JPH09169933A - 意匠性塗膜、その形成方法および化粧板 - Google Patents
意匠性塗膜、その形成方法および化粧板Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 上塗り層を備えた意匠性塗膜について、意匠
性が損なわれにくくする。 【解決手段】 意匠性塗膜1は、意匠性塗膜基層2と、
意匠性塗膜基層2上に配置された上塗り層3とを備えて
いる。上塗り層3は、イソシアネート基と反応可能な基
を有しかつ乳化重合により得られたアクリルエマルショ
ンと、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温
硬化性樹脂組成物を用いて形成されている。
性が損なわれにくくする。 【解決手段】 意匠性塗膜1は、意匠性塗膜基層2と、
意匠性塗膜基層2上に配置された上塗り層3とを備えて
いる。上塗り層3は、イソシアネート基と反応可能な基
を有しかつ乳化重合により得られたアクリルエマルショ
ンと、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温
硬化性樹脂組成物を用いて形成されている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、意匠性塗膜、その
形成方法および化粧板、特に、上塗り層を備えた意匠性
塗膜、その形成方法および化粧板に関する。
形成方法および化粧板、特に、上塗り層を備えた意匠性
塗膜、その形成方法および化粧板に関する。
【0002】
【従来の技術とその課題】建築物の外壁や室内の壁面に
は、質感を高めるため、或いは意匠性を付与するため
に、意匠性塗膜を形成する場合がある。意匠性塗膜は、
一般に、石材調、砂岩調、陶板調、陶器調、陶磁器調、
ホーロー調或いは鋳物調などの意匠調に形成された意匠
性塗膜基層と、その上に形成された、意匠性塗膜基層を
保護するための上塗り層とを主に備えている。なお、こ
のような意匠性塗膜は、それがアルミニウム板などの形
状保持性を有する基板上に形成された化粧板をセメント
や接着剤を用いて貼り付けることにより、建築物の外壁
や室内の壁面に付与される場合もある。
は、質感を高めるため、或いは意匠性を付与するため
に、意匠性塗膜を形成する場合がある。意匠性塗膜は、
一般に、石材調、砂岩調、陶板調、陶器調、陶磁器調、
ホーロー調或いは鋳物調などの意匠調に形成された意匠
性塗膜基層と、その上に形成された、意匠性塗膜基層を
保護するための上塗り層とを主に備えている。なお、こ
のような意匠性塗膜は、それがアルミニウム板などの形
状保持性を有する基板上に形成された化粧板をセメント
や接着剤を用いて貼り付けることにより、建築物の外壁
や室内の壁面に付与される場合もある。
【0003】上述の意匠性塗膜に用いられる上塗り層
は、一般に、アクリル系、アクリル−ウレタン系或いは
シリコーン系等の樹脂塗料を用いて形成されている(例
えば、特開昭57−27177号公報)。ところが、こ
のような上塗り層は、耐候性や耐水性が良好ではなく、
太陽光や雨水に曝されると白化しやすい。このため、上
述の意匠性塗膜は、経時的に上塗り層の白化が進み、意
匠性塗膜基層により表現される意匠性が損なわれやす
い。
は、一般に、アクリル系、アクリル−ウレタン系或いは
シリコーン系等の樹脂塗料を用いて形成されている(例
えば、特開昭57−27177号公報)。ところが、こ
のような上塗り層は、耐候性や耐水性が良好ではなく、
太陽光や雨水に曝されると白化しやすい。このため、上
述の意匠性塗膜は、経時的に上塗り層の白化が進み、意
匠性塗膜基層により表現される意匠性が損なわれやす
い。
【0004】本発明の目的は、上塗り層を備えた意匠性
塗膜について、意匠性が損なわれにくくすることにあ
る。
塗膜について、意匠性が損なわれにくくすることにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る意匠性塗膜
は、意匠性塗膜基層と、当該意匠性塗膜基層上に配置さ
れた上塗り層とを備えている。上塗り層は、イソシアネ
ート基と反応可能な基を有しかつ乳化重合により得られ
たアクリルエマルションと、自己乳化型ポリイソシアネ
ートとを含む水性常温硬化性樹脂組成物を用いて形成さ
れている。
は、意匠性塗膜基層と、当該意匠性塗膜基層上に配置さ
れた上塗り層とを備えている。上塗り層は、イソシアネ
ート基と反応可能な基を有しかつ乳化重合により得られ
たアクリルエマルションと、自己乳化型ポリイソシアネ
ートとを含む水性常温硬化性樹脂組成物を用いて形成さ
れている。
【0006】ここで、上塗り層に用いられるアクリルエ
マルションの樹脂固形分水酸基価は、例えば20〜20
0である。また、アクリルエマルションは、例えば、樹
脂固形分酸価が5以下である。さらに、アクリルエマル
ションは、例えば、ラジカル重合性不飽和基を有する乳
化剤を用いて乳化重合されたものである。
マルションの樹脂固形分水酸基価は、例えば20〜20
0である。また、アクリルエマルションは、例えば、樹
脂固形分酸価が5以下である。さらに、アクリルエマル
ションは、例えば、ラジカル重合性不飽和基を有する乳
化剤を用いて乳化重合されたものである。
【0007】また、上述の乳化剤は、ラジカル重合性不
飽和基の他に、例えば親水基および疎水基を有してい
る。ここで、ラジカル重合性不飽和基は、例えばアリル
基、プロペニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基
およびマレオイル基からなる群から選ばれた少なくとも
1種である。また、親水基は、例えば硫酸基、スルホン
酸基、リン酸基、カルボキシル基、およびポリオキシエ
チレン基からなる群から選ばれた少なくとも1種であ
る。さらに、疎水基は、例えば炭素数6〜60のアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキルアリール
基、アリール基およびこれらを側鎖に持つ炭化水素基か
らなる群から選ばれた少なくとも1種である。
飽和基の他に、例えば親水基および疎水基を有してい
る。ここで、ラジカル重合性不飽和基は、例えばアリル
基、プロペニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基
およびマレオイル基からなる群から選ばれた少なくとも
1種である。また、親水基は、例えば硫酸基、スルホン
酸基、リン酸基、カルボキシル基、およびポリオキシエ
チレン基からなる群から選ばれた少なくとも1種であ
る。さらに、疎水基は、例えば炭素数6〜60のアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキルアリール
基、アリール基およびこれらを側鎖に持つ炭化水素基か
らなる群から選ばれた少なくとも1種である。
【0008】さらに、上塗り層に用いられる自己乳化型
ポリイソシアネートは、例えば、脂肪族または脂環族系
のポリイソシアネートおよびその誘導体の一部のイソシ
アネート基をポリエチレンオキシドモノアルキルエーテ
ルと反応させて水分散性を付与したポリイソシアネート
である。
ポリイソシアネートは、例えば、脂肪族または脂環族系
のポリイソシアネートおよびその誘導体の一部のイソシ
アネート基をポリエチレンオキシドモノアルキルエーテ
ルと反応させて水分散性を付与したポリイソシアネート
である。
【0009】本発明に係る意匠性塗膜の形成方法は、基
材上に意匠性塗膜基層を形成する工程と、意匠性塗膜基
層上に上塗り層を形成する工程とを含んでいる。上塗り
層は、イソシアネート基と反応可能な基を有しかつ乳化
重合により得られたアクリルエマルションと、自己乳化
型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬化性樹脂組成
物を用いることにより形成されている。
材上に意匠性塗膜基層を形成する工程と、意匠性塗膜基
層上に上塗り層を形成する工程とを含んでいる。上塗り
層は、イソシアネート基と反応可能な基を有しかつ乳化
重合により得られたアクリルエマルションと、自己乳化
型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬化性樹脂組成
物を用いることにより形成されている。
【0010】本発明に係る化粧板は、形状保持性を有す
る基板と、基板上に設けられた意匠性塗膜基層と、意匠
性塗膜基層上に配置された上塗り層とを備えている。上
塗り層は、イソシアネート基と反応可能な基を有しかつ
乳化重合により得られたアクリルエマルションと、自己
乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬化性樹脂
組成物を用いて形成されている。
る基板と、基板上に設けられた意匠性塗膜基層と、意匠
性塗膜基層上に配置された上塗り層とを備えている。上
塗り層は、イソシアネート基と反応可能な基を有しかつ
乳化重合により得られたアクリルエマルションと、自己
乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬化性樹脂
組成物を用いて形成されている。
【0011】なお、この化粧板において、基板は例えば
アルミニウム板である。
アルミニウム板である。
【0012】
【発明の実施の形態】意匠性塗膜 本発明に係る意匠性塗膜の一形態を図1に示す。図にお
いて、意匠性塗膜1は、例えば、建築物の外壁面や内壁
面W上に設けられており、意匠性塗膜基層2と、その上
に配置された上塗り層3とを主に備えている。
いて、意匠性塗膜1は、例えば、建築物の外壁面や内壁
面W上に設けられており、意匠性塗膜基層2と、その上
に配置された上塗り層3とを主に備えている。
【0013】(意匠性塗膜基層2)上述の意匠性塗膜基
層2は、意匠性塗料を用いて形成されたものである。こ
の意匠性塗膜基層2を形成するための意匠性塗料は、主
に、基体樹脂と骨材とを含んでいる。
層2は、意匠性塗料を用いて形成されたものである。こ
の意匠性塗膜基層2を形成するための意匠性塗料は、主
に、基体樹脂と骨材とを含んでいる。
【0014】基体樹脂としては、塗料用として通常用い
られる基体樹脂であれば種々のものを用いることができ
るが、製造性および塗膜性能の点でアクリル樹脂エマル
ションが好ましい。アクリル樹脂エマルションの不揮発
分濃度は、作業性および塗膜性能の点で、通常40〜6
0重量%が好ましい。また、アクリル樹脂エマルション
のガラス転移温度は、20℃以下が好ましい。ガラス転
移温度が20℃を超える場合は、意匠性塗膜基層2の柔
軟性が低下して曲面に対する追従性が劣り、当該基層に
クラック発生し易くなり、また加工性の点でも問題があ
る。
られる基体樹脂であれば種々のものを用いることができ
るが、製造性および塗膜性能の点でアクリル樹脂エマル
ションが好ましい。アクリル樹脂エマルションの不揮発
分濃度は、作業性および塗膜性能の点で、通常40〜6
0重量%が好ましい。また、アクリル樹脂エマルション
のガラス転移温度は、20℃以下が好ましい。ガラス転
移温度が20℃を超える場合は、意匠性塗膜基層2の柔
軟性が低下して曲面に対する追従性が劣り、当該基層に
クラック発生し易くなり、また加工性の点でも問題があ
る。
【0015】アクリル樹脂エマルションとしては、特に
制限されずに種々のものを用いることができるが、例え
ば、メチルメタクリレート43重量部、2−エチルヘキ
シルアクリレート42重量部およびスチレン15重量部
を共重合して得られた、不揮発分濃度が49重量%であ
りかつガラス転移温度が9℃のものが好ましく用いられ
る。
制限されずに種々のものを用いることができるが、例え
ば、メチルメタクリレート43重量部、2−エチルヘキ
シルアクリレート42重量部およびスチレン15重量部
を共重合して得られた、不揮発分濃度が49重量%であ
りかつガラス転移温度が9℃のものが好ましく用いられ
る。
【0016】なお、上述の基体樹脂は、通常、意匠性塗
料中に固形分換算で8〜25重量%含まれる。
料中に固形分換算で8〜25重量%含まれる。
【0017】意匠性塗料に含まれる骨材は、意匠性塗膜
基層2に所望の模様などの意匠性を付与するための成分
である。この骨材としては、一般的な各種体質顔料や着
色顔料の他、例えば、大理石、御影石および石灰石など
の自然石を粒状に粉砕したもの、着色硅砂および顔料と
共に焼成したセラミックを粒状に粉砕した有色陶磁器粉
などが用いられる。
基層2に所望の模様などの意匠性を付与するための成分
である。この骨材としては、一般的な各種体質顔料や着
色顔料の他、例えば、大理石、御影石および石灰石など
の自然石を粒状に粉砕したもの、着色硅砂および顔料と
共に焼成したセラミックを粒状に粉砕した有色陶磁器粉
などが用いられる。
【0018】このような骨材は、通常、意匠性塗料中に
40〜80重量%含まれる。
40〜80重量%含まれる。
【0019】意匠性塗料には、必要に応じてバルーンが
含まれていてもよい。このバルーンは、中空で微粒状の
軽量化材であり、意匠性塗膜基層2を軽量化するための
成分である。ここで用いられるバルーンの比重は、0.
02〜0.5が好ましい。比重が0.02未満の場合
は、意匠性塗膜基層2の強度が低下する。逆に、比重が
0.5を超える場合は、バルーンを添加することによる
効果が得られにくい。
含まれていてもよい。このバルーンは、中空で微粒状の
軽量化材であり、意匠性塗膜基層2を軽量化するための
成分である。ここで用いられるバルーンの比重は、0.
02〜0.5が好ましい。比重が0.02未満の場合
は、意匠性塗膜基層2の強度が低下する。逆に、比重が
0.5を超える場合は、バルーンを添加することによる
効果が得られにくい。
【0020】好ましいバルーンとしては、シラスバルー
ン、セラミックバルーン、ガラスバルーン、パーライト
および樹脂バルーンが挙げられる。シラスバルーンおよ
びセラミックバルーンは、シリカ、アルミナ等を主成分
とする火山ガラス粒子を加熱して膨張させたものであ
り、通常球形である。一方、ガラスバルーンは、ガラス
質を加熱発泡させたものであり、通常球形である。好ま
しいシラスバルーン、セラミックバルーンおよびガラス
バルーンは、比重が0.07〜0.5でありかつ粒度が
10〜100μmのものである。パーライトは、真珠岩
を粉砕して焼成したものであり、比重が0.4〜0.6
のものが好ましい。樹脂バルーンとしては、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル系の共重合体樹脂からなる球形
の微小中空体が好ましい。特に、比重が0.025であ
りかつ粒度ピークが32〜80μmのものが好ましい。
なお、これらの各種バルーンのうち、軽量化材として最
も優れている樹脂バルーンを用いるのが好ましい。
ン、セラミックバルーン、ガラスバルーン、パーライト
および樹脂バルーンが挙げられる。シラスバルーンおよ
びセラミックバルーンは、シリカ、アルミナ等を主成分
とする火山ガラス粒子を加熱して膨張させたものであ
り、通常球形である。一方、ガラスバルーンは、ガラス
質を加熱発泡させたものであり、通常球形である。好ま
しいシラスバルーン、セラミックバルーンおよびガラス
バルーンは、比重が0.07〜0.5でありかつ粒度が
10〜100μmのものである。パーライトは、真珠岩
を粉砕して焼成したものであり、比重が0.4〜0.6
のものが好ましい。樹脂バルーンとしては、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル系の共重合体樹脂からなる球形
の微小中空体が好ましい。特に、比重が0.025であ
りかつ粒度ピークが32〜80μmのものが好ましい。
なお、これらの各種バルーンのうち、軽量化材として最
も優れている樹脂バルーンを用いるのが好ましい。
【0021】バルーンは、通常、意匠性塗料中に0.2
〜0.8重量%添加するのが好ましい。添加量が0.2
重量%未満の場合は、意匠性塗膜基層2を十分に軽量化
するのが困難である。逆に、0.8重量%を超えると、
意匠性塗膜基層2内の空隙が多くなり、塗膜の強度が保
たれにくくなる。
〜0.8重量%添加するのが好ましい。添加量が0.2
重量%未満の場合は、意匠性塗膜基層2を十分に軽量化
するのが困難である。逆に、0.8重量%を超えると、
意匠性塗膜基層2内の空隙が多くなり、塗膜の強度が保
たれにくくなる。
【0022】意匠性塗膜基層2は、上述の意匠性塗料に
含まれる骨材の粒子径や配合比を適宜選択することによ
り、あるいは意匠性塗料の粘度や塗装方法を適宜選択す
ることにより、所望の意匠調、例えば、御影石や大理石
などの石材調、砂岩調、陶板調、陶器調、陶磁器調、ホ
ーロー調または鋳物調などに形成されている。また、こ
の意匠性塗膜基層2には、所望により、立体性を付与す
るためにサンダーなどを用いてカット部分が形成されて
いてもよい。なお、意匠性塗料は、例えばスプレー塗装
などの塗装方法により塗布することができる。
含まれる骨材の粒子径や配合比を適宜選択することによ
り、あるいは意匠性塗料の粘度や塗装方法を適宜選択す
ることにより、所望の意匠調、例えば、御影石や大理石
などの石材調、砂岩調、陶板調、陶器調、陶磁器調、ホ
ーロー調または鋳物調などに形成されている。また、こ
の意匠性塗膜基層2には、所望により、立体性を付与す
るためにサンダーなどを用いてカット部分が形成されて
いてもよい。なお、意匠性塗料は、例えばスプレー塗装
などの塗装方法により塗布することができる。
【0023】意匠性塗膜基層2の厚さは、意匠性塗膜1
を適用する部位に応じて適宜設定することができるが、
通常は3〜5mmである。
を適用する部位に応じて適宜設定することができるが、
通常は3〜5mmである。
【0024】(上塗り層3)上塗り層3は、上述の意匠
性塗膜基層2を保護し、意匠性塗膜1の耐久性を高める
ためのものである。この上塗り層3は、アクリルエマル
ションと、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性
常温硬化性樹脂組成物を用いて形成されている。
性塗膜基層2を保護し、意匠性塗膜1の耐久性を高める
ためのものである。この上塗り層3は、アクリルエマル
ションと、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性
常温硬化性樹脂組成物を用いて形成されている。
【0025】上塗り層3を形成するための水性常温硬化
性樹脂組成物に用いられるアクリルエマルションは、原
料となるアクリル系モノマーを主成分とする不飽和モノ
マーを乳化剤を用いて乳化重合させたものである。
性樹脂組成物に用いられるアクリルエマルションは、原
料となるアクリル系モノマーを主成分とする不飽和モノ
マーを乳化剤を用いて乳化重合させたものである。
【0026】上述のアクリルエマルションを製造するた
めの原料として用いられる好ましい不飽和モノマーとし
ては、水酸基含有不飽和モノマーを必須成分とし、必要
に応じて酸性基含有不飽和モノマーおよびその他のモノ
マーを含むモノマー混合物が挙げられる。このモノマー
混合物に用いられる各種モノマーとしては、下記のもの
を例示することができる。
めの原料として用いられる好ましい不飽和モノマーとし
ては、水酸基含有不飽和モノマーを必須成分とし、必要
に応じて酸性基含有不飽和モノマーおよびその他のモノ
マーを含むモノマー混合物が挙げられる。このモノマー
混合物に用いられる各種モノマーとしては、下記のもの
を例示することができる。
【0027】◎水酸基含有不飽和モノマー ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒド
ロキシブチルアクリレート、プラクセルFM−1(ダイ
セル化学工業株式会社製のε−カプロラクトン変性ヒド
ロキシエチルメタクリレート)、ポリエチレングリコー
ルモノアクリレートまたはモノメタクリレート、ポリプ
ロピレングリコールモノアクリレートまたはモノメタク
リレートなどのアルコール類。
クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒド
ロキシブチルアクリレート、プラクセルFM−1(ダイ
セル化学工業株式会社製のε−カプロラクトン変性ヒド
ロキシエチルメタクリレート)、ポリエチレングリコー
ルモノアクリレートまたはモノメタクリレート、ポリプ
ロピレングリコールモノアクリレートまたはモノメタク
リレートなどのアルコール類。
【0028】◎酸性基含有不飽和モノマー ・アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸などのカルボン酸類。 ・2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸、スルホエチルメタクリレート、スチレンスルホン酸
などのスルホン酸類およびそれらの塩。
酸、マレイン酸などのカルボン酸類。 ・2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン
酸、スルホエチルメタクリレート、スチレンスルホン酸
などのスルホン酸類およびそれらの塩。
【0029】◎その他のモノマー ・アクリル酸またはメタクリル酸のメチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル、エチルヘキシル、ラウリル
などのエステル類。 ・ビニルアルコールと酢酸、プロピオン酸などのカルボ
ン酸とのエステル類。 ・スチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、
ブタジエン、イソプレンなどの不飽和炭化水素類。 ・アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリ
ル類。 ・アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミドなどのアミド類。 ・ポリエチレングリコールメチルエーテルアクリレート
またはメタクリレートなどのポリオキシアルキレン誘導
体。 ・N,N−ジメチル−N−メタクリロキシエチル−N−
(3−スルホプロピル)−アンモニウムベタインなどの
両性化合物。 ・エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,
6−ヘキサンジオールジエチレングリコールなどのグリ
コール類のジアクリレートおよびジメタクリレートな
ど。 ・グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトールなどのポリオール類のポリアクリレートおよび
ポリメタクリレートなど。 ・アリルアルコール、メタリルアルコールなどのアクリ
レートおよびメタクリレート類。
ロピル、ブチル、ヘキシル、エチルヘキシル、ラウリル
などのエステル類。 ・ビニルアルコールと酢酸、プロピオン酸などのカルボ
ン酸とのエステル類。 ・スチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、
ブタジエン、イソプレンなどの不飽和炭化水素類。 ・アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリ
ル類。 ・アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、ジ
アセトンアクリルアミドなどのアミド類。 ・ポリエチレングリコールメチルエーテルアクリレート
またはメタクリレートなどのポリオキシアルキレン誘導
体。 ・N,N−ジメチル−N−メタクリロキシエチル−N−
(3−スルホプロピル)−アンモニウムベタインなどの
両性化合物。 ・エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,
6−ヘキサンジオールジエチレングリコールなどのグリ
コール類のジアクリレートおよびジメタクリレートな
ど。 ・グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリス
リトールなどのポリオール類のポリアクリレートおよび
ポリメタクリレートなど。 ・アリルアルコール、メタリルアルコールなどのアクリ
レートおよびメタクリレート類。
【0030】上述の不飽和モノマーを乳化重合させる際
に用いられる乳化剤は、一般的なアニオン性またはノニ
オン性のものである。このような乳化剤のうち、好まし
いものは、ラジカル重合性不飽和基を有する乳化剤(以
下、「ラジカル重合性乳化剤」という)である。ここで
用いられるラジカル重合性乳化剤は、通常、ラジカル重
合性不飽和基、アニオン性またはノニオン性の親水基お
よび疎水基を有するものである。ラジカル重合性不飽和
基としては、アリル基、プロペニル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基、マレオイル基などが例示でき
る。また、アニオン性の親水基としては、硫酸基、スル
ホン酸基、リン酸基、カルボキシル基などが例示でき、
ノニオン性の親水基としては、ポリオキシエチレン基が
例示できる。さらに、疎水基としては、炭素数が6〜6
0のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキ
ルアリール基、アリール基などが例示できる。
に用いられる乳化剤は、一般的なアニオン性またはノニ
オン性のものである。このような乳化剤のうち、好まし
いものは、ラジカル重合性不飽和基を有する乳化剤(以
下、「ラジカル重合性乳化剤」という)である。ここで
用いられるラジカル重合性乳化剤は、通常、ラジカル重
合性不飽和基、アニオン性またはノニオン性の親水基お
よび疎水基を有するものである。ラジカル重合性不飽和
基としては、アリル基、プロペニル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基、マレオイル基などが例示でき
る。また、アニオン性の親水基としては、硫酸基、スル
ホン酸基、リン酸基、カルボキシル基などが例示でき、
ノニオン性の親水基としては、ポリオキシエチレン基が
例示できる。さらに、疎水基としては、炭素数が6〜6
0のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アルキ
ルアリール基、アリール基などが例示できる。
【0031】このようなラジカル重合性乳化剤の具体例
としては、例えば下記のものを挙げることができる。
としては、例えば下記のものを挙げることができる。
【0032】下記の一般式で示されるもの。
【0033】
【化1】
【0034】(一般式中、R1 は水素原子またはメチル
基を、R2 は置換基を有していてもよい炭化水素基また
はオキシアルキレン基を有する有機基を、Aは炭素数が
2〜4のアルキレン基を、nは0以上の整数を、Mはア
ルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウム,有機ア
ミン塩基または有機4級アンモニウム塩基をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、三
洋化成株式会社製の「エレミノールJS−2」(商品
名)が挙げられる。
基を、R2 は置換基を有していてもよい炭化水素基また
はオキシアルキレン基を有する有機基を、Aは炭素数が
2〜4のアルキレン基を、nは0以上の整数を、Mはア
ルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウム,有機ア
ミン塩基または有機4級アンモニウム塩基をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、三
洋化成株式会社製の「エレミノールJS−2」(商品
名)が挙げられる。
【0035】下記の一般式で示されるもの。
【0036】
【化2】
【0037】(一般式中、R1 は置換基を有していても
よい炭化水素基を、R2 は水素原子またはメチル基を、
Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0〜100
の整数を、Mは1価または2価のカチオン基をそれぞれ
示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、花
王株式会社製の「ラテムルS−180」(商品名)が挙
げられる。
よい炭化水素基を、R2 は水素原子またはメチル基を、
Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0〜100
の整数を、Mは1価または2価のカチオン基をそれぞれ
示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、花
王株式会社製の「ラテムルS−180」(商品名)が挙
げられる。
【0038】下記の一般式で示されるもの。
【0039】
【化3】
【0040】(一般式中、R1 は水素原子またはメチル
基を、R2 は炭素数が8〜24の炭化水素基またはアシ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0
〜100の整数を、mは0〜50の整数を、Mは水素原
子,アルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウムま
たは有機アミン塩基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、旭
電化工業株式会社製の「アデカリアソープSE−10
N」(商品名)が挙げられる。
基を、R2 は炭素数が8〜24の炭化水素基またはアシ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0
〜100の整数を、mは0〜50の整数を、Mは水素原
子,アルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウムま
たは有機アミン塩基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、旭
電化工業株式会社製の「アデカリアソープSE−10
N」(商品名)が挙げられる。
【0041】下記の一般式で示されるもの。
【0042】
【化4】
【0043】(一般式中、R1 は炭素数が6〜18のア
ルキル基,アルケニル基またはアラルキル基を、R2 は
水素または炭素数が6〜18のアルキル基,アルケニル
基若しくはアラルキル基を、R3 は水素またはプロペニ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは1
〜200の整数を、Mはアルカリ金属,アンモニウムま
たはアルカノールアミン残基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、第
一工業製薬株式会社製の「アクアロンHS−10」(商
品名)が挙げられる。
ルキル基,アルケニル基またはアラルキル基を、R2 は
水素または炭素数が6〜18のアルキル基,アルケニル
基若しくはアラルキル基を、R3 は水素またはプロペニ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは1
〜200の整数を、Mはアルカリ金属,アンモニウムま
たはアルカノールアミン残基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、第
一工業製薬株式会社製の「アクアロンHS−10」(商
品名)が挙げられる。
【0044】下記の一般式で示されるもの。
【0045】
【化5】
【0046】(一般式中、R1 およびR2 は水素原子ま
た炭素数が1〜25のアルキル基を、R3 およびR4 は
炭素数が1〜25のアルキル基,ベンジル基またはスチ
レン基を、mは0〜2の整数を、R5 は水素原子または
メチル基を、Aは炭素数が2または3のアルキレン基
を、nは1以上の整数を、Mはアルカリ金属,アルカリ
土類金属,アンモニウムまたはアミンカチオン基をそれ
ぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「Antox MS−60」(商
品名)が挙げられる。
た炭素数が1〜25のアルキル基を、R3 およびR4 は
炭素数が1〜25のアルキル基,ベンジル基またはスチ
レン基を、mは0〜2の整数を、R5 は水素原子または
メチル基を、Aは炭素数が2または3のアルキレン基
を、nは1以上の整数を、Mはアルカリ金属,アルカリ
土類金属,アンモニウムまたはアミンカチオン基をそれ
ぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「Antox MS−60」(商
品名)が挙げられる。
【0047】下記の一般式で示されるもの。
【0048】
【化6】
【0049】(一般式中、Rは炭化水素基を、Aは炭素
数が2または3のアルキレン基を、nは1以上の整数
を、Mはアルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウ
ムまたはアミンカチオン基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「RA−1120」(商品名)が
挙げられる。
数が2または3のアルキレン基を、nは1以上の整数
を、Mはアルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウ
ムまたはアミンカチオン基をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「RA−1120」(商品名)が
挙げられる。
【0050】下記の一般式で示されるもの。
【0051】
【化7】
【0052】(一般式中、R1 は水素原子またはメチル
基を、R2 は炭素数が8〜24の炭化水素基またはアシ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0
〜100の整数を、mは0〜50の整数をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、旭
電化工業株式会社製の「アデカリアソープNE−30」
(商品名)が挙げられる。
基を、R2 は炭素数が8〜24の炭化水素基またはアシ
ル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、nは0
〜100の整数を、mは0〜50の整数をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、旭
電化工業株式会社製の「アデカリアソープNE−30」
(商品名)が挙げられる。
【0053】下記の一般式で示されるもの。
【0054】
【化8】
【0055】(一般式中、R1 は炭素数が6〜18のア
ルキル基,アルケニル基またはアラルキル基を、R2 は
水素原子または炭素数が6〜18のアルキル基,アルケ
ニル基若しくはアラルキル基を、R3 は水素またはプロ
ペニル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、n
は1〜200の整数をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、第
一工業製薬株式会社製の「アクアロンRN−50」およ
び「アクアロンRN−30」(いずれも商品名)が挙げ
られる。
ルキル基,アルケニル基またはアラルキル基を、R2 は
水素原子または炭素数が6〜18のアルキル基,アルケ
ニル基若しくはアラルキル基を、R3 は水素またはプロ
ペニル基を、Aは炭素数が2〜4のアルキレン基を、n
は1〜200の整数をそれぞれ示す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、第
一工業製薬株式会社製の「アクアロンRN−50」およ
び「アクアロンRN−30」(いずれも商品名)が挙げ
られる。
【0056】下記の一般式で示されるもの。
【0057】
【化9】
【0058】(一般式中、R1 は水素原子またはメチル
基を、R2 は炭化水素基を、Aは炭素数が2または3の
アルキレン基を、nは1〜100の整数をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「RMA−506」(商品名)が
挙げられる。
基を、R2 は炭化水素基を、Aは炭素数が2または3の
アルキレン基を、nは1〜100の整数をそれぞれ示
す。) このようなラジカル重合性乳化剤としては、例えば、日
本乳化剤株式会社製の「RMA−506」(商品名)が
挙げられる。
【0059】上述の乳化剤を用いて上述の不飽和モノマ
ーを乳化重合する際には、不飽和モノマーの合計量に対
して乳化剤を0.1〜10重量%用いるのが好ましい。
乳化剤の使用量が0.1重量%未満の場合は、重合が進
行しなかったり、重合後に大量の凝集物が発生したりす
る場合がある。逆に、10重量%を超えると、上塗り層
3の硬度や耐水性が低下し、上塗り層3が白化し易くな
る場合がある。
ーを乳化重合する際には、不飽和モノマーの合計量に対
して乳化剤を0.1〜10重量%用いるのが好ましい。
乳化剤の使用量が0.1重量%未満の場合は、重合が進
行しなかったり、重合後に大量の凝集物が発生したりす
る場合がある。逆に、10重量%を超えると、上塗り層
3の硬度や耐水性が低下し、上塗り層3が白化し易くな
る場合がある。
【0060】また、乳化重合の際には、通常、重合開始
剤が用いられる。ここで利用可能な重合開始剤として
は、例えば、過硫酸塩系開始剤、レドックス系開始剤お
よび水溶性アゾ化合物が挙げられる。重合開始剤の使用
量は、通常、不飽和モノマーの合計量に対して0.1〜
3重量%に設定するのが好ましい。
剤が用いられる。ここで利用可能な重合開始剤として
は、例えば、過硫酸塩系開始剤、レドックス系開始剤お
よび水溶性アゾ化合物が挙げられる。重合開始剤の使用
量は、通常、不飽和モノマーの合計量に対して0.1〜
3重量%に設定するのが好ましい。
【0061】重合開始剤の具体例としては、過硫酸カリ
ウム、過硫酸カリウム/亜硫酸水素ナトリウム、過酸化
水素/アスコルビン酸、t−ブチルハイドロパーオキサ
イド/ロンガリット、大塚化学株式会社製のACVA
(4,4’−アゾビス−(4−シアノ吉草酸)を3級ア
ミンを用いて中和し、水溶化したもの)、和光純薬株式
会社製のVA−086(2,2’−アゾビス〔2−メチ
ル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミ
ド〕)などが挙げられる。
ウム、過硫酸カリウム/亜硫酸水素ナトリウム、過酸化
水素/アスコルビン酸、t−ブチルハイドロパーオキサ
イド/ロンガリット、大塚化学株式会社製のACVA
(4,4’−アゾビス−(4−シアノ吉草酸)を3級ア
ミンを用いて中和し、水溶化したもの)、和光純薬株式
会社製のVA−086(2,2’−アゾビス〔2−メチ
ル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミ
ド〕)などが挙げられる。
【0062】なお、乳化重合の際に重合度調整が必要な
場合は、メルカプタン類に代表される連鎖移動剤を使用
することができる。連鎖移動剤としては、例えば、ラウ
リルメルカプタン、オクチルチオグリコレートなどが挙
げられる。
場合は、メルカプタン類に代表される連鎖移動剤を使用
することができる。連鎖移動剤としては、例えば、ラウ
リルメルカプタン、オクチルチオグリコレートなどが挙
げられる。
【0063】乳化重合方法としては、一般的な乳化重合
操作を採用することができる。例えば、不揮発分が40
重量%以上となるように、プレエマルション滴下法また
はモノマー滴下法を採用し、重合温度および重合時間を
それぞれ40〜100℃および1〜8時間に設定するこ
とにより実施することができる。
操作を採用することができる。例えば、不揮発分が40
重量%以上となるように、プレエマルション滴下法また
はモノマー滴下法を採用し、重合温度および重合時間を
それぞれ40〜100℃および1〜8時間に設定するこ
とにより実施することができる。
【0064】上塗り層3を形成するために用いられる上
述の水性常温硬化性樹脂組成物に含まれるアクリルエマ
ルションは、上述の乳化重合により得られるアクリルエ
マルションのうち、イソシアネート基と反応する基を有
するものである。このようなアクリルエマルションとし
ては、特に樹脂固形分酸価が5以下のものが好ましい。
この酸価が5を超える場合は、アクリルエマルションを
中和するために用いる塩基の量が増えて水性常温硬化性
樹脂組成物のポットライフが短くなり、また、アクリル
エマルション樹脂の親水性が高まることになるので、上
塗り層3の白化が生じやすくなるおそれがある。
述の水性常温硬化性樹脂組成物に含まれるアクリルエマ
ルションは、上述の乳化重合により得られるアクリルエ
マルションのうち、イソシアネート基と反応する基を有
するものである。このようなアクリルエマルションとし
ては、特に樹脂固形分酸価が5以下のものが好ましい。
この酸価が5を超える場合は、アクリルエマルションを
中和するために用いる塩基の量が増えて水性常温硬化性
樹脂組成物のポットライフが短くなり、また、アクリル
エマルション樹脂の親水性が高まることになるので、上
塗り層3の白化が生じやすくなるおそれがある。
【0065】上述の樹脂固形分酸価は、通常、アクリル
エマルションを製造する際に用いる酸性基含有不飽和モ
ノマーにより導入される酸性基に基づくものであるが、
この酸性基は、アルカリ金属、4級アンモニウムの水酸
化物、3級アミンなどを用いて中和するのが好ましい。
なお、アンモニアによる中和は、アンモニアがイソシア
ネート基と反応するため好ましくない。
エマルションを製造する際に用いる酸性基含有不飽和モ
ノマーにより導入される酸性基に基づくものであるが、
この酸性基は、アルカリ金属、4級アンモニウムの水酸
化物、3級アミンなどを用いて中和するのが好ましい。
なお、アンモニアによる中和は、アンモニアがイソシア
ネート基と反応するため好ましくない。
【0066】また、上述のアクリルエマルションの樹脂
固形分水酸基価は、20〜200が好ましく、40〜1
60がより好ましい。因に、このような水酸基価の基と
なる水酸基は、例えば、上述の水酸基含有不飽和モノマ
ーにより導入されたものである。水酸基価が20未満の
場合は、上塗り層3の架橋度が不足し、上塗り層3が必
要な塗膜特性を示さない場合がある。逆に、水酸基価が
200を超える場合は、当該アクリルエマルションの製
造過程である乳化重合が困難な場合があり、実用的な濃
度のアクリルエマルションが得られない場合がある。
固形分水酸基価は、20〜200が好ましく、40〜1
60がより好ましい。因に、このような水酸基価の基と
なる水酸基は、例えば、上述の水酸基含有不飽和モノマ
ーにより導入されたものである。水酸基価が20未満の
場合は、上塗り層3の架橋度が不足し、上塗り層3が必
要な塗膜特性を示さない場合がある。逆に、水酸基価が
200を超える場合は、当該アクリルエマルションの製
造過程である乳化重合が困難な場合があり、実用的な濃
度のアクリルエマルションが得られない場合がある。
【0067】上塗り層3を形成するための水性常温硬化
性樹脂組成物に用いられるポリイソシアネートは、自己
乳化型のポリイソシアネートである。このようなポリイ
ソシアネートとしては、例えば、脂肪族または脂環族系
のポリイソシアネートおよびその誘導体の一部のイソシ
アネート基をポリエチレンオキシドモノアルキルエーテ
ルと反応させて水分散性を付与したものが挙げられる。
性樹脂組成物に用いられるポリイソシアネートは、自己
乳化型のポリイソシアネートである。このようなポリイ
ソシアネートとしては、例えば、脂肪族または脂環族系
のポリイソシアネートおよびその誘導体の一部のイソシ
アネート基をポリエチレンオキシドモノアルキルエーテ
ルと反応させて水分散性を付与したものが挙げられる。
【0068】ここで、脂肪族または脂環族系のポリイソ
シアネートとしては、イソシアヌレート基、ウレトジオ
ン基、ウレタン基、アロファネート基、ビウレット基お
よび/またはオキサジアン基を含むヘキサメチレンジイ
ソシアネートまたはイソホロンジイソシアネートなどが
用いられる。これらのイソシアネート化合物およびその
誘導体の一部のイソシアネート基に次式で示すようなポ
リエチレングリコールモノアルキルエーテルを反応させ
ると、目的とする自己乳化型ポリイソシアネートを調製
することができる。
シアネートとしては、イソシアヌレート基、ウレトジオ
ン基、ウレタン基、アロファネート基、ビウレット基お
よび/またはオキサジアン基を含むヘキサメチレンジイ
ソシアネートまたはイソホロンジイソシアネートなどが
用いられる。これらのイソシアネート化合物およびその
誘導体の一部のイソシアネート基に次式で示すようなポ
リエチレングリコールモノアルキルエーテルを反応させ
ると、目的とする自己乳化型ポリイソシアネートを調製
することができる。
【0069】
【化10】
【0070】このような自己乳化型ポリイソシアネート
の具体例としては、日本ポリウレタン株式会社製の商品
名「DC−3900」(NCO基含有率=17重量
%)、同社製の商品名「DC−3901」(NCO基含
有率=13重量%)および住友バイエルウレタン株式会
社製の商品名「バイヒジュール TPLS−2032」
(NCO基含有率=17重量%)などが挙げられる。
の具体例としては、日本ポリウレタン株式会社製の商品
名「DC−3900」(NCO基含有率=17重量
%)、同社製の商品名「DC−3901」(NCO基含
有率=13重量%)および住友バイエルウレタン株式会
社製の商品名「バイヒジュール TPLS−2032」
(NCO基含有率=17重量%)などが挙げられる。
【0071】なお、使用するポリイソシアネートが親水
化されていない場合は、上述のアクリルエマルションと
の親和性が小さいため、透明性などの点で上塗り層3の
外観が損なわれるおそれがある。
化されていない場合は、上述のアクリルエマルションと
の親和性が小さいため、透明性などの点で上塗り層3の
外観が損なわれるおそれがある。
【0072】上塗り層3を形成するための水性常温硬化
性樹脂組成物は、上述のアクリルエマルションと上述の
ポリイソシアネートとを混合することにより調製するこ
とができる。このような水性常温硬化性樹脂組成物は、
そのままクリヤー塗料として用いられてもよいし、艶消
し剤、着色粉および光輝材などを添加して用いられても
よい。後者の場合、上塗り層3は、意匠性塗膜基層2と
共に意匠性塗膜1の意匠性をより高めることができる。
なお、光輝材としては、例えば、金属粉や雲母などが挙
げられる。
性樹脂組成物は、上述のアクリルエマルションと上述の
ポリイソシアネートとを混合することにより調製するこ
とができる。このような水性常温硬化性樹脂組成物は、
そのままクリヤー塗料として用いられてもよいし、艶消
し剤、着色粉および光輝材などを添加して用いられても
よい。後者の場合、上塗り層3は、意匠性塗膜基層2と
共に意匠性塗膜1の意匠性をより高めることができる。
なお、光輝材としては、例えば、金属粉や雲母などが挙
げられる。
【0073】両成分の混合方法は、特に限定されるもの
ではないが、例えば、必要に応じて予め紫外線吸収
剤、光安定剤および増粘剤などの各種の添加剤を加えた
アクリルエマルション塗料を調製し、これに対して予め
水に乳化分散させたポリイソシアネートを添加する方
法、アクリルエマルションまたはアクリルエマルショ
ン塗料に対してポリイソシアネートを直接添加して撹拌
分散させる方法などを採用することができる。
ではないが、例えば、必要に応じて予め紫外線吸収
剤、光安定剤および増粘剤などの各種の添加剤を加えた
アクリルエマルション塗料を調製し、これに対して予め
水に乳化分散させたポリイソシアネートを添加する方
法、アクリルエマルションまたはアクリルエマルショ
ン塗料に対してポリイソシアネートを直接添加して撹拌
分散させる方法などを採用することができる。
【0074】上述のアクリルエマルションと上述のポリ
イソシアネートとの混合割合は、(アクリルエマルショ
ン中に含まれるイソシアネート基と反応可能な基):
(ポリイソシアネート中のNCO基)のモル比率が1:
5〜5:1程度になるよう設定するのが好ましい。イソ
シアネート基と反応可能な基がこれよりも少ない場合
は、上塗り層3の乾燥性や耐水性が低下する場合があ
る。逆に、イソシアネート基と反応可能な基がこれより
も多い場合は、上塗り層3の架橋度が不足し、上塗り層
3としての所望の特性が得られない場合がある。
イソシアネートとの混合割合は、(アクリルエマルショ
ン中に含まれるイソシアネート基と反応可能な基):
(ポリイソシアネート中のNCO基)のモル比率が1:
5〜5:1程度になるよう設定するのが好ましい。イソ
シアネート基と反応可能な基がこれよりも少ない場合
は、上塗り層3の乾燥性や耐水性が低下する場合があ
る。逆に、イソシアネート基と反応可能な基がこれより
も多い場合は、上塗り層3の架橋度が不足し、上塗り層
3としての所望の特性が得られない場合がある。
【0075】上塗り層3は、上述の水性常温硬化性樹脂
組成物を所望の粘度に調製し、これを例えば刷毛塗り、
スプレー塗装、ロールコーター塗装などの一般的な塗装
方法により意匠性塗膜基層2上に塗布して常温乾燥また
は強制乾燥させることにより形成することができる。
組成物を所望の粘度に調製し、これを例えば刷毛塗り、
スプレー塗装、ロールコーター塗装などの一般的な塗装
方法により意匠性塗膜基層2上に塗布して常温乾燥また
は強制乾燥させることにより形成することができる。
【0076】上塗り層3の厚さは、通常20〜60μm
に設定するのが好ましい。20μm未満の場合は、意匠
性塗膜基層2の保護機能が失われる場合がある。逆に、
60μmを超える場合は、乾燥不良、タレ、流れなどが
発生し、外観を損なうおそれがある。
に設定するのが好ましい。20μm未満の場合は、意匠
性塗膜基層2の保護機能が失われる場合がある。逆に、
60μmを超える場合は、乾燥不良、タレ、流れなどが
発生し、外観を損なうおそれがある。
【0077】意匠性塗膜の形成方法 上述の意匠性塗膜1を形成する場合は、基材上に上述の
意匠性塗膜基層2を形成し、この意匠性塗膜基層2上に
上述の上塗り層3を形成する。この方法が適用される基
材としては、例えば、コンクリート、モルタル、ALC
などの一般建築材料として用いられているものやアルミ
ニウム、アルミニウム合金、ステンレス、銅などの形状
保持性を有する材料などが挙げられる。
意匠性塗膜基層2を形成し、この意匠性塗膜基層2上に
上述の上塗り層3を形成する。この方法が適用される基
材としては、例えば、コンクリート、モルタル、ALC
などの一般建築材料として用いられているものやアルミ
ニウム、アルミニウム合金、ステンレス、銅などの形状
保持性を有する材料などが挙げられる。
【0078】基材がコンクリート、モルタル、ALCな
どの場合は、必要に応じて下地処理剤としてのプライマ
ーを予め塗布してから意匠性塗膜基層2を形成する。な
お、意匠性塗膜基層2および上塗り層3の形成方法は、
上述の通りである。
どの場合は、必要に応じて下地処理剤としてのプライマ
ーを予め塗布してから意匠性塗膜基層2を形成する。な
お、意匠性塗膜基層2および上塗り層3の形成方法は、
上述の通りである。
【0079】このような意匠性塗膜の形成方法によれ
ば、適用する基材の種類により、建築物の外壁や内壁に
対して直接に意匠性塗膜を形成することができ、あるい
は、後述する化粧板を製造することができる。
ば、適用する基材の種類により、建築物の外壁や内壁に
対して直接に意匠性塗膜を形成することができ、あるい
は、後述する化粧板を製造することができる。
【0080】化粧板 図2は、本発明に係る化粧板の一形態の縦断面図であ
る。図において、化粧板10は、矩形の板状であり、基
板11と、基板11上に配置された意匠性塗膜12とを
主に備えている。なお、化粧板10大きさは、例えば9
00×600mmや600×450mmに設定されてい
る。
る。図において、化粧板10は、矩形の板状であり、基
板11と、基板11上に配置された意匠性塗膜12とを
主に備えている。なお、化粧板10大きさは、例えば9
00×600mmや600×450mmに設定されてい
る。
【0081】基板11は、アルミニウム、アルミニウム
合金、ステンレス、銅などの形状保持性を有する材料か
らなる板状の部材であり、通常、厚さが0.13〜0.
3mmに設定されている。厚さが0.13mm未満の場
合は、化粧板1の強度が低下し、また、撓みが大きくな
るため、施工性などが低下する場合がある。逆に、厚さ
が0.3mmを超えると、施工時に所望の大きさにカッ
ティングしにくくなる。なお、基板11用の材料として
好ましいものは、施工時のカッティング性などの加工
性、付着性および耐久性が良好なアルミニウムである。
合金、ステンレス、銅などの形状保持性を有する材料か
らなる板状の部材であり、通常、厚さが0.13〜0.
3mmに設定されている。厚さが0.13mm未満の場
合は、化粧板1の強度が低下し、また、撓みが大きくな
るため、施工性などが低下する場合がある。逆に、厚さ
が0.3mmを超えると、施工時に所望の大きさにカッ
ティングしにくくなる。なお、基板11用の材料として
好ましいものは、施工時のカッティング性などの加工
性、付着性および耐久性が良好なアルミニウムである。
【0082】意匠性塗膜12は、上述の意匠性塗膜1と
同様に構成されており、同様の意匠性塗膜基層13と上
塗り層14とを備えている。
同様に構成されており、同様の意匠性塗膜基層13と上
塗り層14とを備えている。
【0083】なお、このような化粧板10は、基板11
と意匠性塗膜12との間にベースコート層をさらに備え
ていてもよい。ベースコート層は、基板11を保護する
ためのものであり、通常、エポキシ系樹脂からなる。こ
のようなベースコート層の厚さは、5〜15μmに設定
するのが好ましい。
と意匠性塗膜12との間にベースコート層をさらに備え
ていてもよい。ベースコート層は、基板11を保護する
ためのものであり、通常、エポキシ系樹脂からなる。こ
のようなベースコート層の厚さは、5〜15μmに設定
するのが好ましい。
【0084】このような化粧板10は、例えば、建築物
の外壁面や内壁面に対してセメントや接着剤等を用いて
貼付られ、当該外壁面や内壁面に意匠性を付与し得る。
の外壁面や内壁面に対してセメントや接着剤等を用いて
貼付られ、当該外壁面や内壁面に意匠性を付与し得る。
【0085】上述の意匠性塗膜1および化粧板10は、
上塗り層3,14が上述の水性常温硬化性樹脂組成物を
用いて形成されているため、上塗り層3,14が太陽光
や雨水等に曝されても白化しにくい。したがって、意匠
性塗膜1および化粧板10は、良好な意匠性を長期間良
好に維持し得る。
上塗り層3,14が上述の水性常温硬化性樹脂組成物を
用いて形成されているため、上塗り層3,14が太陽光
や雨水等に曝されても白化しにくい。したがって、意匠
性塗膜1および化粧板10は、良好な意匠性を長期間良
好に維持し得る。
【0086】
【実施例】製造例 撹拌機、温度制御装置、滴下漏斗および窒素導入管を備
えたガラス製の3リットルフラスコに、ラジカル重合性
乳化剤としての「Antox MS−60」(有効成分
90%)3gと「アクアロンRN−50」(有効成分6
5%)8gとを脱イオン水343gに溶解させた乳化剤
水溶液を仕込み、窒素雰囲気下で83℃に加熱した。こ
れに、スチレン300g、メタクリル酸メチル260
g、アクリル酸2−エチルヘキシル240gおよびアク
リル酸4−ヒドロキシブチル200gからなるモノマー
混合物1,000gのうちの50gを仕込んだ。その
後、大塚化学株式会社製の重合開始剤「ACVA」(有
効成分80%)10gに脱イオン水300gを加えてジ
メチルエタノールアミン5gにより中和して溶解させた
開始剤水溶液の1/4量を加えて重合を開始させた。
えたガラス製の3リットルフラスコに、ラジカル重合性
乳化剤としての「Antox MS−60」(有効成分
90%)3gと「アクアロンRN−50」(有効成分6
5%)8gとを脱イオン水343gに溶解させた乳化剤
水溶液を仕込み、窒素雰囲気下で83℃に加熱した。こ
れに、スチレン300g、メタクリル酸メチル260
g、アクリル酸2−エチルヘキシル240gおよびアク
リル酸4−ヒドロキシブチル200gからなるモノマー
混合物1,000gのうちの50gを仕込んだ。その
後、大塚化学株式会社製の重合開始剤「ACVA」(有
効成分80%)10gに脱イオン水300gを加えてジ
メチルエタノールアミン5gにより中和して溶解させた
開始剤水溶液の1/4量を加えて重合を開始させた。
【0087】開始剤添加10分後から、ラジカル重合性
乳化剤としての「Antox MS−60」19gと
「アクアロンRN−50」23gとを脱イオン水600
gに溶解させた乳化剤水溶液に上述のモノマー混合物の
残り950gを撹拌しながら添加して乳化させることに
より得られたモノマーエマルションを120分間かけて
滴下し、これとともに開始剤水溶液の残り3/4量を1
40分間かけて均一に滴下した。滴下終了後、そのまま
120分間同温度に維持しながら撹拌を続け、反応を終
了させた。冷却後、400メッシュの金網で濾過して得
られたアクリルエマルションは、水酸基価が79、酸価
が0、樹脂固形分が45%、pHが6.3であった。
乳化剤としての「Antox MS−60」19gと
「アクアロンRN−50」23gとを脱イオン水600
gに溶解させた乳化剤水溶液に上述のモノマー混合物の
残り950gを撹拌しながら添加して乳化させることに
より得られたモノマーエマルションを120分間かけて
滴下し、これとともに開始剤水溶液の残り3/4量を1
40分間かけて均一に滴下した。滴下終了後、そのまま
120分間同温度に維持しながら撹拌を続け、反応を終
了させた。冷却後、400メッシュの金網で濾過して得
られたアクリルエマルションは、水酸基価が79、酸価
が0、樹脂固形分が45%、pHが6.3であった。
【0088】こうして得られたアクリルエマルション
に、2重量%のチヌビン1130(チバガイギー株式会
社製の紫外線吸収剤)および1重量%のサノールLS2
92(三共株式会社製の光安定化剤)を添加した。
に、2重量%のチヌビン1130(チバガイギー株式会
社製の紫外線吸収剤)および1重量%のサノールLS2
92(三共株式会社製の光安定化剤)を添加した。
【0089】次に、親水性ポリイソシアネート「DC−
3900」30gに、脱イオン水30gを撹拌しながら
少量ずつ添加し、固形分が50%の水分散液を得た。こ
の水分散液を即座に上述のアクリルエマルション222
gに加えることにより、水性常温硬化性樹脂組成物(ク
リヤー塗料)を得た。
3900」30gに、脱イオン水30gを撹拌しながら
少量ずつ添加し、固形分が50%の水分散液を得た。こ
の水分散液を即座に上述のアクリルエマルション222
gに加えることにより、水性常温硬化性樹脂組成物(ク
リヤー塗料)を得た。
【0090】実施例 防錆処理を施したアルミニウム板を用意し、これにベー
スコート層と意匠性塗膜基層とが合計で3〜5mmにな
るよう意匠性塗料(日本ペイント株式会社製の「ジキト
ーン」)を塗装して室温で24時間乾燥させた。
スコート層と意匠性塗膜基層とが合計で3〜5mmにな
るよう意匠性塗料(日本ペイント株式会社製の「ジキト
ーン」)を塗装して室温で24時間乾燥させた。
【0091】次に、得られた意匠性塗膜基層上に製造例
で得られたクリヤー塗料を0.2〜0.3kg/m2 に
なるよう塗装して室温で7日間乾燥させ、意匠性塗膜基
層とクリヤー層とを有する意匠性塗膜を備えた化粧板を
得た。
で得られたクリヤー塗料を0.2〜0.3kg/m2 に
なるよう塗装して室温で7日間乾燥させ、意匠性塗膜基
層とクリヤー層とを有する意匠性塗膜を備えた化粧板を
得た。
【0092】比較例1 クリヤー塗料として市販のシリコーン樹脂塗料を用いた
点を除き、実施例と同様にして化粧板を得た。
点を除き、実施例と同様にして化粧板を得た。
【0093】比較例2 クリヤー塗料として市販のアクリルウレタン樹脂塗料を
用いた点を除き、実施例と同様にして化粧板を得た。
用いた点を除き、実施例と同様にして化粧板を得た。
【0094】評価 実施例および比較例1,2で得られた化粧板について、
意匠性塗膜の初期付着性、二次付着性、耐衝撃性、耐ア
ルカリ性、耐水性、凍結融解性および促進耐候性を評価
した。評価の方法は下記の通りである。結果を表1に示
す。
意匠性塗膜の初期付着性、二次付着性、耐衝撃性、耐ア
ルカリ性、耐水性、凍結融解性および促進耐候性を評価
した。評価の方法は下記の通りである。結果を表1に示
す。
【0095】(初期付着性)JIS A 6910に従
って評価した。 (二次付着性)後述する耐水性試験を実施した化粧板に
ついて、JIS A 6910に従って評価した。 (耐衝撃性)JIS K 5400 8.3.2 デュ
ポン式に従って、意匠性塗膜に対して500gl/2i
nの衝撃を加えて評価した。 (耐アルカリ性)飽和水酸化カルシウム水溶液に30日
間浸漬した後の塗膜表面の状態を目視により判定した。
判定基準は下記の通りである。 ○:異常なし。 △:クリヤー塗膜層が白化。
って評価した。 (二次付着性)後述する耐水性試験を実施した化粧板に
ついて、JIS A 6910に従って評価した。 (耐衝撃性)JIS K 5400 8.3.2 デュ
ポン式に従って、意匠性塗膜に対して500gl/2i
nの衝撃を加えて評価した。 (耐アルカリ性)飽和水酸化カルシウム水溶液に30日
間浸漬した後の塗膜表面の状態を目視により判定した。
判定基準は下記の通りである。 ○:異常なし。 △:クリヤー塗膜層が白化。
【0096】(耐水性)水に30日間浸漬した後の塗膜
表面の状態を目視により判定した。判定基準は耐アルカ
リ性の場合と同様である。 (凍結融解性)ASTM C 666−75に従って3
00サイクルの試験を実施し、塗膜表面の状態を目視に
より判定した。判定基準は耐アルカリ性の場合と同様で
ある。 (促進耐候性)サンシャインウエザオメーターを用いて
1000時間の試験を実施し、塗膜表面の状態を目視に
より判定した。判定基準は耐アルカリ性の場合と同様で
ある。
表面の状態を目視により判定した。判定基準は耐アルカ
リ性の場合と同様である。 (凍結融解性)ASTM C 666−75に従って3
00サイクルの試験を実施し、塗膜表面の状態を目視に
より判定した。判定基準は耐アルカリ性の場合と同様で
ある。 (促進耐候性)サンシャインウエザオメーターを用いて
1000時間の試験を実施し、塗膜表面の状態を目視に
より判定した。判定基準は耐アルカリ性の場合と同様で
ある。
【0097】
【表1】
【0098】
【発明の効果】本発明に係る意匠性塗膜は、上塗り層を
上述の水性常温硬化性樹脂組成物を用いて形成している
ので、当該上塗り層が白化等を起こしにくく、意匠性塗
膜基層により表現される意匠性が損なわれにくい。
上述の水性常温硬化性樹脂組成物を用いて形成している
ので、当該上塗り層が白化等を起こしにくく、意匠性塗
膜基層により表現される意匠性が損なわれにくい。
【0099】本発明に係る意匠性塗膜の形成方法では、
上述の水性常温硬化性樹脂組成物を用いて上塗り層を形
成しているので、意匠性塗膜基層により表現される意匠
性が上塗り層の白化により損なわれにくい意匠性塗膜を
実現することができる。
上述の水性常温硬化性樹脂組成物を用いて上塗り層を形
成しているので、意匠性塗膜基層により表現される意匠
性が上塗り層の白化により損なわれにくい意匠性塗膜を
実現することができる。
【0100】本発明に係る化粧板は、上述の意匠性塗膜
を備えているので、上塗り層が白化等を起こしにくく、
意匠性塗膜基層により表現される意匠性が損なわれにく
い。
を備えているので、上塗り層が白化等を起こしにくく、
意匠性塗膜基層により表現される意匠性が損なわれにく
い。
【図1】本発明の一形態に係る意匠性塗膜の縦断面図。
【図2】本発明の一形態に係る化粧板の縦断面図。
1 意匠性塗膜 2 意匠性塗膜基層 3 上塗り層 10 化粧板 11 基板 12 意匠性塗膜 13 意匠性塗膜基層 14 上塗り層
Claims (9)
- 【請求項1】意匠性塗膜基層と、 前記意匠性塗膜基層上に配置された上塗り層とを備え、 前記上塗り層は、イソシアネート基と反応可能な基を有
しかつ乳化重合により得られたアクリルエマルション
と、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬
化性樹脂組成物を用いて形成されている、意匠性塗膜。 - 【請求項2】前記アクリルエマルションの樹脂固形分水
酸基価が20〜200である、請求項1に記載の意匠性
塗膜。 - 【請求項3】前記アクリルエマルションは、樹脂固形分
酸価が5以下である、請求項1または2に記載の意匠性
塗膜。 - 【請求項4】前記アクリルエマルションは、ラジカル重
合性不飽和基を有する乳化剤を用いて乳化重合されたも
のである、請求項1、2または3に記載の意匠性塗膜。 - 【請求項5】前記乳化剤は、前記ラジカル重合性不飽和
基の他に親水基および疎水基を有し、前記ラジカル重合
性不飽和基がアリル基、プロペニル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基およびマレオイル基からなる群か
ら選ばれた少なくとも1種であり、前記親水基が硫酸
基、スルホン酸基、リン酸基、カルボキシル基およびポ
リオキシエチレン基からなる群から選ばれた少なくとも
1種であり、前記疎水基が炭素数6〜60のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、アルキルアリール
基、アリール基およびこれらを側鎖に持つ炭化水素基か
らなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項4
に記載の意匠性塗膜。 - 【請求項6】前記自己乳化型ポリイソシアネートが、脂
肪族または脂環族系のポリイソシアネートおよびその誘
導体の一部のイソシアネート基をポリエチレンオキシド
モノアルキルエーテルと反応させて水分散性を付与した
ポリイソシアネートである、請求項1、2、3、4また
は5に記載の意匠性塗膜。 - 【請求項7】基材上に意匠性塗膜基層を形成する工程
と、 前記意匠性塗膜基層上に上塗り層を形成する工程とを含
み、 前記上塗り層は、イソシアネート基と反応可能な基を有
しかつ乳化重合により得られたアクリルエマルション
と、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬
化性樹脂組成物を用いることにより形成される、意匠性
塗膜の形成方法。 - 【請求項8】形状保持性を有する基板と、 前記基板上に設けられた意匠性塗膜基層と、 前記意匠性塗膜基層上に配置された上塗り層とを備え、 前記上塗り層は、イソシアネート基と反応可能な基を有
しかつ乳化重合により得られたアクリルエマルション
と、自己乳化型ポリイソシアネートとを含む水性常温硬
化性樹脂組成物を用いて形成されている、化粧板。 - 【請求項9】前記基板がアルミニウム板である、請求項
8に記載の化粧板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34918395A JPH09169933A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | 意匠性塗膜、その形成方法および化粧板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34918395A JPH09169933A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | 意匠性塗膜、その形成方法および化粧板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09169933A true JPH09169933A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=18402042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34918395A Pending JPH09169933A (ja) | 1995-12-19 | 1995-12-19 | 意匠性塗膜、その形成方法および化粧板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09169933A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002265862A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | 塗膜の形成方法および塗装物 |
JP2007098660A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 優れた耐汚染性を有する化粧シート |
JP2010106117A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 水系二液型ポリウレタン塗料用組成物の調製方法 |
US7745530B2 (en) | 2001-06-28 | 2010-06-29 | Daikin Industries, Ltd. | Aqueous emulsion resin compositions |
JP2018203957A (ja) * | 2017-06-09 | 2018-12-27 | ナトコ株式会社 | 水性塗料組成物及びその製造方法 |
-
1995
- 1995-12-19 JP JP34918395A patent/JPH09169933A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002265862A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Dainippon Ink & Chem Inc | 塗膜の形成方法および塗装物 |
US7745530B2 (en) | 2001-06-28 | 2010-06-29 | Daikin Industries, Ltd. | Aqueous emulsion resin compositions |
JP2007098660A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 優れた耐汚染性を有する化粧シート |
JP4619255B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2011-01-26 | 大日本印刷株式会社 | 優れた耐汚染性を有する化粧シート |
JP2010106117A (ja) * | 2008-10-29 | 2010-05-13 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 水系二液型ポリウレタン塗料用組成物の調製方法 |
JP2018203957A (ja) * | 2017-06-09 | 2018-12-27 | ナトコ株式会社 | 水性塗料組成物及びその製造方法 |
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