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DE68902151T2 - Leseschaltung, die in einer halbleiterspeichereinrichtung enthalten ist. - Google Patents

Leseschaltung, die in einer halbleiterspeichereinrichtung enthalten ist.

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Publication number
DE68902151T2
DE68902151T2 DE8989102688T DE68902151T DE68902151T2 DE 68902151 T2 DE68902151 T2 DE 68902151T2 DE 8989102688 T DE8989102688 T DE 8989102688T DE 68902151 T DE68902151 T DE 68902151T DE 68902151 T2 DE68902151 T2 DE 68902151T2
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DE
Germany
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field effect
voltage level
gate
effect transistor
channel field
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DE8989102688T
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DE68902151D1 (de
Inventor
Toshikatsu Jinbo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of DE68902151T2 publication Critical patent/DE68902151T2/de
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits

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  • Read Only Memory (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Leseschaltung, und insbesondere eine Leseschaltung in einer nichtflüchtigen Halbleiterspeichervorrichtung.
  • Eine nichtflüchtige Halbleiterspeichervorrichtung ist als elektrisch löschbare Nur-Lese-Speichervorrichtung bekannt, die mit einer Vielzahl Lawineninjektions-MOS-Transistoren mit schwebendem Gate versehen ist, die in einer Matrix zur Ausbildung eines Speicherzellenfeldes angeordnet sind. Ein solcher Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Transistor hat eine Doppelgatestruktur aus einem Schwebegate und einem Steuergate. Ein typisches Beispiel für einen Schwebegate- Lawineninjektions-MOS-Transistor ist in Fig. 1 der Zeichnungen dargestellt und auf einem Halbleitersubstrat 1 vom p-Typ hergestellt. Der Schwebegate-Lawineninjektions-MOS- Transistor hat Source- und Drainbereiche 2 und 3 vom n- Kanal-Typ, die voneinander durch einen Kanalbildungsbereich beabstandet sind, ein Schwebegate 4, das oberhalb des Kanalbildungsbereichs angeordnet ist, und ein Steuergate 5, das oberhalb des Schwebegates 4 vorgesehen ist, und sowohl das Schwebegate 4 als auch das Steuergate 5 sind in einem Isolierfilm 6 eingehüllt. Der so aufgebaute Schwebegate- Lawineninjektions-MOS-Transistor wird normalerweise wie in Fig. 2 illustriert symbolisiert, und ein Datenbit mit dem Pegel "0" wird in dem Schwebegate-Lawineninjektions-MOS- Transistor durch Erzeugung eines Lawinendurchbruchs um den Drainbereich 3 erzeugt durch Zuführung eines relativ hohen Spannungspegels von etwa 12,5 Volt zu sowohl dem Drainbereich 3 als auch dem Steuergate 6. Mit injiziertem Schwebegate wird der Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Transistor als im "Einschreibzustand" bezeichnet. Wenn der Lawinendurchbruch um den Drainbereich 3 erzeugt wird, werden heiße Elektronen in das Schwebegate 4 injiziert, und dem entsprechend wird die Schwellspannung zu einem relativ hohen Spannungspegel verschoben, wie durch die Kurve A in Fig. 3 angezeigt ist. Falls jedoch zum Speichern eines Datenbits mit Pegel "1" keine heißen Elektronen in das Schwebegate 4 injiziert werden (was als "Nichteinschreibzustand" bezeichnet wird) verbleibt die Schwellspannung auf einem relativ niedrigen Pegel von etwa 2 Volt, wie durch die Kurve B in Fig. 3 dargestellt ist. Auf diese Weise speichert der Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Transistor das Datenbit unter Verwendung der Differenz im Schwellspannungspegel zwischen dem elektroneninjizierten Zustand und dem nichtinjizierten Zustand.
  • In Fig. 4 der Zeichnungen ist die Schaltungsanordnung einer nichtflüchtigen Halbleiterspeichervorrichtung dargestellt, die ein Speicherzellenfeld 11 aufweist, das unter Verwendung von Speicherzellen MC11 bis MCmn gebildet ist. Jede Speicherzelle MC11 bis MCmn ist durch den Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Transistor gebildet. Die Speicherzellen in jeder Zeile sind zwischen entsprechende Zahlenleitungen D1 bis Dn und einen Massenanschluß Vg geschaltet, und jede Wortleitung W1, W2 oder Wn wird von den Steuergates dieser Speicherzellen in jeder Zeile geteilt. Über ein Zeilenadreßsignal aktiviert eine Zeilenadreß-Decoderschaltung 12 eine der Wortleitungen W1 bis Wn und somit die Speicherzelle in der ausgewählten Zeile. Jede der Zahlenleitungen D1 bis Dn ist an ihrem einen Ende mit jedem Gatetransistor Y1, Y2 oder Yn des n-Kanal-Typs gekoppelt, wobei ihre Gateelektroden mit einer Spaltendecoderschaltung 13 verbunden sind. Die Spaltendecoderschaltung 13 arbeitet abhängig von einem Spaltenadreßsignal und aktiviert einen der Gatetransistoren Y1 bis Yn, so daß nur ein Datenbit von einer der Zahlenleitungen D1 bis Dn an eine Leseschaltung 14 übertragen wird. Parasitäre Kapazitäten C1, C2, . . . und Cn sind mit den Zahlenleitungen D1, D2, . . . bzw. Dn verbunden.
  • Der in der nichtflüchtigen Halbleiterspeicher-Vorrichtung vorhandene bekannte Leseschaltung 14 umfaßt eine Reihenschaltung eines n-MOS-Feldeffekttransistors 15 und eines p- MOS-Feldeffekttransistors 16, die zwischen einen Eingangsknoten 17 der Leseschaltung 14 und einer Quelle positiven Spannungspegels Vc geschaltet sind, und eine Inverterschaltung 18, die zwischen den Eingangsknoten 17 und die Gateelektrode des n-Kanal-MOS-Feldeffekttransistors 15 geschaltet ist, und die Drainelektrode des p-Kanal-Feldeffekttransistors 16 ist mit seiner Gateelektrode, die als Ausgangsknoten 19 der Leseschaltung 14 dient, verbunden. Die so ausgebildete Leseschaltung 14 arbeitet zur Erfassung einer Änderung des Spannungspegels am Eingangsknoten 17 auf Basis des Pegels des Datenbits und überträgt das Datenbit an den Ausgangsknoten 19. Der Ausgangsknoten 19 ist mit einer Differenzverstärkerschaltung 20 verbunden, die im wesentlichen eine Reihenschaltung eines p-Kanal-Feldeffekttransistors 21 und eines n-Kanal-Feldeffekttransistors 22 umfaßt, die zwischen die Quelle mit positivem Spannungspegel Vc und den Masseanschluß Vg geschaltet ist, und eine Reihenschaltung eines p-Kanal-Feldeffekttransistors 23 und eines n-Kanal- Feldeffekttransistors 24, die ebenso zwischen die Quelle mit positiven Spannungspegel Vc und den Masseanschluß Vg geschaltet ist. Beide n-Kanal-Feldeffekttransistoren 22 und 24 formen zusammen eine Stromspiegelschaltung, so daß das Datenbit schnell im Spannungspegel verstärkt und dem Ausgangsknoten 25 zugeführt wird, der zwischen den p-Kanal- Feldeffekttransistors 21 und dem n-Kanal-Feldeffekttransistors 22 vorgesehen ist.
  • Die folgende Beschreibung bezieht sich auf das Schaltungsverhalten unter der Annahme, daß auf die Speicherzelle MC11 von außen zugegriffen wird. Die Signalverläufe der wesentlichen Signale sind in Fig. 5 dargestellt. In einem für den Zugriffertigen Zustand T1 wird der Massenspannungspegel der Gateelektrode des Gatetransistors Y1, der Wortleitung W1, der Gateelektrode des n-Kanal-Feldeffekttransistors 15, dem Ausgangsknoten 25 der Differenzverstärkerschaltung 20 und der Zahlenleitung D1 zugeführt, wobei jedoch der Ausgangsknoten 19 der Leseschaltung 14 auf einem positivem Spannungspegel verbleibt, der etwas geringer ist als der positive Spannungspegel Vc. Wenn mit dem Zeilenadreßsignal und dem Spaltenadreßsignal der Zugriff auf die Speicherzelle MC11 beginnt, erlaubt es der Reihenadreßdecoder 12 der Wortleitung W1 auf dem positivem Spannungspegel Vc anzusteigen, und der Spaltenadreßdecoder 13 liefert den positiven Spannungspegel Vc an die Gateelektrode des Gatetransistors Y1, um den Gatetransistor Y1 einzuschalten. Anschließend ist der Spannungspegel an der Gateelektrode des n-Kanal-Feldeffekttransistors 15 höher als an seinem Sourceknoten aufgrund der Inverterschaltung 18, und aus diesem Grund schaltet der n-Kanal-Feldeffekttransistors 15 ein. Als Ergebnis wird ein Stromweg von der Quelle mit positivem Spannungspegel Vc über die Reihenschaltung des p- Kanal-Feldeffekttransistors 16 und des n-Kanal-Feldeffekttransistors 15 und den Gatetransistor Y1 zur Zahlenleitung D1 gebildet. Falls ein Datenbit mit Pegel "0" in der Speicherzelle vorhanden ist, wird kein Kanal in der Speicherzelle MC1 erzeugt. Dann wird Strom verbraucht, um die parasitäre Kapazität C1, die mit der Zahlenleitung D1 gekoppelt ist, aufzuladen, und aus diesem Grund erhöht sich der Spannungspegel auf der Zahlenleitung D1 allmählich über eine relativ lange Zeitspanne T2 und erreicht schließlich einen positiven Spannungspegel. Wenn die Zahlenleitung D1 den positiven Hochspannungspegel erreicht, erzeugt die Inverterschaltung 18 einen niedrigen Spannungspegel bezüglich der Sourceelektrode des n-Kanal-Feldeffekttransistors 15, so daß der n-Kanal-Feldeffekttransistors 15 ausschaltet. Wenn der n-Kanal-Feldeffekttransistors 15 ausgeschaltet ist, wird der Strom zum Erhöhen des Spannungspegels am Ausgangsknoten 19 verwendet. Bei hohem Spannungspegel am Ausgangsknoten 19 schaltet der p-Kanal-Feldeffekttransistors 18 aus, so daß der Ausgangsknoten der Differenzverstärkerschaltung 20 auf Massenpotential zurückentwickelt wird. Auf diese Weise wird das ausgelesene Datenbit auf dem niedrigen Spannungspegel fixiert, und aus diesem Grunde wird in der Zeitspanne T3 festgestellt, daß die Speicherzelle MC11 im Einschreibzustand ist. Falls jedoch das Datenbit mit "1" in der Speicherzelle MC11 gespeichert ist, fließt der Strom zum Masseanschluß, so daß der n-Kanal- Feldeffekttransistor 15 im Einschaltzustand verbleibt und somit den Ausgangsknoten 19 veranlaßt, auf dem niedrigen Potentialpegel zu verbleiben. Dies führt dazu, das der p- Kanal-Feldeffekttransistors 21 eingeschaltet wird, um den Ausgangsknoten 25 auf hohem Spannungspegel zu halten. Dann wird für die Speicherzelle MC11 erfaßt, daß sie im Nichteinschreibzustand ist.
  • Ein Problem ergibt sich in der bekannten Leseschaltung 14 hinsichtlich der relativ langen Zugriffszeit. Zum Vermindern der Zugriffszeit kann der Kanal-Feldeffekttransistor 15 durch einen Kanal-Feldeffekttransistor mit breiterer Gateelektrode gebildet sein. Wenn die Gatebreite der Gateelektrode erhöht wird, besitzt der Feldeffekttransistor eine große Stromtreiberfähigkeit, so daß die parasitäre Kapazität C1 schnell aufgeladen werden würde. Falls jedoch der Feldeffekttransistor eine breitere Gateelektrode aufweist, ist die Leseschaltung 14 empfindlicher bezüglich Rauschen auf dem Massenpotentialpegel. Dies führt dazu, daß ein Fehlerdatenbit nach außen geliefert werden kann.
  • Im einzelnen sei nunmehr angenommen, daß die Inverterschaltung 18 eine Schwellspannung Vth 18 von einem Volt auf einer Eingangs-/Ausgangsspannungscharakteristiklinie 31a aufweist und daß der n-Kanal-Feldeffekttransistor ebenso eine Schwellspannung von Vth15 von einem Volt aufweist, wobei der Gaterückspannungseffekt zu berücksichtigen ist, wird der n-Kanal-Feldeffekttransistor 15 beim Gatespannungspegel V15 ausgeschaltet wird aufgrund des Spannungspegels auf der Zahlenleitung D1, der im Spannungspegel zunimmt, falls die Speicherzelle MC11 im Einschreibzustand ist. Der Gatespannungspegel V15OFF, die den Feldeffekttransistor 15 ausschaltet, ist durch den Schnittpunkt 33a der Charakteristikalinie 31a und einer linearen Linie 32a angegeben. Die lineare Linie 32a bezeichnet den Gatespannungspegel V15 oder die Gesamtspannung in Termen des Gesamtspannungspegels V17 am Eingangsknoten 17 und wird berechnet zu:
  • V15 = V17 + Vth15.
  • Falls jedoch der Nichteinschreibzustand in der Speicherzelle MC11 vorliegt, dringt ein Strom durch den n-Kanal- Feldeffekttransistor 15 zum Invertieren des Spannungspegels am Ausgangsknoten 25, und der Spannungspegel V15ON zum Ermöglichen des Stromflusses wird berechnet zu
  • V15ON = V17 + Vth15 + 2 Volt.
  • Der den Stromfluß zulassende Spannungspegel V15ON wird durch einen Schnittpunkt 33c der Charakteristikalinie 31a und einer linearen Linie 32c wiedergegeben. Falls jedoch der n-Kanal-Feldeffekttransistor 15 durch einen Kanal-Feldeffekttransistor mit breiterer Gateelektrode gebildet ist, tritt der Strom zum Invertieren des Spannungspegels am Ausgangsknoten 25 beim Gatespannungspegel V15ON' auf, der geringer ist als der durch den Schnittpunkt 33c angegebene. Ein Schnittpunkt 33b, der den Spannungspegel V15ON' angibt, wird beispielsweise berechnet zu:
  • V15ON' = V18 + Vth15 + 1 Volt.
  • Falls in dieser Situation Rauschen im Massenspannungspegel Vg vorhanden ist, wird die Eingangs-/Ausgangscharakteristik der Inverterschaltung 18 von der Linie 31a zur Linie 31b verschoben. Der Gatespannungspegel V15OFF, der es dem n- Kanal-Feldeffekttransistor 15 erlaubt, im stabilen Zustand zu verbleiben, wird entsprechend vom Schnittpunkt 31a zu einem Schnittpunkt 34 verschoben. Der Schnittpunkt 34 hat einen höheren Spannungspegel als der Schnittpunkt 33b, so daß der Ausgangsknoten 25 vorübergehend den Nichteinschreibzustand anzeigt, obwohl die Speicherzelle MC11 sich im Einschreibzustand befindet. Es besteht deshalb die Gefahr, daß der Feldeffekttransistor mit breiterer Gateelektrode den Ausgangsknoten 25 beeinflußt, den entgegengesetzten Zustand der zugegriffenen Speicherzelle anzuzeigen. Es besteht deshalb ein Widerspruch zwischen dem schnellen Auslesevorgang und der Zuverlässigkeit des Datenbitauslesens über den Feldeffekttransistor 15 mit breiterer Gateelektrode.
  • Es ist somit eine wichtige Aufgabe der Erfindung eine Leseschaltung zu schaffen, die für eine Verbesserung der Zugriffszeit wirksam ist.
  • Es ist eine weitere wichtige Aufgabe der Erfindung eine Leseschaltung zu schaffen, die weniger empfindlich auf Rauschen auf einem konstanten Spannungspegel ist.
  • Zur Lösung dieser Aufgaben schlägt die Erfindung vor, den Stromweg in eine Vielzahl von Kanälen zu unterteilen, die parallel zwischen den Gatetransistoren und der Differenzverstärkerschaltung vorgesehen sind.
  • Erfindungsgemäß wird eine nichtflüchtige Halbleiterspeichervorrichtung geschaffen mit einer Leseschaltung, einer Anzahl Speicherzellen, einer Speicherzellenbezeichnungseinrichtung, die zur Bezeichnung einer der Speicherzellen zum Auslesen eines darin gespeicherten Datenbits arbeitet, wobei jede der Speicherzellen einen Leitungsweg oder einen Nichtleitungsweg zwischen einem Eingangsknoten und einer ersten Konstantspannungsquelle abhängig von dem darin gespeicherten Datenbit aufweist, wobei die Leseschaltung aufweist (a) eine Anzahl von Feldeffekttransistoren, die unterschiedliche Schwellspannungen aufweisen und parallel zwischen den Eingangsknoten und den Ausgangsknoten geschaltet sind, wobei die Feldeffekttransistoren Gateelektroden aufweisen, (b) eine Stromversorgungseinrichtung, die zwischen eine zweite Konstantspannungsquelle, deren Spannungspegel unterschiedlich zu dem der ersten Konstantspannungsquelle ist, und dem Ausgangsknoten geschaltet ist, und (c) einer Toreinrichtung, die zwischen den Eingangsknoten und die Gateelektroden geschaltet ist und auf einen Spannungspegel am Eingangsknoten anspricht, zum sequentiellen Verändern der Feldeffekttransistoren zwischen den Einschaltzuständen und den Ausschaltzuständen, so daß das in der durch die Speicherzellenbezeichnungseinrichtungen bezeichnete Speicherzellen gespeicherte Bit an den Ausgangsknoten übertragen wird.
  • Die Merkmale und Vorteile der erfindungsgemäßen Leseschaltung werden aus der folgenden Beschreibung zusammen mit den beigefügten Zeichnungen deutlich. Es zeigt:
  • Fig. 1 eine Schnittdarstellung des Aufbaus eines Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Feldeffekttransistors für ein Speicherzellenfeld,
  • Fig. 2 ein Diagramm, daß das Symbol Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Feldeffekttransistor darstellt, der in Fig. 1 gezeigt ist,
  • Fig. 3 einen Graph zur Erläuterung des Drainstroms bezüglich des Steuergate-Spannungspegels, der durch den in Fig. 1 dargestellten Schwebegate- Lawineninjektions-MOS-Feldekkefttransistor erreicht wird,
  • Fig. 4 ein Diagramm zur Erläuterung der Schaltungsanordnung einer mit einer bekannten Leseschaltung versehenen nichtflüchtigen Halbleiterspeicher-Vorrichtung,
  • Fig. 5 ein Diagramm zur Erläuterung der Signalverläufe wesentlicher Signale, die in der in Fig. 4 dargestellten nichtflüchtigen Speichervorrichtung erzeugt werden,
  • Fig. 6 einen Graph zur Erläuterung der Schaltcharakteristika einer Leseschaltung, die einen Teil der in Fig. 4 dargestellten nichtflüchtigen Halbleiterspeichervorrichtung bildet,
  • Fig. 7 ein Diagramm zur Erläuterung der Schaltungsanordnung einer nichtflüchtigen Halbleiterspeichervorrichtung, die mit einer Leseschaltung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung versehen ist,
  • Fig. 8 ein Diagramm zur Erläuterung der Schaltcharakteristika einer Leseschaltung, die in den in Fig. 7 dargestellte nichtflüchtige Halbleiterspeichervorrichtung eingefügt ist, und
  • Fig. 9 ein Diagramm zur Erläuterung des Schaltungsaufbaus einer Leseschaltung gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung.
  • Erste Ausführungsform
  • Fig. 7 der Zeichnungen zeigt eine nichtflüchtige Halbleiterspeichervorrichtung, die aufweist ein Speicherzellenfeld 41 mit einer Anzahl Wortleitungen und einer Anzahl Zahlenleitungen, eine Zeilenadreßdecoderschaltung 42, die zur Aktivierung der mit einer der Wortleitungen verbundenen Speicherzellen dient, Gatetransistoren 43, die entsprechend mit den Zahlenleitungen verbunden sind, um ein Datenbit auf einer der Zahlenleitungen passieren zu lassen, eine Speicheradreßdecoder-Schaltung 44 zum Einschalten einer der Gatetransistoren 43, eine Leseschaltung 45, die mit den Gatetransistoren 43 verbunden ist, und eine Differenzverstärkerschaltung 46. Jede der Speicherzellen ist durch einen Schwebegate-Lawineninjektions-MOS-Feldeffekttransistor, der in Fig 1 dargestellt ist, gebildet und außer der Leseschaltung 45 sind die Komponentenschaltungen ähnlich dem Schaltungsaufbau wie in der nichtflüchtigen Halbleiterspeichervorrichtung, die in Fig. 4 dargestellt ist, so daß die Beschreibung auf die Leseschaltung 45 gerichtet wird und aus Gründen der Einfachheit keine weitere Beschreibung der anderen Schaltkomponenten erfolgt.
  • Die Leseschaltung 45 weist einen mit den Gatetransistoren 43 verbundenen Eingangsknoten und einen Ausgangsknoten 48 auf, der mit dem Differenzverstärker 46 verbunden ist und abhängig ist von einem Spannungspegel am Eingangsknoten 47 zum Übertragen eines Datenbits vom Eingangsknoten 47 zum Ausgangsknoten 48. Die Leseschaltung 45 umfaßt ferner zwei n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50, die parallel zwischen den Eingangsknoten 47 und den Ausgangsknoten 48 geschaltet sind, eine Inverterschaltung 51, die zwischen einen positiven Spannungsknoten Vc und einen Massenspannungsknoten Vg geschaltet ist, und einen p-Kanal-Feldeffekttransistor 52, der zwischen den positiven Spannungsknoten Vc und den Ausgangsknoten 48 geschaltet ist. Der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 wird dem Eingangsknoten der Inverterschaltung 51 zugeführt, und die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 werden durch den Ausgangsknoten der Inverterschaltung 51 geschaltet. Die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 40 und 50 besitzen unterschiedliche Schwellspannungen und schalten gleichzeitig ein, um einen Strom vom positiven Spannungsknoten Vc beim Zugriff auf eine Speicherzelle im Nichteinschreibzustand durch sie passieren zu lassen. Falls die totale Stromtreiberfähigkeit der n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 etwa gleich der eines einzigen Feldeffekttransistors mit breiterer Gateelektrode ist, haben die beiden n-Kanal-Feldeffekttransistoren eine größere Schwellspannung als der eine Feldeffekttransistor mit breiterer Gateelektrode. Dies führt dazu, daß die zwei n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 weniger empfindlich auf Rauschen sind als der eine Feldeffekttransistor mit breiterer Gateelektrode. Der p-Kanal- Feldeffekttransistor 52 umfaßt eine mit dem Ausgangsknoten 48 verbundene Gateelektrode, so daß der positive Spannungsknoten Vc die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 40 und 50 mit einem Strom versorgt, sofern der Ausgangsknoten 48 einen ausreichend niedrigeren Spannungspegel als der positive Spannungsknoten Vc aufweist. Falls jedoch die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 ausgeschaltet werden, um es dem Ausgangsknoten 48 zu erlauben, im Spannungspegel anzusteigen, schaltet der p-Kanal-Feldeffekttransistor allmählich ab, um den Ausgangsknoten 48 auf einem gewissen positiven Spannungspegel zu halten.
  • Das Schaltungsverhalten der Leseschaltung 45 wird im folgenden mit Bezug auf Fig. 8 erläutert, in der eine Linie 61 die Eingangs/Ausgangscharakteristika der Inverterschaltung 51 angibt. Angenommen, daß die Inverterschaltung 51 eine Schwellspannung vom 1 Volt aufweist und das die n-Kanal- Feldeffekttransistoren 49 und 50 Schwellspannungen von 1 Volt beziehungsweise 0 Volt aufweisen, schaltet der n- Kanal-Feldeffekttransistor 49 bei einem Gatespannungspegel V49OFF aus, der berechnet wird zu
  • V49OFF = V47 + Vth49,
  • wobei V47 der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 und Vth49 die Schwellspannung des n-Kanal-Feldeffekttransistor 49 sind. Der Gatespannungspegel V49OFF wird durch einen Schnittpunkt 62a der Charakteristiklinie 61 und einer linearen Linie 63a verbunden. Es soll angemerkt werden, daß Gaterückspannungseffekte entsprechend berücksichtigt sind zur Beurteilung der Schwellspannungen der n-Kanal-Feldeffekttransistoren. Wenn andererseits der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 abnimmt und dem entsprechend der Spannungspegel der Inverterschaltung 51 ansteigt, schaltet der n-Kanal-Feldeffekttransistor 49 bei dem Gatespannungspegel V49ON ein, um den Ausgangsknoten 48 zu erlauben, den Logikpegel zu invertieren. Der Gatespannungspegel 49ON ist durch die folgende Gleichung gegeben:
  • V49ON = V47 + Vth49 + 2 Volt.
  • Der Gatespannungspegel V49ON ist durch den Schnittpunkt 62b der Charakteristikkurve 61 und der linearen Linie 63b angegeben.
  • Bezüglich des Feldeffekttransistors 50, wenn der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 ansteigt und dementsprechend der Ausgangsspannungspegel der Inverterschaltung 51 abnimmt, schaltet der n-Kanal-Feldeffekttransistor 51 bei dem Gatespannungspegel V50OFF aus, der gegeben ist durch
  • V50OFF = V47 + Vth50
  • wobei Vth50 die Schwellspannung des n-Kanal-Feldeffekttransistors 50 ist, die zu 0 Volt gewählt ist. Der Gatespannungspegel V50OFF wird durch einen Schnittpunkt der Charakteristikkurve 61 und einer linearen Linie 65a angezeigt. Der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 sinkt jedoch und dementsprechend geht die Ausgangsspannung der Inverterschaltung 51 hoch, wobei der n-Kanal-Feldeffekttransistor 50 mit einem Gatespannungspegel V50ON einschaltet, um dem Ausgangsknoten 48 zu erlauben, den Logikpegel zu invertieren. Der Gatespannungspegel V50ON wird wie folgt berechnet:
  • V50ON = V47 + Vth50 + 2 Volt.
  • Der Gatespannungspegel V50ON wird durch einen Schnittpunkt 64b der Charakteristikkurve 61 und einer linearen Linie 65b angezeigt. Die Gatespannungspegel V49OFF, V49ON, V50OFF und V50ON befinden sich somit auf der Charakteristikkurve 61 sofern kein Rauschen auf dem Massenspannungspegel liegt. Wenn der n-Kanal-Feldeffekttransistor 49 mit dem n-Kanal- Feldeffekttransistor 50 zusammenarbeitet, verbleiben beide n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 in entsprechenden Ausschaltzuständen, wobei der Gatespannungspegel nicht größer ist als der des Schnittpunktes 64a. Bei einem Spannungspegel zwischen dem Schnittpunkt 62a und dem Schnittpunkt 64b, beispielsweise an einem Punkt 66, wird der Ausgangsknoten 48 jedoch invertiert. Mit anderen Worten, wenn der Gatespannungspegel zum Punkt 66 ansteigt, wird der Stromweg zwischen dem positiven Spannungsknoten Vc und der durch den Zeilenadreßdecoder 12 und den Spaltenadreßdecoder angegebenen Speicherzelle gebildet, so daß Spannungspegel am Ausgangsknoten 48 abnimmt und schließlich im Logikpegel invertiert wird. Da die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 an den Schnittpunkten 62a bzw. 64a ausschalten, wird zumindest ein Teil des Stromwegs gleichzeitig in den n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 gebildet, sofern der Spannungspegel am Eingangsknoten 47 innerhalb eines durch einen Pfeil 67 gekennzeichneten Bereichs liegt. Anschließend laden die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 eine parasitäre Kapazität schnell auf, die mit der Zahlenleitung gekoppelt ist, die ihrerseits mit der durch den Zeilenadreßdecoder 42 und Spaltenadreßdecoderschaltung 44 angegebene Speicherzelle gekoppelt ist. Dies führt zu einer Verbesserung hinsichtlich der Zugriffszeit.
  • Wenn auf dem Massenspannungspegel Rauschen liegt, wird die Charakteristikkurve 61 durch die unterbrochen dargestellte Linie 68, ähnlich wie im bekannten Beispiel ersetzt. Dann bewegt sich der Gatespannungspegel V50OFF vom Schnittpunkt 64a zu einem Schnittpunkt 69, wobei jedoch der Spannungspegel am Schnittpunkt 69 geringer ist als am Punkt 66, so daß keine Inversion des Logikpegels am Ausgangsknoten 48 auftritt. Mit anderen Worten hat die Leseschaltung 45 eine geringere Empfindlichkeit gegen Rauschen und ist somit weniger empfindlich zur Erzeugung eines Fehlerdatenbits.
  • Zweite Ausführungsform
  • In Fig. 9 der Zeichnungen ist die Schaltungsanordnung einer weiteren Leseschaltung 71 erläutert. In der Leseschaltung 71 ist die Inverterschaltung 51 ersetzt durch ein NOR-Tor 72, wobei jedoch die anderen Bauelemente ähnlich sind zu den der Leseschaltung 45, so daß für die anderen Bauelemente keine Beschreibung erfolgt. Die anderen Bauelemente werden durch gleiche Bezugsziffern bezeichnet wie die korrespondierenden Elemente der Leseschaltung 45. Das NOR-Tor 72 hat zwei Eingangsknoten, von denen einer mit dem Eingangsknoten 47 verbunden ist und der andere mit einem Chipfreigabesignal CE versorgt wird. Das Chipfreigebesignal CE wird von außerhalb der nichtflüchtigen Speichervorrichtung für ihre Aktivierung zugeführt. Das NOR-Tor 72 veranlaßt die n-Kanal-Feldeffekttransistoren 49 und 50 und das Chipfreigabesignal CE im Ausschaltzustand zu verbleiben, und aus diesem Grunde ist der Stromverbrauch der Leseschaltung 71 bezüglich der Leseschaltung 45 vermindert.
  • Obwohl verschiedene Ausführungsformen der Erfindung dargestellt und beschrieben wurden, ist es offensichtlich für den Fachmann, daß verschiedene Änderungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne den Kern der Erfindung zu verlassen. Beispielsweise kann der Stromweg in mehr als zwei unterteilt werden, wobei jeder durch einen Feldeffekttransistor gebildet ist.

Claims (1)

1. Nichtflüchtige Halbleiter-Speichervorrichtung mit einer Leseschaltung (54, 46), einer Anzahl von Speicherzellen (41), einer Speicherzellen-Bezeichnungseinrichtung (42-44), die zur Bezeichnung einer der Speicherzellen zum Auslesen eines darin gespeicherten Datenbits arbeitet, wobei jede der Speicherzellen einen Leitungsweg oder einen Nichtleitungsweg zwischen einem Eingangsknoten (47) und einer ersten Konstantspannungsquelle, abhängig von dem darin gespeicherten Datenbit aufweist, mit einer Stromversorgungseinrichtung (52), die zwischen eine zweite Konstantspannungsquelle (Vc), deren Spannungspegel unterschiedlich zu dem der ersten Konstantspannungsquelle ist, und einem Ausgangsknoten (48) gekoppelt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Leseschaltung (45, 46) aufweist
a) eine Anzahl von Feldeffekt-Transistoren (49, 50), die unterschiedliche Schwellspannungen aufweisen und parallel zwischen den Eingangsknoten (47) und den Ausgangsknoten (48) geschaltet sind, wobei die Feldeffekttransistoren Gateelektroden aufweisen, und
b) einer Toreinrichtung (51), die zwischen den Eingangsknoten (47) und die Gateelektroden geschaltet sind und auf einen Spannungspegel am Eingangsknoten (47) ansprechen zum sequentiellen Verändern der Feldeffekt-Transistoren (49, 50) zwischen den Einschaltzuständen und den Ausschaltzuständen, so daß das in der durch die Speicherzellenbezeichnungseinrichtung (42-44) bezeichnete Speicherzelle gespeicherte Bit an den Ausgangsknoten (48) übertragen wird.
DE8989102688T 1988-02-19 1989-02-16 Leseschaltung, die in einer halbleiterspeichereinrichtung enthalten ist. Expired - Fee Related DE68902151T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3685188A JPH0727718B2 (ja) 1988-02-19 1988-02-19 センス回路

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DE68902151D1 DE68902151D1 (de) 1992-08-27
DE68902151T2 true DE68902151T2 (de) 1993-03-18

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