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JPH07282981A - 電界発光素子 - Google Patents

電界発光素子

Info

Publication number
JPH07282981A
JPH07282981A JP6071796A JP7179694A JPH07282981A JP H07282981 A JPH07282981 A JP H07282981A JP 6071796 A JP6071796 A JP 6071796A JP 7179694 A JP7179694 A JP 7179694A JP H07282981 A JPH07282981 A JP H07282981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent electrode
thin film
film
semiconductor thin
refractive index
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6071796A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Nakayama
隆博 中山
Atsushi Tsunoda
角田  敦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP6071796A priority Critical patent/JPH07282981A/ja
Publication of JPH07282981A publication Critical patent/JPH07282981A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/852Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】硝子基板101上に、TiO2 とSiO2 膜を
積層した半透明反射膜102で形成している。その上
に、前部透明電極(ITO)103,ホール注入層(ジ
アミン誘導体)104,発光層(アルミキレート)10
5,後部Ag:Mg金属電極106を、順に形成してい
る。103,104,105の、それぞれの平均膜厚と
屈折率の積から得られる光学的距離の和は、アルミキレ
ートのEL発光のピーク波長の、530nmと一致させ
ている。 【効果】微小共振器構造を有する電界発光素子の、発光
スペクトルの半値幅の減少,ピーク強度や発光効率の増
大などの発光特性の向上を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気−光変換を実現
し、情報通信分野において、表示素子,通信用発光デバ
イス,情報ファイル用読/書ヘッド,印刷装置などに利
用される電界発光素子に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、アプライド・フィジクス・レタ
ー,Vol.63,1993年,p.594−p.594
には、微小共振器構造を有する電界発光素子について報
告されているが、これらの素子は、透明電極−導電薄膜
間の界面の凹凸のために生じる光学距離の不均一が、特
性低下の原因となっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、微小共振器
構造を有する電界発光素子の発光スペクトルの半値幅の
減少,ピーク強度や発光効率の増大などの発光特性改善
を図るものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】以上の課題を達成するた
め、本発明は、発光素子の透明電極と透明基板との間
に、前記発光素子の発光の1部を前記透明基板側に透過
し、1部を膜側に反射する前面反射鏡を持ち、前記前面
反射鏡と背面の金属電極との間が光共振器として機能す
る電界発光素子において、前記透明電極の屈折率をn
1、前記透明電極上に形成する半導体性薄膜の屈折率を
n2、前記金属電極と接する前記半導体性薄膜の屈折率
をn3、前記透明電極−前記半導体薄膜間の界面の荒さ
をa1、前記半導体薄膜−前記金属電極間の界面の荒さ
をa2とするとき、前記透明電極として、
【0005】
【数2】 |n1−n2|×a1<n3×a2 …(数2) なる関係を満たす薄膜を用いることを特徴とする。
【0006】
【作用】素子では、それぞれの薄膜の表面凹凸のために
膜厚の誤差が生じ、光学的距離が一定の長さにはならな
いために、画素平均で観測する場合、発光スペクトルの
共振ピークの半値幅が広くなり、ピーク強度が低下す
る。現実に、この性能の低下に最も効果を及ぼすものは
透明電極の表面平滑性であり、最表面の半導体性薄膜の
表面平滑性がこれに次ぐ。最表面の半導体性薄膜の表面
平滑性の向上には、高真空蒸着や低速蒸着などの、蒸着
条件の改良が有効である。一方、透明電極と半導体性膜
との界面は、透明電極の形成条件の改良による平滑性の
向上とわあわせて、半導体性薄膜に近い屈折率の透明電
極を用いることにより、光学的距離の誤差を小さくする
ことができる。
【0007】透明電極−半導体性薄膜間の界面の凹凸の
ために生じる光学距離の不均一の程度は、|n1−n2
|×a1で表現され、薄膜表面の凹凸のために生じる光
学距離の不均一はn3×a2で表現される。透明電極と
して、その上に形成する薄膜との屈折率の差が小さく、
表面荒さが小さい薄膜を用いて、上記の関係を達成する
ことにより、透明電極−半導体性薄膜間の界面の凹凸の
ために生じる特性低下を解決することができる。この式
を満たす範囲では、透明電極の特性改変が素子特性に及
ぼす効果は小さく、発光スペクトルの特性は主として最
表面の半導体性薄膜表面の凹凸により支配される。
【0008】
【実施例】図1に、微小共振器構造を有する有機電界発
光素子の断面図を示す。硝子基板101上に、TiO2
とSiO2 膜を積層した半透明反射膜102で形成して
いる。その上に、前部透明電極(ITO)103,ホー
ル注入層(ジアミン誘導体)104,発光層(アルミキレ
ート)105,後部Ag:Mg金属電極106を、順に
形成している。103,104,105の、それぞれの
平均膜厚と屈折率の積から得られる光学的距離の和は、
アルミキレートのEL発光のピーク波長の、530nm
と一致させている。
【0009】図2に、図1の構造の素子を用いた、(|
n1−n2|×a1)/(n3×a2)が10の素子A
と、0.1 の素子Bで得られる発光スペクトルを示す。
本発明を適用した素子である素子Bは、素子Aよりも半
値幅が狭く、発光強度が高い。
【0010】図3に、図1の構造の素子を用いた(|n
1−n2|×a1)/(n3×a2)と発光スペクトルの
半値幅との関係を示す。発光スペクトルの半値幅の変化
が顕著なのは、(|n1−n2|×a1)/(n3×a
2)の値が1より大きい範囲である。
【0011】
【発明の効果】本発明によれば、微小共振器構造を有す
る電界発光素子の、発光スペクトルの半値幅の減少,ピ
ーク強度や発光効率の増大などの発光特性の向上を得る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】半透明反射鏡を有する有機発光素子の断面図。
【図2】(|n1−n2|×a1)/(n3×a2)が1
0の素子と、0.1 の素子の、発光スペクトルの比較を
示す特性図。
【図3】(|n1−n2|×a1)/(n3×a2)と発
光スペクトルの半値幅との関係を示す特性図。
【符号の説明】
101…硝子基板、102…TiO2 膜とSiO2 膜を
積層した半透明反射膜、103…前部透明電極(IT
O)、104…ジアミン誘導体(TAD)のホール注入
層、105…アルミキレート(ALQ)の発光層、10
6…Ag:Mg金属電極、201…本発明から外れた特
性の透明電極を用いた素子の発光スペクトル、202…
本発明の示す特性の透明電極を用いた素子の発光スペク
トル。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】発光素子の透明電極と透明基板との間に、
    前記発光素子の発光の1部を前記透明基板側に透過し、
    1部を膜側に反射する前面反射鏡を持ち、前記前面反射
    鏡と背面の金属電極との間が光共振器として機能する電
    界発光素子において、前記透明電極の屈折率をn1、前
    記透明電極上に形成する半導体性薄膜の屈折率をn2、
    前記金属電極と接する前記半導体性薄膜の屈折率をn
    3、前記透明電極−前記半導体薄膜間の界面の荒さをa
    1、前記半導体薄膜−前記金属電極間の界面の荒さをa
    2とするとき、前記透明電極として、 【数1】 |n1−n2|×a1<n3×a2 …(数1) なる関係を満たす薄膜を用いることを特徴とする電界発
    光素子。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記透明電極、前記前
    面反射鏡以外の前記半導体薄膜の一部に有機膜を用いる
    電界発光素子。
JP6071796A 1994-04-11 1994-04-11 電界発光素子 Pending JPH07282981A (ja)

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JP6071796A JPH07282981A (ja) 1994-04-11 1994-04-11 電界発光素子

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JPH07282981A true JPH07282981A (ja) 1995-10-27

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JP (1) JPH07282981A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09180883A (ja) * 1995-10-27 1997-07-11 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 微小光共振器型有機電界発光素子
JP2000323279A (ja) * 1999-03-10 2000-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 露光光源用有機発光素子
US6903506B2 (en) 2001-03-27 2005-06-07 Konica Corporation Organic electroluminescent element, displaying apparatus, light emitting method, displaying method and transparent substrate
US7132789B2 (en) 2003-08-18 2006-11-07 Seiko Epson Corporation Organic EL device, method of manufacturing the same and electronic apparatus

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JP2000323279A (ja) * 1999-03-10 2000-11-24 Fuji Photo Film Co Ltd 露光光源用有機発光素子
US6903506B2 (en) 2001-03-27 2005-06-07 Konica Corporation Organic electroluminescent element, displaying apparatus, light emitting method, displaying method and transparent substrate
US7132789B2 (en) 2003-08-18 2006-11-07 Seiko Epson Corporation Organic EL device, method of manufacturing the same and electronic apparatus

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