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JPH04132086A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH04132086A
JPH04132086A JP2252522A JP25252290A JPH04132086A JP H04132086 A JPH04132086 A JP H04132086A JP 2252522 A JP2252522 A JP 2252522A JP 25252290 A JP25252290 A JP 25252290A JP H04132086 A JPH04132086 A JP H04132086A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
period
bit line
load
transistors
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2252522A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuto Koyou
古用 和人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2252522A priority Critical patent/JPH04132086A/ja
Publication of JPH04132086A publication Critical patent/JPH04132086A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [概要] 特にACロード方式によってビット線のプリチャージを
行う半導体記憶装置に関し、 プリチャージ時間を短縮化してリード/ライト速度のよ
り一層の向上を図ることを目的とし、電源線とビット線
との間を接続するロードトランジスタと、前記ビット線
に接続するメモリセルと、該メモリセルの読み出し期間
初期において前記ロードトランジスタの導通度を低下す
る一方、読み出し期間初期以外の期間において前記ロー
ドトランジスタの導通度を上げる導通度操作手段と、を
備えることを特徴とし、 または、電源線とビット線との間を接続するロードトラ
ンジスタと、前記ビット線に接続するメモリセルと、第
1の電位および該第1の電位よりも低い第2の電位を発
生する電位発生手段と、該第1の電位または第2の電位
を選択して前記ロードトランジスタのコントロール電極
に与える電位選択手段とを具備し、少なくとも前記ビッ
ト線のプリチャージ期間には第1の電位を選択する一方
、前記メモリセルに対する読み出し期間の初期には第2
の電位を選択することを特徴とする。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置、特にACロード方式によっ
てビット線のプリチャージを行う半導体記憶装置に関す
る。
近時、マイクロコンピュータ等の半導体集積回路の動作
速度が著しく向上する傾向にあるが、こうした回路に接
続するメモリに対しては、より一層の動作速度の向上が
要求される。
〔従来の技術〕
半導体記憶装置の動作速度を向上するための方法の1つ
に、ロードトランジスタを用いたビット線のプリチャー
ジがある。これは、以下のrDCロード方式」とrAC
ロード方式」に分けられる。
旦旦ユニ上方式 第7図(a)において、一対のビット線BL、BLは、
Nチャネル型のトランジスタ(以下、ロードトランジス
タ)la、1bを介して定電源線Vccに接続されてい
る。
ここで、ロードトランジスタ1a、1bのゲートは定電
源線Vccに接続されており、したがって、ビット線B
L、BLは、定電源線の電位(便宜的にVccとする)
からロードトランジスタのしきい電圧(vtg−−Vt
Mb )だけ低下した電位にプリチャージされる。
すなわち、BLのプリチャージ電位はVccVTHaで
与えられ、また、BLのプリチャージ電位はV CCV
THIIで与えられる。なお、しきい電圧■THa 、
VTl11+の大きさは、ロードトランジスタの構造か
ら決定されるもので、はぼ等値である。
なお、第7図(b)はrDCロード方式」の他の例であ
り、一対のビット線BL、百τと定電源線Vccとの間
を接続するロードトランジスタ2a、2bにPチャネル
型のトランジスタを使用するとともに、このロードトラ
ンジスタ2a、2bのゲートをGND (OV)に接続
している。一対のビット線BL、BLの電位を0■+し
きい電圧にプリチャージすることができる。
これらのrDCロード方式」によれば、一対のビット線
BL、BLの電位を、Vccよりも低く、且つOvより
も高い定電位(VCC−Lきい電圧、または0■+しき
い電圧)にプリチャージでき、データのり一ド/ライト
を高速化できる。
ところで、かかるrDCロード方式」にあっては、ロー
ドトランジスタla、lb(または2a。
2b)が常に導通状態にあるため、読み出し期間初期に
もロードトランジスタを介してビット線にロード電流が
供給される結果、例えば、第8図に示すように、メモリ
セルからデータを読み出す場合に、一対のビット線の電
位の開き出しが遅くなる欠点がある。
AS」≧二り友式 一方、ACロード方式は、第9図(a)(b)に示すよ
うに、一対のビット線BL、π工と定電源線Vccとの
間のロードトランジスタ3a、3b(または4a、4b
)を、プリチャージ信号Φ(またはΦの反転信号Φ)に
よってオン/オフするもので、一対のビット線BL、B
Lと定電源線Vccとの間をプリチャージ期間だけ接続
することができる。これによれば、例えば、第10図に
示すように、メモリセルからデータを読み出す場合の一
対のビット線の電位の開き始めを速やかにすることがで
きる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、かかるrACロード方式」を採用する半
導体記憶装置にあっては、読み出しの全期間でロードト
ランジスタを非導通状態にするため、リード/ライトに
伴う一対のビット線の電位の開き(第10図VΔ参照)
が大きくなりすぎ、次サイクルのプリチャージ時間が長
引く欠点があり、動作速度のより一層の向上といった面
で解決すべき問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、プリチャ
ージ時間を短縮化し、動作速度のより一層の向上を図る
ことを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は上記目的を達成するために、その原理ブロック
図を第1図に示すように、電源線Vccとビット線BL
、BLとの間を接続するロードトランジスタ10.11
ト、前記’:: y ト線B L 、 Tf″′r−ニ
接続するメモリセル12と、該メモリセル12の読み出
し期間初期において前記ロードトランジスタ10.11
の導通度を低下する一方、読み出し期間初期以外の期間
において前記ロードトランジスタ10.11の導通度を
上げる導通度操作手段13と、を備えることを特徴とし
、 または、電源線とビット線との間を接続するロードトラ
ンジスタと、前記ビット線に接続するメモリセルと、第
1の電位および該第1の電位よりも低い第2の電位を発
生する電位発生手段と、該第1の電位または第2の電位
を選択して前記ロードトランジスタのコントロール電極
に与える電位選択手段とを具備し、少なくとも前記ビッ
ト線のプリチャージ期間には第1の電位を選択する一方
、前記メモリセルに対する読み出し期間の初期には第2
の電位を選択することを特徴とする。
〔作用〕
本発明では、読み出し期間の初期において、ロードトラ
ンジスタの導通度が下げられる。したがって、この間、
ビット線へのロード電流の供給が抑えられ、読み出し初
期のビット線電位の開き始めが早められる。
また、読み出し期間初期以外の期間においてロードトラ
ンジスタの導通度が上げられる。しだがって、この間、
ビット線へのロード電流の供給が許容される結果、読み
出しに伴うビット線電位の開き幅が抑えられ、次サイク
ルのプリチャージに要する時間の短縮化が可能になる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。第2〜
6図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示す図
であり、S−RAM(スタティック・ランダム・アクセ
スメモリ)への適用例である。
第2図において、II〜1.は列方向に並べられたm個
のメモリセル、BL、 、BL、−BL、。
BLτは各列毎のメモリセル11〜1.に接続する各一
対のビット線であり、一対のビット線BL、、■1曹−
〜BL、、f区 (以下、BL、、f口で表すこともあ
る、但しiは1.2、・・・・・・n)は、列当たり4
つのNチャネル型トランジスタ(以下、ロードトランジ
スタ)T1、T2、T3、T4(〜T! 、T? 、T
s 、T9 )を介して電源線■ccに接続されている
すなわち、1列目の一方のビット線BL、がロードトラ
ンジスタTIおよびT2を介してVccに接続され、同
じく1列目の他方のビット線「口がロードトランジスタ
T、およびT4を介してVccに接続され、・・・・・
・、n列目の一方のビット線BL、がロードトランジス
タT6およびT、を介してVccに接続され、同しくn
列目の他方のビット線BLτがロードトランジスタT、
およびT。
を介してVccに接続されている。
なお、各一対のビットIBLi 、rの線間に接続され
たPチャネル型のトランジスタT6、・・・、T1゜は
、所定のプリチャージ期間に導通するもので、ビット線
対BL、 、BL=の電位差をイコライズ(等価)する
ものである。
第3図(a)は、代表して1列目のロードトランジスタ
T1〜T#を示す構成図である。2つのロードトランジ
スタT11T4のゲートには、ノード電圧NL(後述)
が与えられており、残りの2つのトランジスタTt 、
T、のゲートには、所定のプリチャージ期間でハイレベ
ルとなるプリチャージ信号正が与えられている。
第2図において、ノード電圧NLは、伝送ゲートトラン
ジスタTll〜TI4および電圧分割用のトランジスタ
THss TI&からなる電位発生回路VCで作られる
電位発生回路VCは、請求項(1)に記載の導通度操作
手段、または、請求項(2)に記載の電位発生手段およ
び電位選択手段としての機能を有し、■)プリチャージ
信号Φがハイレベルの間、すなわち所定のプリチャージ
期間、4つの伝送ゲートトランジスタのうちの2つ(T
 +いT1□)を導通してノード電圧NLを定電源vA
vccの電位(第1の電位、VH)に設定する(NL=
V。
=Vcc)一方、 ■)プリチャージ信号中がローレベル(あるいはΦの反
転信号下がハイレベル)の間、すなわち所定のプリチャ
ージ期間以外の期間で、例えば、読み出し期間、残り2
つの伝送ゲートトランジスタ(T、3、T14)を導通
して、ノード電圧NLを上記第1の電位vMよりも低い
第2の電位■1に設定する(NL=Vt <VN )。
ここで、第2の電位VLの大きさは、電圧分割用の2つ
のトランジスタTIS、TI6の分圧比で決められるが
、要は、定電源線の電位Vccよりも低く、且つグラン
ド電位Ovよりも高い電圧であればよい。本実施例では
、Vccよりも0.1〜0.2V程度低い電圧を設定す
るものとする。
なお、各列のメモリセルII〜1.は、第3図(b)に
示すように、例えば、一対の転送トランジスタT2いT
!z、電流供給用抵抗R,、R,および駆動トランジス
タT!3、T’z4を備えて、いわゆる抵抗負荷型で構
成されてお、す、チップ上にm×nのマトリクス状に配
置されている。
なお、21はマトリクスの行(ロウ)を指定するロウア
ドレス信号をバッファリングするロウアドレスハソファ
;22はロウアドレス信号をデコードするとともに、そ
のデコード結果に従って、複数のワード線WL、−WL
、01つを活性化するロウデコーダ;23はマトリクス
の列(コラム)を指定するコラムアドレス信号をバッフ
ァリングするコラムアドレスバッファ;24はコラムア
ドレス信号をデコードするとともに、そのデコード結果
に従って、各列毎の列選択用トランジスタ(T23、T
26)〜(T27、T28)を選択的に導通させる列選
択信号CD、〜CD、lを発生するコラムデコーダ;2
5はロウアドレス信号およびコラムアドレス信号の変化
を検出し、その検出信号(ATDクロフク信号ともいう
)SATDを出力するATD(Adress Tran
sition Detector )回路;26はプリ
チャージ信号Φ(およびその反転信号下)を発生すると
ともに、上記検出信号S ATOに応答して該プリチャ
ージ信号Φをハイレベルに変化させる(その反転信号下
はローレベルに変化する)クロックドライバ;28.2
9は書き込み時に入力データをバッファリングするデー
タインハソファおよびライトアンプァ;30は人力デー
タを増幅してデータバスDBやビット線対BL□、「巳
を介して選択メモリセルに書き込むためのライトアンプ
;31はプリチャージ信号Φの反転信号下に応答してデ
ータバスDBをリセットするデータバスリセット回路;
32は読み出し時にビット線対BL、、「口の電位差(
選択メモリセルのデータ)を増幅するセンスアンプ;3
3はセンスアンプ32によって増幅されたデータをバッ
ファリングして外部に出力するデータアウトバッファで
ある。なお、第4図はATD回路25の構成図であり、
ロウアドレス信号および列アドレス信号のビット毎に設
けられたフリップフロップ回路25aと、各フリップフ
ロップ回路25aの出力信号のNAND信号を出力する
NANDゲート26b等より構成され、1ビツトの論理
が変化すると、その変化の瞬間にハイレベルのパルス信
号(ATDクロック信号5ATD)を発生する。
次に、第5図の動作タイミングチャートに従って、本実
施例の作用を説明する。
ここで、読み出しサイクルの終了期間t、では、当該読
み出しサイクルにおける読み出しデータの一部がビット
線対BL、 、BL、に残留しているものとする。
この残留電圧は、続くプリチャージ期間t2でそのとき
のノード電圧NLに応した電位にプリチャージされる。
すなわち、アドレス信号の変化がATD回路25によっ
て検出されると、プリチャージ信号Φが71イレベルに
変化(反転信号Φはローレベル)シ、これにより−、4
つの伝送ゲートトランジスタのうちの2つ(T18、T
lz)がオン、残りの2つ(Tl3、Tl4)がオフに
なって、ノード電圧NLが第1の電位(Vcc=VH)
に設定される。
そして、このノード電圧NL (VN )がロードトラ
ンジスタ(Tl 、Ta )〜(T、、、T、)に印加
されるとともに、ハイレベルのプリチャージ信号Φがロ
ードトランジスタ(Tz 、T3 )〜(T’l 、’
rs )に印加される。
したがって、全てのロードトランジスタのオン抵抗が減
少方向に操作され、言い換えればトランジスタの導通度
が上がる方向に操作される結果、各ビット線BLi、丁
Tτと定電源線Vccとを低抵抗で接続することができ
、各ビ・ノド線BL□、「区ノ電位を速やかに、V c
 c、  VT14L(VTHL :ロードトランジス
タのしきい電圧)にプリチャージすることができる。
一方、読み出し初期に相当する期間t3では、プリチャ
ージ信号Φが再びローレベルに変化し、4つの伝送ゲー
トトランジスタのうちの2つ(T1いT1□)がオフ、
残りの2つ(Tl3、T14)がオンになって、ノード
電圧NLが上記第1の電位よりも低い第2の電位(VL
 )に設定される。
そして、このノード電圧NLがロードトランジスタ(T
1、T4)〜(T8、T、)に印加されルトトもに、ロ
ーレベルのプリチャージ信号Φがロードトランジスタ(
Tz 、T3 )〜(T1、T、)に印加される。
読み出しが開始されると、ビット線BL、、U■からメ
モリセルへと電流が流れ込み、一対のビット線BL、 
、BL、間に電位差がつき始める。
この期間t3では、ローレベルのプリチャージ信号Φが
印加されたロードトランジスタ(T2 、T3)〜(T
? 、Ts )はオフ状態であり、また、ノード電圧N
L(VL)が印加されたロードトランジスタ(Tl 、
Ta )〜(Ta 、T9 ) も、ビット線電位がV
L−VTHLになるまではオフ状態である。
ここで、期間t3におけるノード電圧NLは、第1の電
位よりも低い第2の電位(VL)であり、この第2の電
位VLが印加されたロードトランジスタ(’r、 、T
4 )〜(Ta 1Tq )は、そのオン抵抗をプリチ
ャージ期間t2におけるオン抵抗よりも大きくする。こ
れは、言い換えればトランジスタの導通度が下がる方向
に操作されたことに相当する。
この結果、各ビット線BL、、f’f:と定電源線Vc
cとの間が“高”抵抗で接続されるので、各ピント線B
L、、rに供給されるロード電流(ロードトランジスタ
を流れる電流)をほぼゼロにでき、データ読み出しに伴
うビット線対BL、、r口の電位の開き始めを大きくし
て、読み出しの開始動作を早めることができる。
ビット線電位がvL VTHLに到達する時間t4にお
いては、第2の電位■、が印加されたロードトランジス
タ(TI 、 T4 )〜(T6 、Tq )がオン状
態になり、このトランジスタを介してロード電流がビッ
ト線に供給される。
そしてその後、時間t、で、ビット線からメモリセルに
流れ込む電流とロード電流とがつり合うと、そのときの
電位でビット線電位が飽和し、安定する。
したがって、本実施例によれば、ロードトランジスタの
ゲート電位を、第1電位(Vcc=Vo)と第2の電位
(VL :VL〈7M)の2段階に操作して、プリチャ
ージ期間におけるロードトランジスタの導通度を下げる
一方、読み出し期間初期における当該ロードトランジス
タの導通度を上げるようにしたので、■プリチャージ期
間においては、ビット線に対するロード電流を速やかに
供給することができ、■また、読み出し期間の初期にお
いては、ロード電流の供給をほぼゼロにして読み出しの
開始動作を早めることができ、■さらに、読み出し期間
中においては、ロード電流を供給してピント線電位を所
定電位に飽和させることができる。
その結果、特に、読み出し期間中におけるビット線の電
位差のつき過ぎ(従来のrACロード方式」の欠点)を
回避でき、次サイクルのプリチャージ期間を短縮化して
、動作速度のより一層の向上を図ることができる。
なお、上記実施例では、トランジスタT+s、T1、に
よってVccを分圧して第2の電位VLを作っているが
、これに限らず、例えば、第6図に示すように、抵抗R
3゜、R1+によってVccを分圧し、VLを作っても
よい。
また、上記実施例では、伝送ゲートトランジスタTll
〜TI4をCMO3構成としているが、例えば、Pチャ
ネルトランジスタT0、TI3だけ、または、Nチャネ
ルトランジスタT、2、TI4だけで構成してもよい。
さらにまた、ロードトランジスタT、 、T、をPチャ
ネルトランジスタとしてもよい。但し、その場合には制
御電圧(NL)をNチャネルトランジスタの場合(上記
実施例)と逆極性にする。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ロードトランジスタの導通度を、読み
出し初期の期間とそれ以外の期間とで変更するようにし
たので、プリチャージ時間を短縮化でき、動作速度のよ
り一層の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1圀は′本発明の原理構成図、 第2〜6図は本発明の一実施例を示す図であり、第2図
はその構成図、 第3図(a)はそのロードトランジスタの回路図、 第3図(b)はそのメモリセルの回路図、第4図はその
ATD回路の回路図、 第5図はその動作タイミングチャート、第6図はその分
圧回路の変形例の回路図である。 第7〜lO図は従来例を示す図であり、第7図(a)は
そのDCロード方式の要部構成図、 第7図(b)はそのDCロード方式の他の要部構成図、 第8図はそのDCロード方大の読み出し初期におけるビ
ット線電位の波形図、 第9図(a)はそのACロード方方弐要部構成図、 第9図(b)はそのACロード方式の他の要部構成図、 第10図はそのACロード方方弐読み出し初期における
ビット線電位の波形図である。 VC・・・・・・電位発生回路 (導通度操作手段、電位発生手段、 電位選択手段)。 10.11・・・・・・ロードトランジスタ、12・・
・・・・メモリセル、 13・・・・・・導通度操作手段、 Vcc−・・・・・定電agi線、 BL、丁T・・・・・・ビット線、 BL8、■T−・・・・・・ビット線、1+−11I・
・・・・・メモリセル、T1〜T4・・・・・・ロード
トランジスタ、T6〜T、・・・・・・ロードトランジ
スタ、第 図 L −実施例のロードトランジスタの回路図(a) 一実施例のメモリセルの回路図 (b) 第3図 一実施例のATD回路の回路図 第4図 一実施例の動作タイミングチャート 第5図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電源線とビット線との間を接続するロードトラン
    ジスタと、 前記ビット線に接続するメモリセルと、 該メモリセルの読み出し期間初期において前記ロードト
    ランジスタの導通度を低下する一方、読み出し期間初期
    以外の期間において前記ロードトランジスタの導通度を
    上げる導通度操作手段と、を備えることを特徴とする半
    導体記憶装置。
  2. (2)電源線とビット線との間を接続するロードトラン
    ジスタと、 前記ビット線に接続するメモリセルと 第1の電位および該第1の電位よりも低い第2の電位を
    発生する電位発生手段と、 該第1の電位または第2の電位を選択して前記ロードト
    ランジスタのコントロール電極に与える電位選択手段と
    を具備し、 少なくとも前記ビット線のプリチャージ期間には第1の
    電位を選択する一方、 前記メモリセルに対する読み出し期間の初期には第2の
    電位を選択することを特徴とする半導体記憶装置。
JP2252522A 1990-09-20 1990-09-20 半導体記憶装置 Pending JPH04132086A (ja)

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JP2252522A JPH04132086A (ja) 1990-09-20 1990-09-20 半導体記憶装置

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JP (1) JPH04132086A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08263985A (ja) * 1995-03-24 1996-10-11 Nec Corp 半導体記憶装置
JP2009043357A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Toshiba Corp 半導体記憶装置

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