JPH03206691A - 混成集積回路 - Google Patents
混成集積回路Info
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- JPH03206691A JPH03206691A JP188190A JP188190A JPH03206691A JP H03206691 A JPH03206691 A JP H03206691A JP 188190 A JP188190 A JP 188190A JP 188190 A JP188190 A JP 188190A JP H03206691 A JPH03206691 A JP H03206691A
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- resin
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
Landscapes
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は混成集積回路に関し、特にシールド性を必要と
する半導体素子を搭載した混成集積回路に関する。
する半導体素子を搭載した混成集積回路に関する。
従来、この種の混成集積回路は、第3図に示すように、
絶縁性基板1上に半導体素子3を搭載し金線4を用いて
ワイヤボンディング法により接続し樹脂5でコーティン
グする。次に抵抗,コンデンサ等の受動素子7を搭載し
て半田付け接続し、絶縁性基板上の一辺にクリップ端子
8を取付け絶縁基板1上の外部接続端子にクリップ端子
8を半田付け固定した後、金属ケース10に封入して金
属ケース10内に樹脂11を封入し金属ケース10を接
地することによりシールド効果を持たせて外来ノイズか
らの遮断及び相互干渉を軽減させていた。
絶縁性基板1上に半導体素子3を搭載し金線4を用いて
ワイヤボンディング法により接続し樹脂5でコーティン
グする。次に抵抗,コンデンサ等の受動素子7を搭載し
て半田付け接続し、絶縁性基板上の一辺にクリップ端子
8を取付け絶縁基板1上の外部接続端子にクリップ端子
8を半田付け固定した後、金属ケース10に封入して金
属ケース10内に樹脂11を封入し金属ケース10を接
地することによりシールド効果を持たせて外来ノイズか
らの遮断及び相互干渉を軽減させていた。
上述した従来の混成集積回路は、部品を搭載した絶縁性
基板を金属ケースに封入しているので外形寸法が大きく
なり高密度実装に必要な混成集積回路の小型化に対応で
きないという欠点がある。
基板を金属ケースに封入しているので外形寸法が大きく
なり高密度実装に必要な混成集積回路の小型化に対応で
きないという欠点がある。
本発明は、半導体素子及び電気部品を搭載した絶縁性基
板と、この絶縁性基板上の外部接続され前記絶縁性基板
に固着されるクリップ端子と前記半導体素子及び電気部
品を覆って前記絶縁性基板の外周に形成される外装樹脂
とを備える混成集積回路に於いて、搭載部品のうちシー
ルド効果が必要な半導体素子部にのみシールド用金属カ
バーを有している。
板と、この絶縁性基板上の外部接続され前記絶縁性基板
に固着されるクリップ端子と前記半導体素子及び電気部
品を覆って前記絶縁性基板の外周に形成される外装樹脂
とを備える混成集積回路に於いて、搭載部品のうちシー
ルド効果が必要な半導体素子部にのみシールド用金属カ
バーを有している。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例の断面図である.第1図
に示すように、厚さ0.635mII1のセラミック基
板lに銀一パラジウムからなる厚さ約10μmの導体パ
ターン2を形威し半導体素子3を搭載し、例えば線径3
0μmの金線4によりワイヤボディング法にて接続する
。次に半導体素子3を保護するためにフェノール樹脂5
を塗布し150℃の恒温槽内で1〜3時間放置し加熱硬
化させる。次に金属製のシールド力バー6と抵抗又はコ
ンデンサなどの受動素子7を搭載し半田リフロー法によ
り半田付けする。次にセラミック基板1上の縁部に形成
した外部接続端子ランドにクリップ端子8を取り付けて
半田接続しクリップ端子8の先端部を露出した状態で全
体にフェノール外装樹脂9を塗布し150℃の恒温槽内
で1〜3時間放置し加熱硬化させて戒る。
に示すように、厚さ0.635mII1のセラミック基
板lに銀一パラジウムからなる厚さ約10μmの導体パ
ターン2を形威し半導体素子3を搭載し、例えば線径3
0μmの金線4によりワイヤボディング法にて接続する
。次に半導体素子3を保護するためにフェノール樹脂5
を塗布し150℃の恒温槽内で1〜3時間放置し加熱硬
化させる。次に金属製のシールド力バー6と抵抗又はコ
ンデンサなどの受動素子7を搭載し半田リフロー法によ
り半田付けする。次にセラミック基板1上の縁部に形成
した外部接続端子ランドにクリップ端子8を取り付けて
半田接続しクリップ端子8の先端部を露出した状態で全
体にフェノール外装樹脂9を塗布し150℃の恒温槽内
で1〜3時間放置し加熱硬化させて戒る。
第2図は本発明の第2の実施例の断面図である.第2図
に示すように、この実施例ではセラミック基板に於いて
半導体素子3と反対側のセラミック基板1の面に導体パ
ターン2を形成している。この実施例では半導体素子3
の裏側からのノイズに対しても遮断できる利点がある。
に示すように、この実施例ではセラミック基板に於いて
半導体素子3と反対側のセラミック基板1の面に導体パ
ターン2を形成している。この実施例では半導体素子3
の裏側からのノイズに対しても遮断できる利点がある。
以上説明したように本発明はシールド効果を必要とする
半導体素子上にのみシールド力バーを形成し全体を樹脂
コートすることにより金属ケースが不要となり小型化が
達成できる効果がある.またシールド力バーと受動素子
は同時に搭載し半田リフロ一により半田付接続するので
工程が短縮できるという効果もある。
半導体素子上にのみシールド力バーを形成し全体を樹脂
コートすることにより金属ケースが不要となり小型化が
達成できる効果がある.またシールド力バーと受動素子
は同時に搭載し半田リフロ一により半田付接続するので
工程が短縮できるという効果もある。
第1図は本発明の第1の実施例の断面図、第2図は本発
明の第2の実施例の断面図、第3図は従来構造の断面図
である, 1・・・セラミック基板、2・・・導体パターン、3・
・・半導体素子、4・・・金線、5・・・フェノール樹
脂、6・・・シールド力バー 7・・・受動素子、8・
・・クリップ端子、9・・・外装樹脂、10・・・金属
ケース、11・・・樹脂,
明の第2の実施例の断面図、第3図は従来構造の断面図
である, 1・・・セラミック基板、2・・・導体パターン、3・
・・半導体素子、4・・・金線、5・・・フェノール樹
脂、6・・・シールド力バー 7・・・受動素子、8・
・・クリップ端子、9・・・外装樹脂、10・・・金属
ケース、11・・・樹脂,
Claims (1)
- 半導体素子及び電気部品を搭載した絶縁性基板と、該
絶縁性基板上の外部接続端子に接続固着されるクリップ
端子と、前記半導体素子及び電気部品を覆って前記絶縁
性基板の外周に形成される外装樹脂とを備える混成集積
回路において、前記搭載部品のうちシールド効果を必要
とする半導体素子部にのみシールド用金属カバーを有す
ることを特徴とする混成集積回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP188190A JPH03206691A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | 混成集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP188190A JPH03206691A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | 混成集積回路 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03206691A true JPH03206691A (ja) | 1991-09-10 |
Family
ID=11513909
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP188190A Pending JPH03206691A (ja) | 1990-01-08 | 1990-01-08 | 混成集積回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03206691A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5323533A (en) * | 1991-03-26 | 1994-06-28 | Thomson-Csf | Method of producing coaxial connections for an electronic component, and component package |
US5400949A (en) * | 1991-09-19 | 1995-03-28 | Nokia Mobile Phones Ltd. | Circuit board assembly |
WO2003041163A1 (fr) * | 2001-11-09 | 2003-05-15 | 3D Plus | Dispositif d'encapsulation hermetique de composant devant etre protege de toute contrainte |
-
1990
- 1990-01-08 JP JP188190A patent/JPH03206691A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5323533A (en) * | 1991-03-26 | 1994-06-28 | Thomson-Csf | Method of producing coaxial connections for an electronic component, and component package |
US5400949A (en) * | 1991-09-19 | 1995-03-28 | Nokia Mobile Phones Ltd. | Circuit board assembly |
US5442521A (en) * | 1991-09-19 | 1995-08-15 | Nokia Mobile Phones Ltd. | Circuit board assembly |
WO2003041163A1 (fr) * | 2001-11-09 | 2003-05-15 | 3D Plus | Dispositif d'encapsulation hermetique de composant devant etre protege de toute contrainte |
FR2832136A1 (fr) * | 2001-11-09 | 2003-05-16 | 3D Plus Sa | Dispositif d'encapsulation hermetique de composant devant etre protege de toute contrainte |
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