JPH0620177B2 - Internal bias generation circuit for semiconductor device - Google Patents
Internal bias generation circuit for semiconductor deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、リングオシレータとチャージポンプ回路を用
いた半導体装置の内部バイアス発生回路に関する。Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an internal bias generation circuit of a semiconductor device using a ring oscillator and a charge pump circuit.
[発明の技術的背景とその問題点] 従来、集積回路の内部バイアス発生回路例えば、基板バ
イアス発生回路にリングオシレータが用いられている。
第1図に従来の基板バイアス発生回路を示す。1はMO
Sインバータを複数段接続したリングオシレータ、2a
および2b はクロックジェネレータ、3a および3b は
チャージポンプ回路である。[Technical Background of the Invention and Problems Thereof] A ring oscillator is conventionally used in an internal bias generation circuit of an integrated circuit, for example, a substrate bias generation circuit.
FIG. 1 shows a conventional substrate bias generating circuit. 1 is MO
Ring oscillator with S inverter connected in multiple stages, 2a
And 2b are clock generators, and 3a and 3b are charge pump circuits.
第1図において、ドレン電源電圧VDDとソース電源電
圧VSSとが投入されると、リングオシレータ1が動作
する。位相がほぼ180゜違う2種類のリングオシレー
タ出力φAとφBをクロックジェネレータ2a と2b に
それぞれ入力すると、クロックジェネレータ2a ,2b
の各出力ノードNa とNb の出力波形は位相がほぼ18
0゜違って出力される。このため、チャージポンプ回路
の33 と3b のコンデンサCa とCb は、交互に充放電
を繰り返し、基板バイアス発生回路の出力電圧VBBを
一定に保つように働く。In FIG. 1, when the drain power supply voltage V DD and the source power supply voltage V SS are turned on, the ring oscillator 1 operates. When two types of ring oscillator outputs φ A and φ B whose phases are different from each other by 180 ° are input to the clock generators 2a and 2b, respectively, the clock generators 2a and 2b are input.
The output waveforms of the output nodes Na and Nb of
It is output differently by 0 °. Therefore, the capacitors Ca and Cb of 3 3 and 3b of the charge pump circuit alternately repeat charging and discharging, and work to keep the output voltage V BB of the substrate bias generating circuit constant.
しかしながら、集積回路基板の電圧は、集積回路動作時
に大きく変動する。その原因の一つに基板と配線に用い
ている不純物拡散層との容量結合があげられる。例えば
MOS−DRAMの場合、アクティブサイクルのセンス
アンプ動作時に、配線に用いているN+の不純物拡散層
の電圧が急激に高いレベルから低いレベルに変動する。
このため、P型基板の電圧もPN接合の容量結合によ
り、低くなる。第1図に示したような従来の基板バイア
ス発生回路では、基板の電圧が変動しても、それに追従
して、リングオシレータの発振周波数はあまり変化しな
いために、基板の電圧が基準電圧に復帰するのに時間が
かかった。このため、周辺回路のMOSFETのしきい
値電圧が変動し、回路の動作スピードも変動し、誤動作
を招いたり、信頼性をそこねる等の問題が生じていた。However, the voltage of the integrated circuit board fluctuates greatly when the integrated circuit operates. One of the causes is capacitive coupling between the substrate and the impurity diffusion layer used for wiring. For example, in the case of a MOS-DRAM, the voltage of the N + impurity diffusion layer used for wiring abruptly changes from a high level to a low level during a sense amplifier operation in an active cycle.
Therefore, the voltage of the P-type substrate also becomes low due to the capacitive coupling of the PN junction. In the conventional substrate bias generating circuit as shown in FIG. 1, even if the voltage of the substrate fluctuates, the oscillation frequency of the ring oscillator does not change much following the fluctuation of the voltage of the substrate, so that the voltage of the substrate returns to the reference voltage. It took me a while to do it. For this reason, the threshold voltage of the MOSFET in the peripheral circuit fluctuates, the operating speed of the circuit also fluctuates, and problems such as malfunctions and loss of reliability occur.
また、従来の基板バイアス発生回路においては、電源投
入時に、リングオシレータのドライバトランジスタのし
きい値電圧が低いために、パワーオンカレントという電
流が急激に流れる現象が起こる。このため、リングオシ
レータが発振しなくなる問題があった。Further, in the conventional substrate bias generating circuit, when the power is turned on, a phenomenon called power-on current rapidly flows because the threshold voltage of the driver transistor of the ring oscillator is low. Therefore, there is a problem that the ring oscillator does not oscillate.
[発明の目的] 本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので、信頼性
の高い半導体装置の内部バイアス発生回路を提供するこ
とを目的とする。[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a highly reliable internal bias generation circuit for a semiconductor device.
[発明の概要] 本発明は、リングオシレータの負荷MOSFETのゲー
トの入力電圧を制御することによってリングオシレータ
の発振周波数を制御し、このリングオシレータを用いた
内部バイアス発生回路において、例えば変動の少ない内
部バイアス出力電圧を得るようにしたものですなわち、
上記の目的を達成するために本発明の半導体装置の内部
バイアス発生回路は、複数段のMOSインバータにより
構成されるリングオシレータと、このリングオシレータ
の出力により駆動されるチャージポンプ回路とを有する
半導体装置の内部バイアス発生回路において、前記リン
グオシレータを構成するMOSインバータの負荷MOS
FETのうち、所定の負荷MOSFETのゲートにオン
またはオフ用の電位を、前記内部バイアス発生回路の負
荷となる動作回路の状態に対応して選択的に与え、残り
の負荷MOSFETのゲートに固定電位を与えるゲート
制御手段を備えたことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention controls the oscillation frequency of the ring oscillator by controlling the input voltage of the gate of the load MOSFET of the ring oscillator, and in an internal bias generation circuit using this ring oscillator, for example The bias output voltage is obtained, that is,
To achieve the above object, an internal bias generation circuit of a semiconductor device according to the present invention includes a ring oscillator including a plurality of stages of MOS inverters, and a charge pump circuit driven by the output of the ring oscillator. In the internal bias generation circuit of the load MOS of the MOS inverter that constitutes the ring oscillator
Of the FETs, an ON or OFF potential is selectively applied to the gate of a predetermined load MOSFET in accordance with the state of an operating circuit serving as a load of the internal bias generation circuit, and a fixed potential is applied to the gates of the remaining load MOSFETs. Is provided with a gate control means.
[発明の効果] 本発明の内部バイアス発生回路を用い、その出力電圧で
リングオシレータの負荷MOSFETのゲートを制御す
るように構成すれば、内部バイアス発生回路の出力電圧
が基準電圧から変動すると、リングオシレータの発振周
波数が変化し、それにより、内部バイアス発生回路の動
作スピードが変化し、すぐに、出力電圧を基準電圧にも
どすことが可能となった。また、前記内部バイアス発生
回路の出力電圧の基準電圧は、前記リングオシレータの
インバータを構成する負荷MOSFETのゲートの入力
電圧を変え、リングオシレータの発振周波数を変えるこ
とにより、簡単に制御できるようになった。これによ
り、信頼性の高い、低消費電流の内部バイアス発生回路
の実現が可能となった。さらに、基板バイアス発生回路
においては、電源投入時に前記パワーオンカレントが減
少し、確実に基板バイアス発生回路は動作するようにな
った。[Effects of the Invention] When the internal bias generating circuit of the present invention is used and the output voltage of the internal bias generating circuit controls the gate of the load MOSFET of the ring oscillator, when the output voltage of the internal bias generating circuit fluctuates from the reference voltage, the ring The oscillation frequency of the oscillator changed, which changed the operation speed of the internal bias generation circuit, and it became possible to immediately return the output voltage to the reference voltage. Further, the reference voltage of the output voltage of the internal bias generation circuit can be easily controlled by changing the input voltage of the gate of the load MOSFET forming the inverter of the ring oscillator and changing the oscillation frequency of the ring oscillator. It was As a result, it has become possible to realize a highly reliable internal bias generation circuit with low current consumption. Further, in the substrate bias generating circuit, the power-on current is reduced when the power is turned on, and the substrate bias generating circuit comes to operate reliably.
[発明の実施例] 本発明の実施例の説明に先立ち、本発明におけるリング
オシレータの発振周波数制御の方式を図面を用いて以下
に述べる。[Embodiment of the Invention] Prior to description of an embodiment of the present invention, a method of controlling an oscillation frequency of a ring oscillator according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
第2図はそのようなリングオシレータの一例を示す回路
図であり、第3図はその名ノードのタイミンク波形であ
る。FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of such a ring oscillator, and FIG. 3 is a timing waveform of its name node.
第2図は、各MOSインバータの負荷MOSFETを2
個とし、その一方のゲートは共通のノードAに接続され
ていて、他方のゲートはドレン電源電圧VDDに接続さ
れ、常に導通状態にある。即ち、ノードAの制御電圧が
低くて負荷MOSFET−Q221,Q222,Q
223,Q224,Q225が非導通状態にあっても、
第3図のように、リングオシレータは低周波で動作して
いる。しかし、ノードAの電圧が高くなると、負荷MO
SFET−Q221,Q222,Q223,Q224,
Q225は導通状態になり、ドライバMOSFET−Q
211,Q212,Q213,Q214,Q215のゲ
ートの充放電は速く行なわれ、リングオシレータは高周
波で動作するようになる。Figure 2 shows the load MOSFET of each MOS inverter.
One of the gates is connected to the common node A, and the other gate is connected to the drain power supply voltage V DD and is always in a conductive state. That is, the control voltage of the node A is low and the load MOSFETs-Q 221 , Q 222 , and Q
Even if 223 , Q 224 , and Q 225 are in the non-conduction state,
As shown in FIG. 3, the ring oscillator operates at a low frequency. However, if the voltage at node A increases, the load MO
SFET-Q 221 , Q 222 , Q 223 , Q 224 ,
Q225 becomes conductive, and driver MOSFET-Q
The gates of 211 , Q 212 , Q 213 , Q 214 , and Q 215 are charged and discharged quickly, and the ring oscillator operates at a high frequency.
このように、ノードAの電圧を制御することにより、負
荷コンダクタンスを制御してリングオシレータの発振周
波数を簡単に変えることができる。Thus, by controlling the voltage of the node A, the load conductance can be controlled and the oscillation frequency of the ring oscillator can be easily changed.
第4図は、第2図の構成に加えて更に負荷MOSFET
−Q241,Q242,…、Q245を設けた例であ
り、ノードAの電圧とノードBの電圧の両方の制御電圧
によって、リングオシレータの発振周波数を制御する場
合である。FIG. 4 shows a load MOSFET in addition to the configuration of FIG.
This is an example in which -Q 241 , Q 242 , ..., Q 245 are provided, and the oscillation frequency of the ring oscillator is controlled by both control voltages of the voltage of the node A and the voltage of the node B.
以上のように、リングオシレータの負荷MOSFETの
ゲートを制御することによって、その発振周波数を適当
に変化させることができる。As described above, the oscillation frequency can be appropriately changed by controlling the gate of the load MOSFET of the ring oscillator.
なお、第2図,第4図でゲートをVDDに接続した負荷
MOSFET−Q231,Q232,…,Q235はD
タイプ,E口タイプいずれでもよいし、またこれがなく
てもよい。更にインバータがCMOSで作られている場
合も有効である。2 and 4, the load MOSFETs-Q 231 , Q 232 , ..., Q 235 whose gates are connected to V DD are D
Either type or E type may be used, or it may not be provided. Further, it is also effective when the inverter is made of CMOS.
以上のようなリングオシレータを用いた本発明の内部バ
イアス発生回路の一実施例を第5図を用いて説明する。An embodiment of the internal bias generating circuit of the present invention using the above ring oscillator will be described with reference to FIG.
第5図の内部バイアス発生回路は、リングオシレータ5
1と、その出力によって制御されるチャージポンプ回路
を含む電圧発生回路52およびその出力レベルを検知す
るレベル検知回路53からなる。そしてリングオシレー
タ51のMOSインバータを構成する負荷MOSFET
−Q521,Q522,…,Q525のゲートAがレベ
ル検知回路53の出力により制御されるようになってい
る。The internal bias generation circuit of FIG.
1, a voltage generating circuit 52 including a charge pump circuit controlled by its output, and a level detecting circuit 53 for detecting its output level. And a load MOSFET forming a MOS inverter of the ring oscillator 51
-Q 521, Q 522, ..., so that the gate A of Q 525 is controlled by the output of the level detecting circuit 53.
前述したように、集積回路基板の電圧は、内部バイアス
発生回路の負荷となる動作回路に起因して、集積回路動
作時に大きく変動する。例えば、MOS−DRAMの場
合には、アクティブサイクルのセンスアンプ動作時に、
配線に用いているN+の不純物拡散層の電圧が急激に高
いレベルから低いレベルに変動するため、P型基板の電
圧もPN接合の容量接合により低くなる。As described above, the voltage of the integrated circuit substrate largely changes during the operation of the integrated circuit due to the operating circuit that becomes the load of the internal bias generation circuit. For example, in the case of MOS-DRAM, when the sense amplifier is operating in the active cycle,
Since the voltage of the N + impurity diffusion layer used for the wiring abruptly changes from a high level to a low level, the voltage of the P-type substrate also becomes low due to the PN junction capacitance junction.
しかしながら、本発明によれば、電圧発生回路52の出
力変動に応じてリングオシレータ51の発振周波数が制
御されて、例えば電圧発生回路52の出力変動を補償す
るような動作が行なわれる。However, according to the present invention, the oscillation frequency of the ring oscillator 51 is controlled according to the output fluctuation of the voltage generating circuit 52, and the operation for compensating the output fluctuation of the voltage generating circuit 52 is performed.
第5図において、レベル検知回路53を省いて電圧発生
回路52の出力を直接、リングオシレータ52の負荷M
OSFETのゲートAに入力するようにしてもよい。ま
た、ゲートAを独立にクロック発生器で制御して、必要
な時間だけ電圧発生回路52を動作させたり、あるいは
その出力電圧VAを任意の値に制御したりすることもで
きる。In FIG. 5, the level detection circuit 53 is omitted and the output of the voltage generation circuit 52 is directly connected to the load M of the ring oscillator 52.
You may make it input into the gate A of OSFET. Further, the gate A can be independently controlled by the clock generator to operate the voltage generating circuit 52 for a required time, or the output voltage V A thereof can be controlled to an arbitrary value.
第6図に参考例として、負荷MOSFETのゲート制御
用信号として、基板バイアスを利用した基板バイアス発
生回路を示す。As a reference example, FIG. 6 shows a substrate bias generating circuit using a substrate bias as a gate control signal of a load MOSFET.
第1図と対応する部分には第1図と同一符号を付して詳
細な説明は省く。第1図と異なる点は、リングオシレー
タ1の負荷MOSFETのゲートに、チャージポンプ回
路3a ,3b の基板バイアス出力電圧VBBを直接入力
していることである。The parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as those in FIG. 1 and their detailed description is omitted. The difference from FIG. 1 is that the substrate bias output voltage V BB of the charge pump circuits 3a and 3b is directly input to the gate of the load MOSFET of the ring oscillator 1.
この基板バイアス発生回路は、NチャンネルMOS集積
回路の場合、定常動作時に基板バイアス電圧VBBが負
の値を示す。そしてもし、VBBがより負の方向に変動
したとすると、リングオシレータの負荷MOSFETの
コンダクタンスを下げる方向に働き、この結果、リング
オシレータ1の周波数が低くなってチャージポンプ回路
3a ,3b のポンピング能力を低下させ、速やかにV
BBを定常状態に復帰させるように働く。又プリチャー
ジ初期においてはVBBが零であり、このときリングオ
シレータ1の負荷MOSFETは定常状態より高コンダ
クタンスにあるため高い発振周波数で発振を開始し、従
って速やかにVBBが負方向に変化するように働らく。
この結果、電源投入時のパワーオンカレントが少なく、
信頼性の高い基板バイアス発生回路となる。In the case of an N-channel MOS integrated circuit, this substrate bias generating circuit has a negative substrate bias voltage V BB during steady operation. If V BB fluctuates in the more negative direction, it acts to lower the conductance of the load MOSFET of the ring oscillator, and as a result, the frequency of the ring oscillator 1 becomes lower and the pumping ability of the charge pump circuits 3a, 3b. Decrease and V
It works to restore BB to a steady state. Further, V BB is zero in the initial stage of precharge, and at this time, the load MOSFET of the ring oscillator 1 has a higher conductance than the steady state, so that oscillation starts at a high oscillation frequency, and thus V BB changes in the negative direction quickly. To work like.
As a result, there is little power-on current when the power is turned on,
It becomes a highly reliable substrate bias generation circuit.
第1図は従来の基板バイアス発生回路を示す図、第2図
は本発明におけるリングオシレータの発振周波数制御方
式の一例を説明するための図、第3図はその各ノード電
圧波形を示す図、第4図は他の制御方式を説明するため
の図、第5図は本発明の一実施例の内部バイアス発生回
路を示す図、第6図は負荷MOSFETのゲート制御用
信号として、基板バイアスを利用した基板バイアス発生
回路の参考図である。 1……リングオシレータ、2a ,2b ……クロックジェ
ネレータ、3a ,3b ……チャージポンプ回路、51…
…リングオシレータ、52……電圧発生回路、53……
レベル検知回路。FIG. 1 is a diagram showing a conventional substrate bias generation circuit, FIG. 2 is a diagram for explaining an example of an oscillation frequency control system of a ring oscillator in the present invention, and FIG. 3 is a diagram showing voltage waveforms at respective nodes thereof. FIG. 4 is a diagram for explaining another control method, FIG. 5 is a diagram showing an internal bias generation circuit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing a substrate bias as a gate control signal of a load MOSFET. It is a reference diagram of a substrate bias generation circuit used. 1 ... Ring oscillator, 2a, 2b ... Clock generator, 3a, 3b ... Charge pump circuit, 51 ...
… Ring oscillator, 52 …… Voltage generator, 53 ……
Level detection circuit.
Claims (3)
るリングオシレータと、このリングオシレータの出力に
より駆動されるチャージポンプ回路とを有する半導体装
置の内部バイアス発生回路において、 前記リングオシレータを構成するMOSインバータの負
荷MOSFETのうち、所定の負荷MOSFETのゲー
トにオンまたはオフ用の電位を、前記内部バイアス発生
回路の負荷となる動作回路の状態に対応して選択的に与
え、残りの負荷MOSFETのゲートに固定電位を与え
るゲート制御手段を備えたことを特徴とする半導体装置
の内部バイアス発生回路。1. An internal bias generation circuit for a semiconductor device, comprising: a ring oscillator including a plurality of stages of MOS inverters; and a charge pump circuit driven by the output of the ring oscillator. Of the load MOSFETs, the ON or OFF potential is selectively applied to the gates of the remaining load MOSFETs in accordance with the state of the operating circuit serving as the load of the internal bias generation circuit. An internal bias generation circuit for a semiconductor device, comprising gate control means for applying a fixed potential.
ト制御手段によって互いに独立に制御される、複数の負
荷MOSFET群からなることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の半導体装置の内部バイアス発生回路。2. The internal bias of a semiconductor device according to claim 1, wherein the predetermined load MOSFET is composed of a plurality of load MOSFET groups which are controlled independently of each other by the gate control means. Generator circuit.
プ回路の出力電圧レベルを検出する回路を備え、このレ
ベル検出回路の出力により前記負荷MOSFETのゲー
トを制御するものである特許請求の範囲第1項記載の半
導体装置の内部バイアス発生回路。3. The gate control means comprises a circuit for detecting the output voltage level of the charge pump circuit, and controls the gate of the load MOSFET by the output of the level detection circuit. An internal bias generation circuit for a semiconductor device according to the item.
Priority Applications (1)
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JP59007955A JPH0620177B2 (en) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Internal bias generation circuit for semiconductor device |
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JP59007955A JPH0620177B2 (en) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Internal bias generation circuit for semiconductor device |
Publications (2)
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JPS60152048A JPS60152048A (en) | 1985-08-10 |
JPH0620177B2 true JPH0620177B2 (en) | 1994-03-16 |
Family
ID=11679911
Family Applications (1)
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JP59007955A Expired - Lifetime JPH0620177B2 (en) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Internal bias generation circuit for semiconductor device |
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-
1984
- 1984-01-20 JP JP59007955A patent/JPH0620177B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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