) (Eg, salicylic acid,
Benzoic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, 5,5-thiodisalicylic acid), silver salts or complexes of thioenes (for example, 3- (2-carboxyethyl) -4-hydroxymethyl-4- (thiazoline-2). -Thioene, and 3-carboxymethyl-4-thiazoline-2-thioene), imidazole, pyrazole, urazole, 1,2,4-thiazole and 1H-tetrazole, 3-amino-5-benzylthio-1,2,4- Complexes or salts of silver with a nitric acid selected from triazole and benzotriazole; silver salts such as saccharin, 5-chlorosalicylaldoxime; and silver salts of mercaptides, preferred silver salt is silver behenate. The preferable silver source is 3 g / m 2 in terms of silver amount.
It is as follows. More preferably, it is 2 g / m 2 or less.
【0191】このような感光材料中にはかぶり防止剤が
含まれて良い。最も有効なかぶり防止剤は水銀イオンで
あった。感光材料中にかぶり防止剤として水銀化合物を
使用することについては、例えば米国特許第35899
03号に開示されている。しかし、水銀化合物は環境的
に好ましくない。非水銀かぶり防止剤としては例えば米
国特許第4546075号及び4452885号及び日
本特許公開第59−57234号に開示されているよう
なかぶり防止剤が好ましい。An antifoggant may be contained in such a light-sensitive material. The most effective antifoggant was mercury ion. The use of mercury compounds as antifoggants in light-sensitive materials is described, for example, in US Pat.
No. 03. However, mercury compounds are environmentally unfavorable. As the non-mercury antifoggant, antifoggants such as those disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,454,075 and 4,452,885 and Japanese Patent Publication No. 59-57234 are preferred.
【0192】特に好ましい非水銀かぶり防止剤は、米国
特許第3874946号及び4756999号に開示さ
れているような化合物、−C(X1 )(X2 )(X3 )
(ここでX1 及びX2 はハロゲン(例えば、F、Cl、
Br及びI)でX3 は水素又はハロゲン)で表される1
以上の置換基を備えたヘテロ環状化合物である。好適な
かぶり防止剤の例としては次のものがある。Particularly preferred non-mercury antifoggants are compounds such as those disclosed in US Pat. Nos. 3,874,946 and 4,756,999, --C (X 1 ) (X 2 ) (X 3 ).
(Where X 1 and X 2 are halogens (eg, F, Cl,
In Br and I), X 3 is represented by hydrogen or halogen) 1
It is a heterocyclic compound having the above substituents. Examples of suitable antifoggants include:
【0193】[0193]
【化44】 Embedded image
【0194】[0194]
【化45】 Embedded image
【0195】更により好適なかぶり防止剤は米国特許第
5028523号及び英国特許出願第9222138
3.4号、9300147.7号、9311790.1
号に開示されている。Even more preferred antifoggants are US Pat. No. 5,028,523 and British Patent Application No. 9222138.
3.4, 9300147.7, 93111790.1
Issue.
【0196】本発明の熱現像感光材料には、例えば特開
昭63−159841号、同60−140335号、同
63−231437号、同63−259651号、同6
3−304242号、同63−15245号、米国特許
4639414号、同4740445号、同47419
66号、同4751175号、同4835096号に記
載された増感色素が使用できる。The photothermographic material of the present invention includes, for example, JP-A-63-159841, JP-A-60-140335, JP-A-63-231437, JP-A-63-259651 and JP-A-6-259435.
3-304242, 63-15245, U.S. Pat. Nos. 4639414, 4740445 and 47419.
Sensitizing dyes described in JP-A Nos. 66, 4751175 and 48335096 can be used.
【0197】本発明に使用される有用な増感色素は例え
ば RESEARCH DISCLOSURE I tem 17643IV−A項
(1978年12月p.23)、同 I tem1831X項
(1978年8月p.437)に記載もしくは引用され
た文献に記載されている。Useful sensitizing dyes used in the present invention are described in, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 17643 IV-A (Dec. 1978, p. 23) and I tem Item 1831X (Aug. 1978, p. 437). It is described in the cited documents.
【0198】特に各種スキャナー光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。Especially, a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various scanner light sources can be advantageously selected.
【0199】例えば A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−1
62247号、特開平2−48653号、米国特許2,
161,331号、西独特許936,071号、特願平
3−189532号記載のシンプルメロシアニン類、
B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭
50−62425号、同54−18726号、同59−
102229号に示された三核シアニン色素類、特願平
6−103272号に示されたメロシアニン類、C)L
ED光源及び赤色半導体レーザーに対しては特公昭48
−42172号、同51−9609号、同55−398
18号へ特開昭62−284343号、特開平2−10
5135号に記載されたチアカルボシアニン類、D)赤
外半導体レーザー光源に対しては特開昭59−1910
32号、特開昭60−80841号に記載されたトリカ
ルボシアニン類、特開昭59−192242号、特開平
3−67242号の一般式(IIIa)、一般式(IIIb)に
記載された4−キノリン核を含有するジカルボシアニン
類などが有利に選択される。For example, as for A) an argon laser light source, Japanese Patent Laid-Open No. 60-1
No. 62247, JP-A-2-48653, U.S. Pat.
No. 161,331, West German Patent 936,071, Simple Merocyanines described in Japanese Patent Application No. 3-189532,
B) For a helium-neon laser light source, see JP-A-50-62425, JP-A-54-18726, and JP-A-59-62426.
Trinuclear cyanine dyes described in JP-A-102229, merocyanines described in Japanese Patent Application No. 6-103272, C) L
Japanese Patent Publication No. 48 for ED light source and red semiconductor laser
-42172, 51-9609, 55-398
No. 18, JP-A-62-284343, JP-A-2-10
JP-A-59-1910 for thiacarbocyanines described in 5135 and D) infrared semiconductor laser light source.
32, the tricarbocyanines described in JP-A-60-80841, and the tricarbocyanines described in JP-A-59-192242 and JP-A-3-67242, the general formula (IIIa) and the general formula (IIIb). -Dicarbocyanines and the like containing a quinoline nucleus are advantageously selected.
【0200】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used especially for the purpose of supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization.
【0201】本発明の熱現像感光材料の露光は、Arレ
ーザー(488nm)、He−Neレーザー(633n
m)、赤色半導体レーザー(670nm)、赤外半導体レ
ーザー(780nm、830nm)などが好ましい。Exposure of the photothermographic material of the present invention is carried out by Ar laser (488 nm), He-Ne laser (633n).
m), red semiconductor laser (670 nm), infrared semiconductor laser (780 nm, 830 nm) and the like are preferable.
【0202】本発明の熱現像感光材料にはハレーション
防止層として、染料を含有する層を設ける事ができる。
Arレーザー、He−Neレーザー、赤色半導体レーザ
ー用には400nm〜750nmの範囲で、露光波長に少な
くとも0.3以上、好ましくは0.8以上の吸収となる
ように染料を添加する。赤外半導体レーザー用には75
0nm〜1500nmの範囲で、露光波長に少なくとも0.
3以上、好ましくは0.8以上の吸収となるように染料
を添加する。染料は1種でも数種を組み合わせても良
い。The photothermographic material of the invention may be provided with a layer containing a dye as an antihalation layer.
For Ar laser, He-Ne laser, and red semiconductor laser, a dye is added so as to absorb at least 0.3 or more, preferably 0.8 or more at the exposure wavelength in the range of 400 nm to 750 nm. 75 for infrared semiconductor lasers
In the range of 0 nm to 1500 nm, the exposure wavelength is at least 0.1 nm.
The dye is added so as to have an absorption of 3 or more, preferably 0.8 or more. One or more dyes may be used in combination.
【0203】該染料は感光層と同じ側の支持体に近い染
料層あるいは、感光層と反対側の染料層に添加する事が
できる。The dye can be added to the dye layer near the support on the same side as the photosensitive layer or to the dye layer on the side opposite to the photosensitive layer.
【0204】本発明で用いられる支持体は、紙、合成
紙、合成樹脂(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン)をラミネートした紙、プラスチック
フィルム(例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリ
アセテート)、金属板(例えば、アルミニウム、アルミ
ニウム合金、亜鉛、鉄、銅)、上記のような金属がラミ
ネートあるいは蒸着された紙やプラスチックフィルムな
どが用いられる。The support used in the present invention is paper, synthetic paper, paper laminated with synthetic resin (eg polyethylene, polypropylene, polystyrene), plastic film (eg polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate). A metal plate (for example, aluminum, aluminum alloy, zinc, iron, copper), paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the above metals is used.
【0205】一方、プラスチックフィルムを熱現像機に
通すとフィルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料として
使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大
な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さいフィ
ルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や熱処理したポリエ
チレンなどがある。ガラス転移点の高いものも好まし
く、ポリエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリス
ルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート等
が使用できる。On the other hand, when the plastic film is passed through a heat developing machine, the size of the film expands and contracts. When used as a printing photosensitive material, this expansion and contraction is a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change. For example, there are a styrene-based polymer having a syndiotactic structure and a heat-treated polyethylene. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyether sulfone, polyarylate and the like can be used.
【0206】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound or a thione compound is contained for the purpose of suppressing or accelerating the development to control the development, improving the spectral sensitization efficiency, and improving the storage stability before and after the development. be able to.
【0207】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでも良いが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフスイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフスオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾー
ル、ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テト
ラゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラ
ジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノン
である。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例え
ば、BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキ
シ、アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましく
は1〜4個の炭素原子を有するもの)およびアルコキシ
(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の
炭素原子を有するもの)からなる置換基群から選択され
るものを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合
物をとしては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2
−メルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベン
ゾチアゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミ
ダゾール、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾ
ール、2,2′−ジチオビス−(ベンゾチアゾール、3
−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、4,5−ジ
フェニル−2−イミダゾールチオール、2−メルカプト
イミダゾール、1−エチル−2−メルカプトベンズイミ
ダゾール、2−メルカプトキノリン、8−メルカプトプ
リン、2−メルカプト−4−(3H)−キナゾリノン、
7−トリフルオロメチル−4−キノリンチオール、2,
3,5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール、4
−アミノ−6−ヒドロキシ−2−メルカプトピリジンモ
ノヒドレート、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,
4−チアジアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−
1,2,4−トリアゾール、4−ヒドキロシ−2−メル
カプトピリミジン、2−メルカプトピリミジン、4,6
−ジアミノ−2−メルカプトピリミジン、2−メルカプ
ト−4−メチルピリミジンヒドロクロリド、3−メルカ
プト−5−フェニル−1,2,4−トリアゾール、2−
メルカプト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げられ
るが、本発明はこれらに限定されない。When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but Ar-SM, Ar
Those represented by -SS-Ar are preferred. In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or a condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, nafusuimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine. , Pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. The heteroaromatic ring is, for example, halogen (eg Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy, alkyl (eg having 1 or more carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms) and alkoxy ( For example, it may have one selected from the group of substituents consisting of one or more carbon atoms, preferably having 1 to 4 carbon atoms). Examples of the mercapto-substituted heteroaromatic compound include 2-mercaptobenzimidazole and 2
-Mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2,2'-dithiobis- (benzothiazole, 3
-Mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolthiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline, 8-mercaptopurine, 2-mercapto -4- (3H) -quinazolinone,
7-trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,
3,5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4
-Amino-6-hydroxy-2-mercaptopyridine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3
4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-
1,2,4-triazole, 4-hydrocicy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6
-Diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 2-
Examples include mercapto-4-phenyloxazole, but the present invention is not limited thereto.
【0208】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの
範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル当たり
0.01〜0.3モルの量である。The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer, and more preferably 0.01 to 0.3 mol per mol of silver. Is the amount of.
【0209】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており例えば、リサーチデ
ィスクロージャー1978年6月の第17029号、お
よび米国特許第3,700,458号に記載されている
方法を用いることができる。本発明で用いることのでき
る具体的な方法としては、調製された有機銀塩中にハロ
ゲン含有化合物を添加することにより有機銀塩の銀の一
部を感光性ハロゲン化銀に変換する方法、ゼラチンある
いは他のポリマー溶液の中に銀供給化合物及びハロゲン
供給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀粒
子を調製し有機銀塩と混合する方法を用いることができ
る。本発明において好ましくは後者の方法を用いること
ができる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形
成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ま
しく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.
01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.0
2μm以上0.12μm以下がよい。ここでいう粒子サ
イズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八面体の
いわゆる正常晶である場合にはハロゲン化銀粒子の稜の
長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子であ
る場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換算した
ときの直径をいう。その他正常晶でない場合、たとえば
球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の
体積と同等な球を考えたときの直径をいう。The method of forming the photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art and described in, for example, Research Disclosure, June 1978, No. 17029, and US Pat. No. 3,700,458. Can be used. As a specific method that can be used in the present invention, a method of converting a part of silver of the organic silver salt into a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin, Alternatively, a method in which a photosensitive silver halide grain is prepared by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to another polymer solution and mixed with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation to be low, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.1 μm or less.
01 μm or more and 0.15 μm or less, more preferably 0.01 μm or less
The thickness is preferably 2 μm or more and 0.12 μm or less. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.
【0210】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましくは50:1〜3:
1がよい。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まっ
た粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン
化銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特
に制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増
感効率が高い{100}面の占める割合が高いことが好
ましい。その割合としては50%以上が好ましく、65
%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミ
ラー指数{100}面の比率は増感色素の吸着における
{111}面と{100}面との吸着依存性を利用した
T.Tani;J.Imaging Sci.,29、165(1985年)に
記載の方法により求めることができる。感光性ハロゲン
化銀のハロゲン組成としては特に制限はなく、塩化銀、
塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、ヨウ化
銀のいずれであっても良いが、本発明においては臭化
銀、あるいはヨウ臭化銀を好ましく用いることができ
る。特に好ましくはヨウ臭化銀であり、ヨウ化銀含有率
は0.1モル%以上40モル%以下が好ましく、0.1
モル%以上20モル%以下がより好ましい。粒子内にお
けるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロゲ
ン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは連
続的に変化したものでもよいが、好ましい例として粒子
内部のヨウ化銀含有率の高いヨウ臭化銀粒子を使用する
ことができる。また、好ましくはコア/シェル構造を有
するハロゲン化銀粒子を用いることができる。構造とし
ては好ましくは2〜5重構造、より好ましくは2〜4重
構造のコア/シェル粒子を用いることができる。The shape of silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3:
1 is good. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited. However, the spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more.
% Or more, more preferably 80% or more. The ratio of Miller index {100} planes is based on the adsorption dependence of {111} planes and {100} planes in the adsorption of sensitizing dyes.
It can be determined by the method described in T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985). The halogen composition of the photosensitive silver halide is not particularly limited, and silver chloride,
It may be any of silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide and silver iodide, but in the present invention, silver bromide or silver iodobromide is preferably used. it can. Particularly preferred is silver iodobromide, and the silver iodide content is preferably from 0.1 mol% to 40 mol%,
More preferably, it is at least 20 mol% and not more than 20 mol%. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be changed continuously, but as a preferable example, the silver iodide content inside the grains is High silver iodobromide grains can be used. Preferably, silver halide grains having a core / shell structure can be used. As the structure, core / shell particles having preferably a 2- to 5-layer structure, more preferably a 2- to 4-layer structure, can be used.
【0211】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、ロジ
ウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、イリジウ
ム、コバルトまたは鉄から選ばれる金属の錯体を少なく
とも一種含有することが好ましい。これら金属錯体は1
種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を二種以
上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1
nモルから10mモルの範囲が好ましく、10nモルか
ら100μモルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯
体の構造としては特開平7−225449号等に記載さ
れた構造の金属錯体を用いることができる。コバルト、
鉄の化合物については六シアノ金属錯体を好ましく用い
ることができる。具体例としては、フェリシアン酸イオ
ン、フェロシアン酸イオン、ヘキサシアのコバルト酸イ
オンなどが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。ハロゲン化銀中の金属錯体の含有相は均一でも、
コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシェル部
に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。The photosensitive silver halide grain of the present invention preferably contains at least one metal complex selected from rhodium, rhenium, ruthenium, osmium, iridium, cobalt or iron. These metal complexes are 1
One kind may be used, or two or more kinds of same metal and different metal complexes may be used in combination. The preferred content is 1 per mol of silver
The range is preferably from nmol to 10 mmol, more preferably from 10 nmol to 100 μmol. As a specific structure of the metal complex, a metal complex having a structure described in JP-A-7-225449 or the like can be used. cobalt,
For the iron compound, a hexacyano metal complex can be preferably used. Specific examples thereof include, but are not limited to, ferricyanate ion, ferrocyanate ion, and hexasiacobaltate ion. Even if the phase containing the metal complex in the silver halide is homogeneous,
It may be contained in the core portion at a high concentration, or may be contained in the shell portion at a high concentration without any particular limitation.
【0212】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することがでいるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。The photosensitive silver halide grains may be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method and a flocculation method. In the present invention, it may be desalted or not. Good.
【0213】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好まし
く用いられる化合物としては公知の化合物を用いること
ができるが、特開平7−128768号等に記載の化合
物を使用することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス(オキシカルボニル)テル
リド類、ビス(カルバモイル)テルリド類、ジアシルテ
ルリド類、ビス(オキシカルボニル)ジテルリド類、ビ
ス(カルバモイル)ジテルリド類、P=Te結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテ
ルロカルボン酸エステル類、ジ(ポリ)テルリド類、テ
ルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロ
スルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Te
ヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合
物、コロイ状テルルなどを用いることができる。貴金属
増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩化
金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオ
シアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許
2,448,060号、英国特許618,061号など
に記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン
酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミ
ノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラ
ン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いる
ことができる。また、乳剤のpHを7以上またはpAgを
8.3以下に保持して熟成することにより還元増感する
ことができる。また、粒子形成中に銀イオンのシングル
アディション部分を導入することにより還元増感するこ
とができる。The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably chemically sensitized. As a preferred chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, and a tellurium sensitization method are well known in the art. Further, a noble metal sensitization method or a reduction sensitization method of a gold compound, platinum, palladium, an iridium compound or the like can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds can be used, and the compounds described in JP-A-7-128768 can be used. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyl tellurocarboxylic acid esters, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, and Te
Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium and the like can be used. Compounds preferably used in the noble metal sensitization method are described in, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, or US Pat. No. 2,448,060 and British Patent 618,061. The compounds described above can be preferably used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Further, reduction sensitization can be carried out by ripening while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or pAg at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.
【0214】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.0
1モル0.5モル以下が好ましく、0.02モル以上
0.3モル以下がより好ましく、0.03モル以上0.
25モル以下が特に好ましい。別々に調製した感光性ハ
ロゲン化銀と有機銀塩の混合方法及び混合条件について
は、それぞれ調製終了したハロゲン化銀粒子と有機銀塩
を高速撹拌機やボールミル、サンドミル、コロイドミ
ル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合する方法や、あ
るいは有機銀塩の調製中のいずれかのタイミングで調製
終了した感光性ハロゲン化銀を混合して有機銀塩を調製
する方法等があるが、本発明の効果が十分に現れる限り
においては特に制限はない。The photosensitive silver halide of the present invention is used in such an amount that the photosensitive silver halide is 0.0 per mol of the organic silver salt.
1 mol is preferably 0.5 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, and 0.03 mol or more and 0.1 mol or less.
Particularly preferred is 25 mol or less. Regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and organic silver salt, the prepared silver halide particles and organic silver salt were mixed with a high-speed stirrer, ball mill, sand mill, colloid mill, vibration mill, homogenizer, etc. Etc., or a method of preparing an organic silver salt by mixing photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt. There is no particular limitation as long as it appears in.
【0215】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感
光性ハロゲン化銀の潜像など)および還元剤の存在下
で、80℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀画像
を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元でき
る源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀
塩、特に( 炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の) 長鎖
脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子が4.0 〜10.0
の範囲の錯安定定数を有する有機または無機銀塩の錯体
も好ましい。銀供給物質は、好ましくは画像形成層の約
5〜30重量% を構成することができる。好ましい有機銀
塩はカルボキシル基を有する有機化合物の銀塩を含む。
これらの例は、脂肪族カルボン酸の銀塩および芳香族カ
ルボン酸の銀塩を含むがこれらに限定されることはな
い。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例としては、ベ
ヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸
銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、
マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸銀、
酪酸銀および樟脳酸銀、これらの混合物などを含む。Organic silver salts usable in the present invention are
Relatively stable to light, but forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a reducing agent It is a silver salt. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, especially silver salts of long-chain fatty carboxylic acids (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms) are preferred. Ligands 4.0-10.0
Also preferred are complexes of organic or inorganic silver salts having a complex stability constant in the range of The silver donor can preferably comprise about 5 to 30% by weight of the imaging layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group.
Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of an aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate,
Silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate,
Includes silver butyrate and camphorate, mixtures thereof and the like.
【0216】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3-メルカプト-4
- フェニル-1,2,4- トリアゾールの銀塩、2-メルカプト
ベンズイミダゾールの銀塩、2-メルカプト-5- アミノチ
アジアゾールの銀塩、2-(エチルグリコールアミド)ベ
ンゾチアゾールの銀塩、S-アルキルチオグリコール酸(
ここでアルキル基の炭素数は12〜22である) の銀塩など
のチオグリコール酸の銀塩、ジチオ酢酸の銀塩などのジ
チオカルボン酸の銀塩、チオアミドの銀塩、5-カルボキ
シル-1- メチル-2- フェニル-4- チオピリジンの銀塩、
メルカプトトリアジンの銀塩、2-メルカプトベンズオキ
サゾールの銀塩、米国特許第4123274 号に記載の銀塩、
例えば3-アミノ-5- ベンジルチオ-1,2,4- チアゾールの
銀塩などの1,2,4-メルカプトチアゾール誘導体の銀塩、
米国特許第3301678 号に記載の3-(3- カルボキシエチ
ル)-4-メチル-4- チアゾリン-2- チオンの銀塩などのチ
オン化合物の銀塩を含む。さらに、イミノ基を含む化合
物を使用することができる。これらの化合物の好ましい
例としては、ベンゾトリアゾールの銀塩およびそれらの
誘導体、例えばメチルベンゾトリアゾール銀などのベン
ゾトリアゾールの銀塩、5-クロロベンゾトリアゾール銀
などのハロゲン置換ベンゾトリアゾールの銀塩、米国特
許第4220709 号に記載のような1,2,4-トリアゾールまた
は1-H-テトラゾールの銀塩、イミダゾールおよびイミダ
ゾール誘導体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第47
61361 号および同第4775613 号に記載のような種々の銀
アセチリド化合物を使用することもできる。Silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and derivatives thereof can also be used.
Preferred examples of these compounds include 3-mercapto-4
-Silver salt of phenyl-1,2,4-triazole, silver salt of 2-mercaptobenzimidazole, silver salt of 2-mercapto-5-aminothiadiazole, silver salt of 2- (ethylglycolamido) benzothiazole, S- Alkyl thioglycolic acid (
Wherein the alkyl group has 12 to 22 carbon atoms), such as silver salts of thioglycolic acid, silver salts of dithiocarboxylic acids such as silver salts of dithioacetic acid, silver salts of thioamide, 5-carboxyl-1 -Methyl-2-phenyl-4-thiopyridine silver salt,
Silver salt of mercaptotriazine, silver salt of 2-mercaptobenzoxazole, silver salt described in U.S. Pat. No. 4,123,274,
For example, a silver salt of a 1,2,4-mercaptothiazole derivative such as a silver salt of 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-thiazole,
Includes silver salts of thione compounds such as the silver salt of 3- (3-carboxyethyl) -4-methyl-4-thiazoline-2-thione described in US Pat. No. 3,301,678. Furthermore, compounds containing an imino group can be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof, for example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazoles such as silver 5-chlorobenzotriazole, U.S. Pat. No. 4,220,709, and silver salts of 1,2,4-triazole or 1-H-tetrazole, silver salts of imidazole and imidazole derivatives, and the like. For example, US Pat.
Various silver acetylide compounds such as those described in 61361 and 4775613 can also be used.
【0217】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。感光性ハロゲン化銀感光材料でよく知
られているように銀塩結晶粒子のサイズとその被覆力の
間の反比例の関係は本発明における熱現像感光材料にお
いても成立するため、即ち熱現像感光材料の画像形成部
である有機銀塩粒子が大きいと被覆力が小さく画像濃度
が低くなることを意味することから有機銀塩のサイズを
小さくすることが必要である。本発明においては短軸0.
01μm 以上0.20μm 以下、長軸0.10μm 以上5.0 μm 以
下が好ましく、短軸0.0 1 μm 以上0.15μm 以下、長軸
0.10μm 以上4.0 μm 以下がより好ましい。有機銀塩の
粒子サイズ分布は単分散であることが好ましい。単分散
とは短軸、長軸それぞれの長さの標準偏差を短軸、長軸
それぞれで割った値の百分率が好ましくは100%以下、よ
り好ましくは80% 以下、更に好ましくは50% 以下であ
る。有機銀塩の形状の測定方法としては有機銀塩分散物
の透過型電子顕微鏡像より求めることができる。単分散
性を測定する別の方法として、有機銀塩の体積荷重平均
直径の標準偏差を求める方法があり、体積荷重平均直径
で割った値の百分率(変動係数)が好ましくは100%以
下、より好ましくは80% 以下、更に好ましくは50% 以下
である。測定方法としては例えば液中に分散した有機銀
塩にレーザー光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変
化に対する自己相関関数を求めることにより得られた粒
子サイズ(体積荷重平均直径)から求めることができ
る。The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but needle crystals having a short axis and a long axis are preferable. As is well known in photosensitive silver halide photosensitive materials, the inversely proportional relationship between the size of silver salt crystal grains and their covering power also holds in the photothermographic material of the present invention, that is, the photothermographic material When the size of the organic silver salt particles in the image forming section is large, it means that the covering power is small and the image density is low. Therefore, it is necessary to reduce the size of the organic silver salt. In the present invention, the minor axis is 0.
01 μm or more and 0.20 μm or less, long axis 0.10 μm or more and 5.0 μm or less, short axis 0.01 1 μm or more and 0.15 μm or less, long axis
It is more preferably 0.10 μm or more and 4.0 μm or less. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodisperse is the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the length of each of the short axis and the long axis by each of the short axis and the long axis, preferably 100% or less, more preferably 80% or less, further preferably 50% or less. is there. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method of measuring monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage of the value divided by the volume-weighted average diameter (coefficient of variation) is preferably 100% or less, more preferably It is preferably at most 80%, more preferably at most 50%. As a measuring method, for example, the organic silver salt dispersed in a liquid is irradiated with laser light, and the particle size (volume weight average diameter) obtained by obtaining an autocorrelation function with respect to a time change of the fluctuation of the scattered light is obtained. Can be.
【0218】本発明における熱現像写真感光性材料は、
支持体の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤
を含む感光性層を有し、他方の側にバッキング層を有す
る、いわゆる片面感光材料であることが好ましい。The heat-developable photographic light-sensitive material of the present invention comprises
A so-called one-sided light-sensitive material having a photosensitive layer containing at least one silver halide emulsion on one side of a support and a backing layer on the other side is preferred.
【0219】本発明において片面感光材料は、搬送性改
良のためにマット剤を添加しても良い。マット剤は、一
般に水に不溶性の有機または無機化合物の微粒子であ
る。マット剤としては任意のものを使用でき、例えば米
国特許第1,939,213号、同2,701,245
号、同2,322,037号、同3,262,782
号、同3,539,344号、同3,767,448号
等の各明細書に記載の有機マット剤、同1,260,7
72号、同2,192,241号、同3,257,20
6号、同3,370,951号、同3,523,022
号、同3,769,020号等の各明細書に記載の無機
マット剤など当業界で良く知られたものを用いることが
できる。例えば具体的にはマット剤として用いることの
できる有機化合物の例としては、水分散性ビニル重合体
の例としてポリメチルアクリレート、ポリメチルメタク
リレート、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリル−
α−メチルスチレン共重合体、ポリスチレン、スチレン
−ジビニルベンゼン共重合体、ポリビニルアセテート、
ポリエチレンカーボネート、ポリテトラフルオロエチレ
ンなど、セルロース誘導体の例としてはメチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロ
ピオネートなど、澱粉誘導体の例としてカルボキシ澱
粉、カルボキシニトロフェニル澱粉、尿素−ホルムアル
デヒド−澱粉反応物など、公知の硬化剤で硬化したゼラ
チンおよびコアセルベート硬化して微少カプセル中空粒
体とした硬化ゼラチンなど好ましく用いることができ
る。無機化合物の例としては二酸化珪素、二酸化チタ
ン、二酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリ
ウム、炭酸カルシウム、公知の方法で減感した塩化銀、
同じく臭化銀、ガラス、珪藻土などを好ましく用いるこ
とができる。上記のマット剤は必要に応じて異なる種類
の物質を混合して用いることができる。マット剤の大き
さ、形状に特に限定はなく、任意の粒径のものを用いる
ことができる。本発明の実施に際しては0.1μm〜3
0μmの粒径のものを用いるのが好ましい。また、マッ
ト剤の粒径分布は狭くても広くても良い。一方、マット
剤は感材のヘイズ、表面光沢に大きく影響することか
ら、マット剤作製時あるいは複数のマット剤の混合によ
り、粒径、形状および粒径分布を必要に応じた状態にす
ることが好ましい。In the present invention, a matting agent may be added to the one-sided photosensitive material in order to improve transportability. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. Any matting agent can be used, for example, US Pat. Nos. 1,939,213 and 2,701,245.
No. 2,322,037, No. 3,262,782
No. 3,539,344, No. 3,767,448 and the like, organic matting agents described in each specification, Nos. 1,260,7.
72, 2,192,241, 3,257,20
No. 6, No. 3,370,951, No. 3,523,022
Nos. 3,769,020 and the like, which are well known in the art, such as the inorganic matting agents described in the respective specifications can be used. For example, specific examples of organic compounds that can be used as a matting agent include polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, and acrylonitrile as examples of water-dispersible vinyl polymers.
α-methylstyrene copolymer, polystyrene, styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate,
Examples of known cellulose derivatives such as polyethylene carbonate and polytetrafluoroethylene, such as methylcellulose, cellulose acetate and cellulose acetate propionate, and examples of starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl starch and urea-formaldehyde-starch reactants Gelatin hardened with a hardener and hardened gelatin obtained by coacervate hardening to form hollow microcapsules can be preferably used. Examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide, aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by known methods,
Similarly, silver bromide, glass, diatomaceous earth and the like can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, 0.1 μm to 3 μm
It is preferable to use one having a particle size of 0 μm. Further, the particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, since the matting agent has a great influence on the haze and surface gloss of the light-sensitive material, the particle size, shape, and particle size distribution can be adjusted to the required state during the preparation of the matting agent or by mixing a plurality of matting agents. preferable.
【0220】本発明においてバッキング層のマット度と
してはベック平滑度が250秒以下10秒以上が好まし
く、さらに好ましくは180秒以下50秒以上である。In the present invention, the Bekk smoothness of the backing layer is preferably 250 seconds or less and 10 seconds or more, and more preferably 180 seconds or less and 50 seconds or more.
【0221】本発明において、マット剤は感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer or the layer functioning as the outermost surface layer of the light-sensitive material, or in the layer close to the outer surface, and in the layer acting as a so-called protective layer. It is preferably contained.
【0222】本発明においてバッキング層の好適なバイ
ンダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポ
リマー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセル
ロース、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デ
ンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類(例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)及びポリ(ビニルブチラール)、ポリ
(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ樹
脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)類、
ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテート)、
セルロースエステル類、ポリ(アミド)類がある。バイ
ンダーは水又は有機溶媒またはエマルジョンから被覆形
成してもよい。Suitable binders for the backing layer in the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymers such as synthetic resins, polymers and copolymers and other film forming media such as: gelatin, gum arabic, poly (vinyl). Alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinylpyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methylmethacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s (for example, poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral), poly (ester) s, poly Urethanes), phenoxy resins, poly (vinylidene chloride), poly (epoxides),
Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate),
There are cellulose esters and poly (amides). The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
【0223】本発明においてバッキング層は、所望の波
長範囲での最大吸収が0.3以上2以下であることが好
ましく、さらに好ましくは0.5以上2以下のIR吸収
であり、かつ可視領域においての吸収が0.001以上
0.5未満であることが好ましく、さらに好ましくは
0.001以上0.3未満の光学濃度を有するハレーシ
ョン防止層であることが好ましい。In the present invention, the backing layer preferably has a maximum absorption of 0.3 or more and 2 or less in a desired wavelength range, more preferably 0.5 or more and 2 or less of IR absorption, and in the visible region. Is preferably 0.001 or more and less than 0.5, and more preferably an antihalation layer having an optical density of 0.001 or more and less than 0.3.
【0224】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、該染料は所望の波長範囲で目的の吸収を有し、可
視領域での吸収が充分少なく、上記バッキング層の好ま
しい吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合
物でも良い。例えば、特開平7−13295号、米国特
許5,380,635号記載の化合物、特開平2−68
539号公報第13頁左下欄1行目から同第14頁左下
欄9行目、同3−24539号公報第14頁左下欄から
同第16頁右下欄記載の化合物があげられるが、本発明
はこれに限定されるものではない。When the antihalation dye is used in the present invention, the dye has a desired absorption in a desired wavelength range and has a sufficiently small absorption in the visible region, and a preferable absorbance spectrum shape of the backing layer can be obtained. Any compound can be used. For example, compounds described in JP-A-7-13295, U.S. Pat. No. 5,380,635, and JP-A-2-68.
Compounds described in JP-A-539 / 1993, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column, line 9 and JP-A-3-24539, page 14, lower left column to page 16, right lower column can be mentioned. The invention is not limited to this.
【0225】米国特許第4,460,681号および同
際4,374,921号に示されるような裏面抵抗性加
熱層(backside resistive heating layer)を感光性熱現
像写真画像系に使用することもできる。A backside resistive heating layer such as those shown in US Pat. No. 4,460,681 and 4,374,921, may also be used in the photothermographic image system. it can.
【0226】本発明における感光材料は画像形成層の付
着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。
表面保護層としては、いかなる付着防止材料を使用して
もよい。付着防止材料の例としては、ワックス、シリカ
粒子、スチレン含有エラストマー性ブロックコポリマー
(例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン
−イソプレン−スチレン)、酢酸セルロース、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースプロピオネートや
これらの混合物などがある。The light-sensitive material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer.
Any anti-adhesion material may be used as the surface protective layer. Examples of anti-adhesion materials include waxes, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers (eg, styrene-butadiene-styrene, styrene-isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate, and the like. And mixtures.
【0227】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には、米国特許第3,253,921号、同第2,
274,782号、同第2,527,583号および同
第2,956,879号に記載されているような光吸収
物質およびフィルター染料を含む写真要素において使用
することができる。また、例えば米国特許第3,28
2,699号に記載のように染料を媒染することができ
る。The emulsion layer or the protective layer for the emulsion layer according to the present invention is described in US Pat.
It can be used in photographic elements containing light absorbing materials and filter dyes such as those described in U.S. Pat. Nos. 274,782, 2,527,583 and 2,956,879. See also, for example, U.S. Pat.
The dye can be mordant as described in 2,699.
【0228】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には、艶消剤、例えばデンプン、二酸化チタン、酸
化亜鉛、シリカ、米国特許第2,992,101号およ
び同第2,701,245号に記載された種類のビーズ
を含むポリマービーズなどを含有することができる。ま
た、乳剤面のマット度は星屑故障が生じなければいかよ
うでも良いが、ベック平滑度が1000秒以上1000
0秒以下が好ましく、特に2000秒以上10000秒
以下が好ましい。In the emulsion layer or the protective layer of the emulsion layer in the present invention, a matting agent such as starch, titanium dioxide, zinc oxide, silica, US Pat. Nos. 2,992,101 and 2,701,245. Polymer beads, including beads of the type described in 1., and the like can be included. Further, the matt degree of the emulsion surface may be any value as long as stardust failure does not occur.
0 second or less is preferable, and especially 2000 to 10000 second is preferable.
【0229】本発明における乳剤層のバインダーとして
は、よく知られている天然または合成樹脂、例えば、ゼ
ラチン、ポリビニルアセタール、ポリビニルクロリド、
ポリビニルアセテート、セルロースアセテート、ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリロ
ニトリル、ポリカーボネートなどから任意のものを選択
することができる。当然ながら、コポリマーおよびター
ポリマーも含まれる。好ましいポリマーは、ポリビニル
ブチラール、ブチルエチルセルロース、メタクリレート
コポリマー、無水マレイン酸エステルコポリマー、ポリ
スチレンおよびブタジエン−スチレンコポリマーであ
る。必要に応じて、これらのポリマーを2種またはそれ
以上組合せて使用することができる。そのようなポリマ
ーは、成分をその中に保持するのに十分な量で使用され
る。すなわち、バインダーとして機能するのに効果的な
範囲で使用される。硬化的な範囲は、当業者が適切に決
定することができる。少なくとも有機銀塩を保持する場
合の目安として、バインダー対有機銀塩の割合は、1
5:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範囲が好まし
い。As the binder for the emulsion layer in the invention, well-known natural or synthetic resins such as gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride,
Any one can be selected from polyvinyl acetate, cellulose acetate, polyolefin, polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate and the like. Of course, copolymers and terpolymers are also included. Preferred polymers are polyvinyl butyral, butylethyl cellulose, methacrylate copolymers, maleic anhydride copolymers, polystyrene and butadiene-styrene copolymers. If necessary, two or more of these polymers can be used in combination. Such a polymer is used in an amount sufficient to hold the components therein. That is, it is used in a range effective to function as a binder. The curable range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is 1
The range of 5: 1 to 1: 2, particularly 8: 1 to 1: 1 is preferred.
【0230】ハロゲン化銀乳剤層及びその他の親水性コ
ロイド層のバインダーとしては、特開平2−18542
号公報第3頁右下1行目から20行目に記載のバインダ
ーが用いられる。As a binder for the silver halide emulsion layer and other hydrophilic colloid layers, JP-A-2-18542 is known.
The binders described in the lower right line 1st to 20th lines of page 3 of the publication are used.
【0231】[0231]
【効果】超硬調で、Dmax が高く、黒点の発生が防止さ
れる。[Effect] Ultra-high contrast, high Dmax, and generation of black spots is prevented.
【0232】[0232]
実施例1 《有機酸銀乳剤の調製》ベヘン酸840g、ステアリン
酸95gを12リットルの水に添加し90℃に保ちなが
ら、水酸化ナトリウム48g、炭酸ナトリウム63gを
1.5リットルの水に溶解したものを添加した。30分
撹拌した後50℃とし、N−ブロモスクシンイミド1%
水溶液1.1リットルを添加し、次いで硝酸銀17%水
溶液2.3リットルを撹拌しながら徐々に添加した。さ
らに液温を35℃とし、撹拌しながら臭化カリウム2%
水溶液1.5リットルを2分間かけて添加した後30分
間撹拌し、N−ブロモスクシンイミド1%水溶液2.4
リットルを添加した。この水系混合物に撹拌しながら
1.2重量%ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチル溶液3300
gを加えた後10分間静置し2層に分離させ水層を取り
除き、さらに残されたゲルを水で2回洗浄した。こうし
て得られたゲル状のベヘン酸/ステアリン酸銀および臭
化銀の混合物をポリビニルブチラール(電気化学工業
(株)製デンカブチラール♯3000−K)の2.6%
イソプロピルアルコール溶液1800gで分散し、さら
にポリビニルブチラール(電気化学工業(株)製デンカ
ブチラール♯4000−2)600g、イソプロピルア
ルコール300gと共に分散し有機酸銀塩乳剤(平均短
径0.05μm、平均長径1.2μm、変動係数25%
の針状粒子)を得た。Example 1 << Preparation of Organic Acid Silver Emulsion >> 840 g of behenic acid and 95 g of stearic acid were added to 12 liters of water and 48 g of sodium hydroxide and 63 g of sodium carbonate were dissolved in 1.5 liters of water while maintaining the temperature at 90 ° C. Stuff was added. After stirring for 30 minutes, the temperature is raised to 50 ° C. and N-bromosuccinimide 1%
An aqueous solution (1.1 L) was added, and then 2.3 L of a 17% silver nitrate aqueous solution was gradually added with stirring. Further, the liquid temperature was set to 35 ° C., and potassium bromide 2% while stirring.
An aqueous solution (1.5 L) was added over 2 minutes, and the mixture was stirred for 30 minutes, and a 1% aqueous solution of N-bromosuccinimide (2.4%) was added.
One liter was added. While stirring this aqueous mixture, 3300% by weight of a solution of polyvinyl acetate in butyl acetate
After adding g, the mixture was allowed to stand for 10 minutes to separate into two layers, the aqueous layer was removed, and the remaining gel was washed twice with water. The gel-like mixture of behenic acid / silver stearate and silver bromide thus obtained was mixed with 2.6% of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 3000-K manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK).
Dispersed with 1800 g of isopropyl alcohol solution, and further dispersed with 600 g of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 4000-2 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) and 300 g of isopropyl alcohol, an organic acid silver salt emulsion (average minor axis 0.05 μm, average major axis 1) 0.2 μm, coefficient of variation 25%
Needle-shaped particles).
【0233】《乳剤層塗布液の調製》上記で得た有機酸
銀乳剤に銀1モル当たり以下の量となるように各薬品を
添加した。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウム
10mg、70mgの色素a、2−メルカプト−5−メチル
ベンゾイミダゾール2g、4−クロロベンゾフェノン−
2−カルボン酸21.5gと2−ブタノン580g、ジ
メチルホルムアミド220gを撹拌しながら添加し3時
間放置した。ついで、5−トリブロモメチルスルフォニ
ル−2−メチルチアジアゾール8g、2−トリブロモメ
チルスルフォニルベンゾチアゾール6g、4,6−ジト
リクロロメチル−2−フェニルトリアジン5g、ジスル
フィド化合物aを2g、還元剤としてR−I−5を0.
3モル、超硬調化剤としてI−65を6.5×10-3モ
ル添加し、さらに、表8に示した本発明の黒点抑制剤を
5.0×10-4モル添加し、さらに、テトラクロロフタ
ル酸5g、メガファックスF−176P(大日本インキ
化学工業(株)製フッ素系界面活性剤)1.1g、2−
ブタノン590g、メチルイソブチルケトン10gを撹
拌しながら添加した。<< Preparation of Emulsion Layer Coating Solution >> Each chemical was added to the organic acid silver emulsion obtained above in the following amount per mol of silver. At 25 ° C., sodium phenylthiosulfonate 10 mg, 70 mg of dye a, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole 2 g, 4-chlorobenzophenone-
21.5 g of 2-carboxylic acid, 580 g of 2-butanone and 220 g of dimethylformamide were added with stirring, and the mixture was left for 3 hours. Next, 8 g of 5-tribromomethylsulfonyl-2-methylthiadiazole, 6 g of 2-tribromomethylsulfonylbenzothiazole, 5 g of 4,6-ditrichloromethyl-2-phenyltriazine, 2 g of disulfide compound a, and R- as a reducing agent I-5 to 0.
3 mol, 6.5 × 10 −3 mol of I-65 as an ultra-high contrast agent, 5.0 × 10 −4 mol of the black dot suppressor of the present invention shown in Table 8 were further added, and Tetrachlorophthalic acid 5 g, Megafax F-176P (Dainippon Ink and Chemicals, Inc. fluorinated surfactant) 1.1 g, 2-
Butanone (590 g) and methyl isobutyl ketone (10 g) were added with stirring.
【0234】《乳剤面保護層塗布液》CAB171−1
5S(イーストマンケミカル(株)製酢酸酪酸セルロー
ス)75g、4−メチルフタル酸5.7g、テトラクロ
ロフタル酸無水物1.5g、フタラジン12.5g、
0.3gのメガファックスF−176P、シルデックス
H31(洞海化学社製真球状シリカ平均サイズ3μm)
2g、sumidur N3500(住友バイエルウレタン社製
ポリイソシアネート)7gを2−ブタノン3070gと
酢酸エチル30gに溶解したものを調製した。<< Emulsion Surface Protective Layer Coating Solution >> CAB171-1
75 g of 5S (cellulose acetate butyrate manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.), 5.7 g of 4-methylphthalic acid, 1.5 g of tetrachlorophthalic anhydride, 12.5 g of phthalazine,
0.3 g of Megafax F-176P, Sildex H31 (average size of spherical silica manufactured by Dokai Chemical Co., Ltd., 3 μm)
2 g, 7 g of sumidur N3500 (polyisocyanate manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) dissolved in 3070 g of 2-butanone and 30 g of ethyl acetate were prepared.
【0235】《バック面を有した支持体の作成》両面が
塩化ビニリデンを含む防湿下塗りからなるポリエチレン
テレフタレートフィルム上に1m2当たり以下の塗布量と
なるように水溶液でバック層とバック面表面保護層を同
時重層塗布した。バック層塗布量はゼラチン1.5g、
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム30mg、
1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン
100mg、染料a50mg、染料b100mg、染料c30
mg、染料d50mg、プロキセル1mgであり、バック面表
面保護層はゼラチン1.5g、平均粒径2.5μmのポ
リメチルメタクリレート20mg、p−ドデシルベンゼン
スルホン酸ナトリウム15mg、ジヘキシル−α−スルホ
サクシン酸ナトリウム15mg、酢酸ナトリウム50mg、
プロキセル1mgである。<< Preparation of Support Having Back Surface >> On a polyethylene terephthalate film consisting of a moistureproof undercoat containing vinylidene chloride on both sides, a back layer and a back surface surface protective layer were prepared with an aqueous solution so that the coating amount was 1 m 2 or less. Was simultaneously multilayer coated. Back layer coating amount is 1.5 g of gelatin,
30 mg sodium p-dodecylbenzenesulfonate,
1,2-bis (vinylsulfonylacetamide) ethane 100 mg, dye a 50 mg, dye b 100 mg, dye c30
mg, dye d50 mg, proxel 1 mg, and the back surface protective layer is 1.5 g of gelatin, 20 mg of polymethylmethacrylate having an average particle size of 2.5 μm, 15 mg of sodium p-dodecylbenzenesulfonate, sodium dihexyl-α-sulfosuccinate. 15 mg, sodium acetate 50 mg,
It is 1 mg of proxel.
【0236】上記のごとく調製した支持体上に乳剤層塗
布液を銀が2g/m2となるように塗布した後、乳剤面上
に乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ2μmとなるように塗
布した。The emulsion layer coating solution was coated on the support prepared as described above so that the silver content was 2 g / m 2, and then the emulsion surface protective layer coating solution was dried on the emulsion surface to a dry thickness of 2 μm. Applied.
【0237】[0237]
【化46】 Embedded image
【0238】《写真性能の評価》633nmHe−Neレ
ーザー感光計で写真材料を露光した後、写真材料を12
0℃20秒間処理(現像)し、得られた画像の評価を濃
度計により行った。測定の結果は、Dmaxおよび特性
曲線で濃度0.3と3.0の点を結ぶ直線の傾きを階調
γとして示した。<< Evaluation of Photographic Performance >> After exposing the photographic material with a 633 nm He-Ne laser sensitometer, the photographic material was subjected to 12
The image was processed (developed) at 0 ° C. for 20 seconds, and the obtained image was evaluated by a densitometer. The result of the measurement is shown by Dmax and the gradient of the straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 in the characteristic curve as the gradation γ.
【0239】また、黒点の数は、25倍のルーペで観察
した時の直径3mmの円内に観察される黒点の数である。
黒点の数は120℃20秒と120℃30秒とで評価し
た。The number of black dots is the number of black dots observed in a circle with a diameter of 3 mm when observed with a 25-fold magnifying glass.
The number of black spots was evaluated at 120 ° C. for 20 seconds and 120 ° C. for 30 seconds.
【0240】結果を表8に示した。本発明の化合物によ
って、黒点の発生が抑制されることがわかる。The results are shown in Table 8. It can be seen that the compound of the present invention suppresses the generation of black dots.
【0241】[0241]
【表8】 [Table 8]
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成9年2月25日[Submission date] February 25, 1997
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0205[Correction target item name] 0205
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0205】一方、プラスチックフィルムを熱現像機に
通すとフィルムの寸法が伸縮する。印刷感光材料として
使用する場合、この伸縮は精密多色印刷を行う時に重大
な問題となる。よって本発明では寸法変化の小さいフィ
ルムを用いることが好ましい。例えば、シンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体や熱処理したポリエ
ステルなどがある。ガラス転移点の高いものも好まし
く、ポリエーテルエチルケトン、ポリスチレン、ポリス
ルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート等
が使用できる。On the other hand, when the plastic film is passed through a heat developing machine, the size of the film expands and contracts. When used as a printing photosensitive material, this expansion and contraction is a serious problem when performing precision multicolor printing. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a film having a small dimensional change. For example, there are a styrene-based polymer having a syndiotactic structure and a heat-treated polyester. Those having a high glass transition point are also preferable, and polyether ethyl ketone, polystyrene, polysulfone, polyether sulfone, polyarylate and the like can be used.
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0237[Correction target item name] 0237
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0237】[0237]
【化46】 Embedded image
Claims (2)
および超硬調化剤を含む熱現像感光材料において、次の
一般式で表わされる化合物を含有することを特徴とする
熱現像感光材料。 (一般式) C−L−D (ここで、Cはハロゲン化銀への吸着を促進する基を表
わし、Dは酸基を表わし、Lは二価の連結基を表わし、
C−L−Dは可視部に実質的に吸収極大を有しない。)1. A photothermographic material containing an organic silver salt, a photosensitive silver halide, a reducing agent and a super-high contrast agent, which contains a compound represented by the following general formula. . (General Formula) C-L-D (wherein C represents a group that promotes adsorption to silver halide, D represents an acid group, L represents a divalent linking group,
C-L-D has substantially no absorption maximum in the visible region. )
求項1の熱現像感光材料。2. The photothermographic material according to claim 1, wherein the ultrahigh contrast agent is a hydrazine derivative.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13084996A JPH09292674A (en) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Heat-developable photosensitive material |
US08/845,371 US5968725A (en) | 1996-04-26 | 1997-04-24 | Photothermographic photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13084996A JPH09292674A (en) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Heat-developable photosensitive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09292674A true JPH09292674A (en) | 1997-11-11 |
Family
ID=15044138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13084996A Pending JPH09292674A (en) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | Heat-developable photosensitive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09292674A (en) |
-
1996
- 1996-04-26 JP JP13084996A patent/JPH09292674A/en active Pending
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