JPH06146870A - 内燃機関の排気ガス浄化装置 - Google Patents
内燃機関の排気ガス浄化装置Info
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- JPH06146870A JPH06146870A JP29587592A JP29587592A JPH06146870A JP H06146870 A JPH06146870 A JP H06146870A JP 29587592 A JP29587592 A JP 29587592A JP 29587592 A JP29587592 A JP 29587592A JP H06146870 A JPH06146870 A JP H06146870A
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Landscapes
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 内燃機関の排気ガス中のＮＯXの除去効率の
向上を図る。 【構成】 ケーシング２０の入口２２はエンジンの排気
ポートに連通され、ケーシング２０内には３個の還元触
媒３１、３２、３３が直列に配設される。各触媒３１、
３２、３３の入口側には温度センサ４１、４２、４３が
配設され、データをコントロールユニット８０へ送る。
各触媒３１、３２、３３の入口側には冷却ガスとしての
エアを噴射するノズル５１、５２、５３が設けられ、ポ
ンプ６０からエアの供給を受ける。コントロールユニッ
ト８０は、エアの供給路に設けた電磁弁５６、５７、５
８を操作して、各触媒に流入する排気ガス温度を還元効
率の高い範囲に調整する。
向上を図る。 【構成】 ケーシング２０の入口２２はエンジンの排気
ポートに連通され、ケーシング２０内には３個の還元触
媒３１、３２、３３が直列に配設される。各触媒３１、
３２、３３の入口側には温度センサ４１、４２、４３が
配設され、データをコントロールユニット８０へ送る。
各触媒３１、３２、３３の入口側には冷却ガスとしての
エアを噴射するノズル５１、５２、５３が設けられ、ポ
ンプ６０からエアの供給を受ける。コントロールユニッ
ト８０は、エアの供給路に設けた電磁弁５６、５７、５
８を操作して、各触媒に流入する排気ガス温度を還元効
率の高い範囲に調整する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、内燃機関の排気ガス中
のＮＯXを浄化する装置に関する。
のＮＯXを浄化する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガソリンエンジンやディーゼルエンジン
等の内燃機関から排出されるガス中のＮＯXを浄化する
手段として、還元触媒が有効であることが知られてい
る。これらの還元触媒は排気ガスの温度や、還元剤とし
て添加される炭化水素（ＨＣ）の含有率によりＮＯXの
浄化能力が変化する特性を有する。図５は横軸に排気ガ
ス温度をとったときの浄化率の変化を示すグラフであ
る。浄化率は、排気ガス温度が上昇するに比例して高く
なるが、ある温度範囲以上の高温になると、逆に低下す
る。これは、触媒内でＨＣによるＮＯXの還元反応とＨ
Ｃの酸化反応が競合して起っており、高温下ではＨＣの
酸化反応が活発化するために相対的にＮＯXの還元に参
加するＨＣが減り、浄化率が低下することに起因するも
のと考えられる。図６は横軸に排気ガスの流れ方向に対
する触媒の位置を、たて軸に排気ガス温度をとったとき
のＨＣの添加量による変化を示すグラフである。排気ガ
スの温度は、触媒の入口から出口に向けて流れる間に上
昇する。これは、ＨＣの還元反応、酸化反応はともに発
熱反応であるので、最も多量の反応が生じている触媒の
中段〜後半で温度が上昇することによるものと考えられ
る。
等の内燃機関から排出されるガス中のＮＯXを浄化する
手段として、還元触媒が有効であることが知られてい
る。これらの還元触媒は排気ガスの温度や、還元剤とし
て添加される炭化水素（ＨＣ）の含有率によりＮＯXの
浄化能力が変化する特性を有する。図５は横軸に排気ガ
ス温度をとったときの浄化率の変化を示すグラフであ
る。浄化率は、排気ガス温度が上昇するに比例して高く
なるが、ある温度範囲以上の高温になると、逆に低下す
る。これは、触媒内でＨＣによるＮＯXの還元反応とＨ
Ｃの酸化反応が競合して起っており、高温下ではＨＣの
酸化反応が活発化するために相対的にＮＯXの還元に参
加するＨＣが減り、浄化率が低下することに起因するも
のと考えられる。図６は横軸に排気ガスの流れ方向に対
する触媒の位置を、たて軸に排気ガス温度をとったとき
のＨＣの添加量による変化を示すグラフである。排気ガ
スの温度は、触媒の入口から出口に向けて流れる間に上
昇する。これは、ＨＣの還元反応、酸化反応はともに発
熱反応であるので、最も多量の反応が生じている触媒の
中段〜後半で温度が上昇することによるものと考えられ
る。
【０００３】図７の実線は、横軸にＨＣの添加量をとっ
たときの浄化率の変化を示し、ＨＣの添加量に比例し
て、浄化率も上昇するが、ある適量以上に添加しても、
浄化率は向上しないことを示している。これは、ＨＣを
増量することで触媒入口よりも中〜後段での反応が増
え、それにともない中〜後段の温度上昇が大きく、最も
多量の反応が生じるこの部分で酸化反応の割合が増える
ためと考えられる。この結果、例えば触媒入口の排ガス
温度をＮＯX浄化に適正な温度範囲に制御したとして
も、ＨＣの添加量を増量することによって触媒中〜後段
の温度が上昇し、酸化反応割合が増え、全体としてのＮ
ＯX浄化率は向上しない。これに対して、触媒中〜後段
での浄化率を向上させるため、触媒を直列に分割して各
触媒間にＨＣを供給させる提案（実開平４−３７８２５
号）もあるが、触媒中〜後段の温度上昇を抑えるもので
はなく、浄化率の向上は望めない。又、上記実開平４−
３７８２５号ではＨＣ供給用の配管を（又はインジェク
タ）ケーシングに直接設けており、高温の排ガスにより
配管やインジェクタが破損したり、排ガス中のススによ
り目詰りを起こすという問題が残されている。
たときの浄化率の変化を示し、ＨＣの添加量に比例し
て、浄化率も上昇するが、ある適量以上に添加しても、
浄化率は向上しないことを示している。これは、ＨＣを
増量することで触媒入口よりも中〜後段での反応が増
え、それにともない中〜後段の温度上昇が大きく、最も
多量の反応が生じるこの部分で酸化反応の割合が増える
ためと考えられる。この結果、例えば触媒入口の排ガス
温度をＮＯX浄化に適正な温度範囲に制御したとして
も、ＨＣの添加量を増量することによって触媒中〜後段
の温度が上昇し、酸化反応割合が増え、全体としてのＮ
ＯX浄化率は向上しない。これに対して、触媒中〜後段
での浄化率を向上させるため、触媒を直列に分割して各
触媒間にＨＣを供給させる提案（実開平４−３７８２５
号）もあるが、触媒中〜後段の温度上昇を抑えるもので
はなく、浄化率の向上は望めない。又、上記実開平４−
３７８２５号ではＨＣ供給用の配管を（又はインジェク
タ）ケーシングに直接設けており、高温の排ガスにより
配管やインジェクタが破損したり、排ガス中のススによ
り目詰りを起こすという問題が残されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、複数の還元
触媒を直列に配設し、各列の触媒に導入される排気ガス
の温度を適正温度に冷却するとともに還元剤の添加量を
調整することにより、浄化率を向上する装置を提供する
ものである。
触媒を直列に配設し、各列の触媒に導入される排気ガス
の温度を適正温度に冷却するとともに還元剤の添加量を
調整することにより、浄化率を向上する装置を提供する
ものである。
【０００５】
【発明を解決するための手段】本考案の排気ガス浄化装
置は、基本的な手段として、ケーシングと、ケーシング
内に直列に配設される複数の還元触媒と、各還元触媒の
入口部に設けられる温度センサと、各還元触媒の入口部
に設けられる冷却ガスの噴射ノズルと、冷却ガスの供給
源と各噴射ノズルとを連通する通路に配設される電磁弁
と、温度センサからのデータを入力信号として電磁弁を
操作する信号を出力するコントロールユニットを備え
る。実開平４−６７１７号公報は、直列に配設した三元
触媒の入口部に２次エアの供給のズルを設け、排ガス中
のＯ2濃度や排気ガス温度に合わせてエアを供給する装
置が開示されているが、各触媒の入口の排気ガス温度を
検出して還元効率の良い温度状態にコントロールするも
のではない。
置は、基本的な手段として、ケーシングと、ケーシング
内に直列に配設される複数の還元触媒と、各還元触媒の
入口部に設けられる温度センサと、各還元触媒の入口部
に設けられる冷却ガスの噴射ノズルと、冷却ガスの供給
源と各噴射ノズルとを連通する通路に配設される電磁弁
と、温度センサからのデータを入力信号として電磁弁を
操作する信号を出力するコントロールユニットを備え
る。実開平４−６７１７号公報は、直列に配設した三元
触媒の入口部に２次エアの供給のズルを設け、排ガス中
のＯ2濃度や排気ガス温度に合わせてエアを供給する装
置が開示されているが、各触媒の入口の排気ガス温度を
検出して還元効率の良い温度状態にコントロールするも
のではない。
【０００６】
【作用】排気ガス中のＮＯXは、触媒で還元される間に
反応熱により昇温する。そこで、直列に配設した各触媒
の入口部で排気ガスの温度を調整し、浄化率の高い温度
範囲でＮＯXを還元除去する。
反応熱により昇温する。そこで、直列に配設した各触媒
の入口部で排気ガスの温度を調整し、浄化率の高い温度
範囲でＮＯXを還元除去する。
【０００７】
【実施例】図１は本発明の第１の実施例装置を示す説明
図である。全体を符号１０で示す排気ガス浄化装置は、
ケーシング２０を有し、ケーシング２０内に複数個（本
実施例では３個）の還元触媒３１、３２、３３が直列に
配設される。ケーシング２０の入口２２は、エンジンの
排気ポートに連通し、排気ガスＧが導入される。ケーシ
ングの出口２４は排気系の出口側へ連通する。各還元触
媒３１、３２、３３の排気ガスＧの入口側には、それぞ
れ温度センサ４１、４２、４３がとりつけられ、排気ガ
スＧの温度を検出する。検出された排気ガスの温度デー
タは、ラインを介してコントロールユニット８０へ送ら
れる。一方、各還元触媒３１、３２、３３の前方には、
それぞれエアノズル５１、５２、５３が配設される。第
１のエアノズル５１は、電磁弁５６を介してエアサプラ
イパイプ６２に連通し、エアサプライパイプ６２は、エ
アポンプ６０からエアの供給を受ける。
図である。全体を符号１０で示す排気ガス浄化装置は、
ケーシング２０を有し、ケーシング２０内に複数個（本
実施例では３個）の還元触媒３１、３２、３３が直列に
配設される。ケーシング２０の入口２２は、エンジンの
排気ポートに連通し、排気ガスＧが導入される。ケーシ
ングの出口２４は排気系の出口側へ連通する。各還元触
媒３１、３２、３３の排気ガスＧの入口側には、それぞ
れ温度センサ４１、４２、４３がとりつけられ、排気ガ
スＧの温度を検出する。検出された排気ガスの温度デー
タは、ラインを介してコントロールユニット８０へ送ら
れる。一方、各還元触媒３１、３２、３３の前方には、
それぞれエアノズル５１、５２、５３が配設される。第
１のエアノズル５１は、電磁弁５６を介してエアサプラ
イパイプ６２に連通し、エアサプライパイプ６２は、エ
アポンプ６０からエアの供給を受ける。
【０００８】コントロールユニット８０は、各還元触媒
３１、３２、３３に入る排気ガスの温度情報に基づいて
電磁弁５６、５７、５８に指令を出力し、ノズル５１、
５２、５３から必要なエアの噴射を行なう。図４で説明
したように、ＮＯXの浄化率は排気ガスの温度により影
響を受ける。そこで、第１の還元触媒３１に導入される
排気ガスＧの温度をセンサ４１で検出し、設定温度より
高いときには、コントロールユニット８０は電磁弁５６
へ指令を送り、第１のエアノズル５１からエアを噴射し
て排気ガスＧの温度を設定範囲内に調整する。
３１、３２、３３に入る排気ガスの温度情報に基づいて
電磁弁５６、５７、５８に指令を出力し、ノズル５１、
５２、５３から必要なエアの噴射を行なう。図４で説明
したように、ＮＯXの浄化率は排気ガスの温度により影
響を受ける。そこで、第１の還元触媒３１に導入される
排気ガスＧの温度をセンサ４１で検出し、設定温度より
高いときには、コントロールユニット８０は電磁弁５６
へ指令を送り、第１のエアノズル５１からエアを噴射し
て排気ガスＧの温度を設定範囲内に調整する。
【０００９】排気ガスの温度は、第１の触媒３１を通過
している間に還元反応熱により上昇する。第２の温度セ
ンサ４２は第２の触媒３２の入口における排気ガス温度
を検出し、コントロールユニット８０へ送る。コントロ
ールユニット８０は温度データに基づいて必要に応じて
第２の電磁弁５７を開き、ノズル５２からエアを噴射し
て第２の触媒３２に導入される排気ガス温度を調整す
る。第３の触媒３３へ導入される排気ガス温度も同様
に、センサ４３で検出し、必要に応じてノズル５３から
エアを送って冷却する。
している間に還元反応熱により上昇する。第２の温度セ
ンサ４２は第２の触媒３２の入口における排気ガス温度
を検出し、コントロールユニット８０へ送る。コントロ
ールユニット８０は温度データに基づいて必要に応じて
第２の電磁弁５７を開き、ノズル５２からエアを噴射し
て第２の触媒３２に導入される排気ガス温度を調整す
る。第３の触媒３３へ導入される排気ガス温度も同様
に、センサ４３で検出し、必要に応じてノズル５３から
エアを送って冷却する。
【００１０】本装置は以上のように、還元触媒をケーシ
ング中で複数段に分割し、各段の触媒の入口部に温度セ
ンサにより検出するとともに、入口部に設けたエアノズ
ルから必要に応じて冷却用のエアを供給するので、排気
ガス温度を管理して浄化効率を最良に維持することがで
きる。なお、排気ガスを冷却する媒体として、本装置に
おいてはエアを使用しているが、要は排気ガスの温度に
比べて低温の媒体であればよく、例えば冷却された排気
ガスを利用することができる。
ング中で複数段に分割し、各段の触媒の入口部に温度セ
ンサにより検出するとともに、入口部に設けたエアノズ
ルから必要に応じて冷却用のエアを供給するので、排気
ガス温度を管理して浄化効率を最良に維持することがで
きる。なお、排気ガスを冷却する媒体として、本装置に
おいてはエアを使用しているが、要は排気ガスの温度に
比べて低温の媒体であればよく、例えば冷却された排気
ガスを利用することができる。
【００１１】図２は本発明の他の実施例の説明図であ
る。この排気ガス浄化装置１０Ａの主要な構成は図１の
実施例と同様であって、ケーシング２０の内部に入口２
２から出口２４に向けて直列に３個の還元触媒３１、３
２、３３が配設してある。各触媒の前方には温度センサ
４１、４２、４３が設けてあり、各触媒に導入される排
気ガスの温度を検知してコントロールユニット８０へ送
る。また、各触媒の入口側には、それぞれインジェクシ
ョンユニット１１０、１２０、１３０が設けられる。
る。この排気ガス浄化装置１０Ａの主要な構成は図１の
実施例と同様であって、ケーシング２０の内部に入口２
２から出口２４に向けて直列に３個の還元触媒３１、３
２、３３が配設してある。各触媒の前方には温度センサ
４１、４２、４３が設けてあり、各触媒に導入される排
気ガスの温度を検知してコントロールユニット８０へ送
る。また、各触媒の入口側には、それぞれインジェクシ
ョンユニット１１０、１２０、１３０が設けられる。
【００１２】図３はインジェクションユニットの詳細を
示し、３つのインジェクションユニットは同じ構造を有
する。インジェクションユニット１１０は、ケーシング
２０の開口部２０ｂに挿入された還元剤添加用のインジ
ェクタ１１２を有する。インジェクタ１１２はパイプ１
５２を介してポンプ１５０に連通し、還元剤であるＨＣ
の供給を受ける。パイプ１５２の途中には電磁弁１７１
が設けてあり、コントロールユニット８０からラインＸ
を介して送られる出力信号により電磁弁１７１が操作さ
れる。インジェクタ１１２の周囲にはキャップ１０４が
設けてあり、キャップ１０４内のケーシング２０には複
数のエアノズル穴２０ａが設けてある。キャップ１０４
はパイプ６２を介してエアポンプ６０に連通している。
パイプ６２の途中には電磁弁１６１が設けてあり、電磁
弁１６１はラインＡから送られる出力信号により操作さ
れる。
示し、３つのインジェクションユニットは同じ構造を有
する。インジェクションユニット１１０は、ケーシング
２０の開口部２０ｂに挿入された還元剤添加用のインジ
ェクタ１１２を有する。インジェクタ１１２はパイプ１
５２を介してポンプ１５０に連通し、還元剤であるＨＣ
の供給を受ける。パイプ１５２の途中には電磁弁１７１
が設けてあり、コントロールユニット８０からラインＸ
を介して送られる出力信号により電磁弁１７１が操作さ
れる。インジェクタ１１２の周囲にはキャップ１０４が
設けてあり、キャップ１０４内のケーシング２０には複
数のエアノズル穴２０ａが設けてある。キャップ１０４
はパイプ６２を介してエアポンプ６０に連通している。
パイプ６２の途中には電磁弁１６１が設けてあり、電磁
弁１６１はラインＡから送られる出力信号により操作さ
れる。
【００１３】第２のインジェクタユニットも同様の構成
を有し、インジェクタはバルブ１７２を介してポンプ１
５０からＨＣの供給を受けるとともに、キャップはバル
ブ１６２を介してエアポンプ６０からエアの供給を受け
る。第３のインジェクションユニット１３０も同様の構
成を有する。本装置は以上のように構成してあるので、
各温度センサ４１、４２、４３からの排気ガスの温度デ
ータに基づいてコントロールユニット８０はエアパイプ
に設けた電磁弁１６１、１６２、１６３に信号を送り、
エアを噴射して排気ガス温度を調整する。同様に、コン
トロールユニット８０は、排気ガス温度等のデータに基
づいて電磁弁１７１、１７２、１７３に信号を送って各
インジェクションユニット１１０、１２０、１３０のイ
ンジェクタからの適量のＨＣを排気ガス中に噴射し、浄
化効果が高い状態に排気ガスに添加するＨＣの量を調整
する。
を有し、インジェクタはバルブ１７２を介してポンプ１
５０からＨＣの供給を受けるとともに、キャップはバル
ブ１６２を介してエアポンプ６０からエアの供給を受け
る。第３のインジェクションユニット１３０も同様の構
成を有する。本装置は以上のように構成してあるので、
各温度センサ４１、４２、４３からの排気ガスの温度デ
ータに基づいてコントロールユニット８０はエアパイプ
に設けた電磁弁１６１、１６２、１６３に信号を送り、
エアを噴射して排気ガス温度を調整する。同様に、コン
トロールユニット８０は、排気ガス温度等のデータに基
づいて電磁弁１７１、１７２、１７３に信号を送って各
インジェクションユニット１１０、１２０、１３０のイ
ンジェクタからの適量のＨＣを排気ガス中に噴射し、浄
化効果が高い状態に排気ガスに添加するＨＣの量を調整
する。
【００１４】図４は本発明の他の実施例を示す。本装置
にあっては、この排気ガス浄化装置１０Ｂの主要な構成
は図１の実施例と同様であって、ケーシング２０の内部
に入口２２から出口２４に向けて直列に３個の還元触媒
３１、３２、３３が配設してある。各触媒の前方には温
度センサ４１、４２、４３が設けてあり、各触媒に導入
される排気ガスの温度を検知してコントロールユニット
８０へ送る。また、各触媒の入口側には、それぞれノズ
ル５１、５２、５３が設けられる。各ノズルは、電磁弁
５６、５７、５８を備える。ケーシング２０に平行して
設けられるエアマニホールド２００にはエアポンプ６０
からライン６２を介してエアが送り込まれる。一方、還
元剤はポンプ１５０からライン１５２を介してエアマニ
ホールド２００にとりつけたインジェクタ２２０に送り
込まれる。インジェクタ２２０は電磁弁２１０を有し、
エアマニホールド２００内へ送り込まれる還元剤の量を
制御する。エアマニホールド２００内では、エアと還元
剤の混合気が形成され、必要に応じて各ノズル５１、５
２、５３を介して触媒３１、３２、３３の入口部に送り
込まれる。
にあっては、この排気ガス浄化装置１０Ｂの主要な構成
は図１の実施例と同様であって、ケーシング２０の内部
に入口２２から出口２４に向けて直列に３個の還元触媒
３１、３２、３３が配設してある。各触媒の前方には温
度センサ４１、４２、４３が設けてあり、各触媒に導入
される排気ガスの温度を検知してコントロールユニット
８０へ送る。また、各触媒の入口側には、それぞれノズ
ル５１、５２、５３が設けられる。各ノズルは、電磁弁
５６、５７、５８を備える。ケーシング２０に平行して
設けられるエアマニホールド２００にはエアポンプ６０
からライン６２を介してエアが送り込まれる。一方、還
元剤はポンプ１５０からライン１５２を介してエアマニ
ホールド２００にとりつけたインジェクタ２２０に送り
込まれる。インジェクタ２２０は電磁弁２１０を有し、
エアマニホールド２００内へ送り込まれる還元剤の量を
制御する。エアマニホールド２００内では、エアと還元
剤の混合気が形成され、必要に応じて各ノズル５１、５
２、５３を介して触媒３１、３２、３３の入口部に送り
込まれる。
【００１５】
【発明の効果】本発明は以上のように、エンジンの排気
系に装備して排気ガス中のＮＯXを還元除去する装置に
おいて、還元触媒を分割して直列に配設し、各触媒の直
前に触媒に導入される排気ガスの温度を検出するセンサ
と、排気ガスに冷却用のガスを噴射するノズルを設けた
ものである。還元触媒は、排気ガスの温度がある一定の
範囲内にあるときその浄化効率が最高となる。排気ガス
の温度はエンジンの運転状態により変化し、また、触媒
中で還元反応熱を受けて上昇する。そこで、触媒をガス
の通過方向の長さが短くなるように分割し、各触媒の入
口の温度を検出し、これをコントロールユニットに送っ
て判断し、必要に応じて冷却ガスを噴射して排気ガス温
度を調整するので、図７の破線で示すように、効率の良
い浄化を達成することができる。
系に装備して排気ガス中のＮＯXを還元除去する装置に
おいて、還元触媒を分割して直列に配設し、各触媒の直
前に触媒に導入される排気ガスの温度を検出するセンサ
と、排気ガスに冷却用のガスを噴射するノズルを設けた
ものである。還元触媒は、排気ガスの温度がある一定の
範囲内にあるときその浄化効率が最高となる。排気ガス
の温度はエンジンの運転状態により変化し、また、触媒
中で還元反応熱を受けて上昇する。そこで、触媒をガス
の通過方向の長さが短くなるように分割し、各触媒の入
口の温度を検出し、これをコントロールユニットに送っ
て判断し、必要に応じて冷却ガスを噴射して排気ガス温
度を調整するので、図７の破線で示すように、効率の良
い浄化を達成することができる。
【００１６】さらに、エアノズルに加えて、還元剤であ
るＨＣのインジェクタを各触媒の入口側に配設し、コン
トロールユニットによりＨＣの噴射量を制御する。この
処理により、各触媒に導入される排気ガス中のＨＣの添
加濃度が調整され、効率の高いＮＯXの還元処理が達成
できる。インジェクタの周囲にエアノズルを設けたの
で、パーティキュレートがインジェクタに侵入して目づ
まりを起すことも防止できる。
るＨＣのインジェクタを各触媒の入口側に配設し、コン
トロールユニットによりＨＣの噴射量を制御する。この
処理により、各触媒に導入される排気ガス中のＨＣの添
加濃度が調整され、効率の高いＮＯXの還元処理が達成
できる。インジェクタの周囲にエアノズルを設けたの
で、パーティキュレートがインジェクタに侵入して目づ
まりを起すことも防止できる。
【図１】本発明の実施例を示す説明図。
【図２】本発明の他の実施例を示す説明図。
【図３】図２の要部の拡大図。
【図４】本発明の他の実施例を示す説明図。
【図５】還元触媒の特性を示すグラフ。
【図６】還元触媒の特性を示すグラフ。
【図７】還元触媒の特性を示すグラフ。
１０、１０Ａ 排気ガス浄化装置 ２０ ケーシング ３１、３２、３３ 還元触媒 ４１、４２、４３ 温度センサ ５１、５２、５３ エアノズル ５６、５７、５８ 電磁弁 ６０ エアポンプ ８０ コントロールユニット １１０、１２０、１３０ インジェクションユニット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ０１Ｎ 3/22 Ｂ 3/28 ＺＡＢ Ｊ
Claims (3)
- 【請求項１】 内燃機関の排気管に配設される排気ガス
浄化装置において、ケーシングと、ケーシング内に直列
に配設される複数の還元触媒と、各還元触媒の入口部に
設けられる温度センサと、各還元触媒の入口部に設けら
れる冷却ガスの噴射ノズルと、冷却ガスの供給源と各噴
射ノズルとを連通する通路に配設される電磁弁と、温度
センサからのデータを入力信号として電磁弁を操作する
信号を出力するコントロールユニットとを備えてなる内
燃機関の排気ガス浄化装置。 - 【請求項２】 内燃機関の排気管に配設される排気ガス
浄化装置において、ケーシングと、ケーシング内に直列
に配設される複数の還元触媒と、各還元触媒の入口部に
設けられる温度センサと、各還元触媒の入口部に設けら
れる冷却ガスの噴射ノズルと、冷却ガスの供給源と各噴
射ノズルとを連通する通路に配設される電磁弁と、各還
元触媒の入口部に設けられる還元剤添加用のインジェク
タと、還元剤の供給源と各インジェクタとを連通する通
路に配設される電磁弁と、温度センサからのデータを入
力信号として冷却ガス通路の電磁弁と還元剤通路の電磁
弁を操作する信号を出力するコントロールユニットとを
備えてなる内燃機関の排気ガス浄化装置。 - 【請求項３】 内燃機関の排気管に配設される排気ガス
浄化装置において、ケーシングと、ケーシング内に直列
に配設される複数の還元触媒と、各還元触媒の入口部に
設けられる温度センサと、各還元触媒の入口部に設けら
れる冷却ガスの噴射ノズルと、ケーシングに隣接して設
けられるエアマニホールドと、エアマニホールドと各噴
射ノズルとを連通する通路に配設される電磁弁と、エア
マニホールドに設けられる還元剤添加用のインジェクタ
と、還元剤の供給源とエアマニホールドとを連通する通
路に配設される電磁弁と、温度センサからのデータを入
力信号として冷却ガス通路の電磁弁と還元剤通路の電磁
弁を操作する信号を出力するコントロールユニットとを
備えてなる内燃機関の排気ガス装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29587592A JPH06146870A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 内燃機関の排気ガス浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29587592A JPH06146870A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 内燃機関の排気ガス浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06146870A true JPH06146870A (ja) | 1994-05-27 |
Family
ID=17826312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29587592A Pending JPH06146870A (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 内燃機関の排気ガス浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06146870A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998057051A1 (de) * | 1997-06-09 | 1998-12-17 | Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh | Katalysator und verfahren zur reinigung eines abgasstromes von einem kleinmotor in einem ungeregelten abgassystem |
| US6006515A (en) * | 1994-11-18 | 1999-12-28 | Komatsu Ltd. | Exhaust denitration device for diesel engine |
| JP2007146810A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Toyota Motor Corp | 内燃機関の排気システム |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP29587592A patent/JPH06146870A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6006515A (en) * | 1994-11-18 | 1999-12-28 | Komatsu Ltd. | Exhaust denitration device for diesel engine |
| WO1998057051A1 (de) * | 1997-06-09 | 1998-12-17 | Emitec Gesellschaft Für Emissionstechnologie Mbh | Katalysator und verfahren zur reinigung eines abgasstromes von einem kleinmotor in einem ungeregelten abgassystem |
| JP2007146810A (ja) * | 2005-11-30 | 2007-06-14 | Toyota Motor Corp | 内燃機関の排気システム |
| JP4650241B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-03-16 | トヨタ自動車株式会社 | 内燃機関の排気システム |
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