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DE4125365C1 - - Google Patents

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Publication number
DE4125365C1
DE4125365C1 DE4125365A DE4125365A DE4125365C1 DE 4125365 C1 DE4125365 C1 DE 4125365C1 DE 4125365 A DE4125365 A DE 4125365A DE 4125365 A DE4125365 A DE 4125365A DE 4125365 C1 DE4125365 C1 DE 4125365C1
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DE
Germany
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parts
anode
coated
coating system
chamber
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
DE4125365A
Other languages
English (en)
Inventor
Joerg O-9061 Chemnitz De Vetter
Nikolaus 5204 Lohmar De Matentzoglu
Manfred 5063 Overath De Schmidt-Mauer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Metaplas GmbH
Original Assignee
Multi-Arc Oberflaechentechnik 5060 Bergisch Gladbach De GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to DE9218712U priority patent/DE9218712U1/de
Priority to DE59203453T priority patent/DE59203453D1/de
Priority to AT92110914T priority patent/ATE127164T1/de
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32055Arc discharge
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Lichtbogen- Beschichtungsanlage mit
  • a) einer evakuierbaren, gegebenenfalls kontrolliert mit einem Reaktions- oder Inertgas füllbaren, die zu beschichtenden Teile enthaltenden Kammer;
  • b) in der Kammer elektrisch isoliert von dieser angeordneten, durch den Lichtbogen verzehrbaren Kathoden, die an eine erste Gleichstromquelle angeschlossen sind;
  • c) eine zweite, auf einer höheren Spannung als die erste befindliche Gleichstromquelle, an deren negativen Pol die elektrisch isoliert von der Kammer angeordneten, zu beschichtenden Teile angeschlossen sind, wobei
  • d) die positiven Pole der ersten und zweiten Gleichstromquellen an mindestens eine erste Anode angeschlossen sind.
Lichtbogen-Beschichtungsanlagen der beschriebenen Art sind im Grundsatz aus der US-A 37 93 179 bekannt. Über Weiterentwicklungen hat die Anmelderin in der VDI-Zeitschrift 129 (1987) Nr. 1, Seiten 89 bis 94 berichtet.
Um eine gute Haftfestigkeit der mittels des Lichtbogen- Beschichtungsverfahrens aufgebrachten Schichten (meist aus Zirkonnitrid) zu gewährleisten, wird vor dem eigentlichen Beschichtungsprozeß und nach außerhalb der Anlage durchgeführten, chemischen Reinigungsverfahren eine besonders intensive Reinigung der zur Beschichtung vorgesehenen Objekte (der sog. "Substrate") vorgenommen, indem die Substrate einem Bombardement mit Ionen ausgesetzt werden, die aus dem durch die Lichtbogenentladung hergestellten Plasma stammen. Dieses Ionenbombardement dient auch dazu, die Substrate auf eine für den Beschichtungsprozeß geeignete Temperatur zu erhitzen. Als nachteilig hat sich hierbei herausgestellt, daß insbesondere bei der Bearbeitung von Teilen mit ungleichmäßiger Massenverteilung und Geometrie es zu Überhitzungen oder Ätzungen einzelner Teile der Substrate kommen kann. Auch läßt sich nicht ganz vermeiden, daß auf der Oberfläche der Substrate (trotz der an sie angelegten hohen negativen Vorspannungen von bis zu 1000 V) Zwischenschichten einigermaßen undefinierter Zusammensetzung gebildet werden. Ferner besteht nach wie vor das Bestreben, den Einbau makroskopischer, nicht in den Plasmazustand überführter Teilchen des durch die Lichtbogenentladung verzehrten Materials (der sog. "Droplets") in die Schicht zu vermeiden, da deren Aussehen und Rauhigkeit hierdurch ungünstig beeinflußt werden.
Aufgabe der Erfindung ist eine Lichtbogen-Beschichtungsanlage der beschriebenen Art, in der die Ionenreinigung und Erwärmung der Substrate nicht direkt durch die Ionen des Plasmastrahles erfolgt, sondern durch eine Glimmentladung, die zu einem erhöhten Ionisationsgrad der in dieser Verfahrensphase verwendeten Gase führt.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt dadurch, daß eine zweite, von der ersten elektrisch isoliert angeordnete Anode vorhanden ist, die an eine dritte Gleichstromquelle angeschlossen ist, die sich auf einer höheren Spannung als die erste Gleichstromquelle befindet. Durch ihr positives Potential gegenüber dem Plasma wird aus diesem ein Teil der Plasmaelektronen abgesaugt und auf Energien beschleunigt, die der Potentialdifferenz zwischen dem Plasma und der zweiten Anode entsprechen. Je nach dem Ionisationsquerschnitt der verwendeten Gase führt dies zu einer Erhöhung des Ionisationsgrades in der Beschichtungskammer. Die Reinigung der Substrate und deren Erwärmung erfolgt nunmehr durch das Auftreffen der Gasionen auf dieselben, wobei die Bildung schädlicher Zwischenschichten ausgeschlossen wird.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung besteht die zweite Anode aus einem magnetischen Werkstoff. Hierdurch wird eine erhöhte Wirkung auf die Elektronen ausgeübt.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist die Wand der Beschichtungskammer als erste Anode geschaltet. Dies vereinfacht die Konstruktion.
Eine weitere Vereinfachung der Konstruktion wird durch ein zusätzliches Merkmal der Erfindung erreicht, indem die dritte Gleichstromquelle mit ihrem negativen Pol an die Kammer angeschlossen ist.
Lichtbogen-Beschichtungsanlagen der beschriebenen Art werden meistens, insbesondere wenn sie größere Abmessungen aufweisen, mit mehreren Kathoden (zugleich oder nacheinander) betrieben. In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist die zweite Anode in gleichem Abstand zu jeder der Kathoden angeordnet.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung weist die zweite Anode die Gestalt eines zumindest einseitig offenen, mit der offenen Seite auf die zu beschichtenden Teile gerichteten, über einen Steg an der Kammer befestigten Bügel auf. Diese Form hat sich als besonders günstig herausgestellt, um die gewünschte Beschleunigung der Elektronen aus dem Plasma zu erzielen.
Um die zu beschichtenden Teile davor zu bewahren, mit kleinen Teilchen des Kathodenmaterials, die nicht in den Plasmazustand überführt wurden, verunreinigt zu werden, sind entsprechend einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung zumindest für einen Teil der Kathoden zwischen zwei Endlagen hin- und herbeweglichen Schirme vorhanden, die in ihrer einen Endlage die direkte Sicht von der jeweiligen Kathode auf die zu beschichtenden Teile versperren und in ihrer anderen Endlage vollständig freigeben. Die erste der genannten Alternativen wird in den vorbereitenden Stadien des Prozesses, nämlich zur Ionenreinigung und zur Erwärmung der Substrate angewendet (wobei die Stromdichte der aus dem Plasmastrahl bei an die Substrate angelegter negativer Spanung extrahierten Ionen sehr stark abnimmt); die zweite Alternative demgegenüber wird während des eigentlichen Beschichtungsprozesses realisiert.
In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist eine durch einen ersten Schalter unterbrechbare elektrische Verbindung zwischen der dritten Gleichstromquelle und den zu beschichtenden Teilen vorhanden sowie ein die elektrische Verbindung zwischen der ersten Gleichstromquelle und den zu beschichtenden Teilen unterbrechender zweiter Schalter; ferner ein dritter Schalter, mit dem die elektrische Verbindung zwischen der dritten Gleichstromquelle und der zweiten Anode unterbrochen werden kann.
Eine derart ausgerüstete Lichtbogen-Beschichtungsanlage kann erfindungsgemäß auf vier verschiedene Arten betrieben werden: erstens zur Ionenreinigung der zu beschichtenden Teile, indem der erste Schalter geöffnet und der zweite und dritte Schalter geschlossen sind und die Schirme in ihrer die Sicht versperrenden (geschlossenen) Endlage; zweitens zur Aufheizung der zu beschichtenden Teile, indem der erste Schalter geschlossen und der zweite und dritte Schalter geöffnet sind, und die Schirme in der vorigen Lage verbleiben; drittens zur zusätzlichen Aufheizung der zweiten Anode, indem der erste und dritte Schalter geschlossen und der zweite Schalter geöffnet sind bei gleicher Endlage der Schirme; und viertens zur Beschichtung, indem der erste und dritte Schalter geöffnet und der zweite Schalter geschlossen sind, wobei die Schirme in ihre die Sicht freigebende (offene) Endlage geschwenkt werden.
Wird in diesem Betriebszustand in weiterer Ausgestaltung der Erfindung ein kohlenstoffhaltiges Gas in die Kammer eingelassen, gelangen infolge Plasmadekomposition Metall-Kohlenstoff-Schichten zur Abscheidung. Dabei kann der Metallgehalt dadurch reguliert werden, daß die Schirme mehr und mehr in ihre geschlossene Endlage geschwenkt werden, bis schließlich erfindungsgemäß reine Kohlenstoffschichten abgeschieden werden. Dadurch kann darauf verzichtet werden, Kohlenstoff-(Graphit-)Kathoden im Lichtbogen zu verdampfen, was wegen ihrer unvermeidlichen Porosität nur unter Schwierigkeiten möglich ist.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist schematisch in der Zeichnung dargestellt. Eine Lichtbogen-Beschichtungsanlage besteht zunächst aus einer Kammer 1, die mit Hilfe einer Pumpe 2, die über ein erstes Ventil 3 zuschaltbar ist, evakuiert werden kann. Anschließend kann über eine Einlaßleitung 4, die durch ein zweites Ventil 5 absperrbar ist, aus Speichern 6 (hier nur einer dargestellt) eines der verschiedenen im Prozeß verwendeten, z. B. auch kohlenstoffhaltigen Gase eingefüllt werden; dicht in die Wand der Kammer 1 eingelassen sind Verdampfer 7, die in Bezug auf erste Gleichstromquellen 8 als Kathode geschaltet sind und aus einem oder mehreren der zu verdampfenden und in die Beschichtung eingehenden Metalle, z. B. Titan, bestehen. Wird mittels hier nicht gezeigter Mittel zwischen den Verdampfern 7 und der als Anode geschalteten Wand der Kammer 1 eine Lichtbogenentladung gezündet, wird dieses Material verdampft und zum größten Teil in den Plasmazustand überführt; es kann dann mit dem die Kammer füllenden Prozeßgas, z. B. Stickstoff oder Azetylen, zu z. B. Titannitrid oder Titankarbid reagieren, das sich auf den zu beschichtenden Gegenständen 9, z. B. Werkzeugen für die spanende Formgebung niederschlägt. Diese Gegenstände sind auf Haltevorrichtung 10 angebracht, die mittels einer hier nicht gezeigten Einrichtung in Drehung versetzt werden können, um eine allseits gleichmäßige Beschichtung zu erzielen.
Die Teile 9 sind dabei mittels eines zweiten Schalters 16 als Kathode einer zweiten Gleichstromquelle 11 schaltbar; während die ersten Gleichstromquellen bevorzugt bei einer Spannung bis zu 40 V und Strömen bis zu 300 A betrieben werden, liefert die zweite Gleichstromquelle 11 Spannungen bis zu 1500 V und Ströme bis zu 20 A. Hierdurch wird erreicht, daß sich der durch Reaktion in der Plasmaphase gebildete Beschichtungsstoff bevorzugt auf den Teilen 9 und nur zu einem geringeren Teil an unerwünschten Stellen, z. B. der Wand der Kammer 1, niederschlägt.
Vor der Einleitung der eigentlichen Beschichtungsphase ist jedoch ein Aufheizen der Teile 9 auf Prozeßtemperatur (etwa 200 bis 500°C) erforderlich sowie eine Reinigung der Oberfläche der Teile 9, z. B. von Oxidhäuten, die sich an der Luft gebildet haben. Bei der an sich möglichen Durchführung dieses Bearbeitungsschrittes mittels eines direkten Bombardements der Teile 9 mit den Ionen aus dem Plasma, das sich durch die Lichtbogenentladung gebildet hat, empfiehlt es sich stattdessen, die Teile 9 vor der direkten Wirkung der Verdampfer 7 abzuschirmen, indem in die Sichtlinie der beiden Teile drehbar angeordnete Schirme 12 eingeschwenkt werden (in der rechten Hälfte der Zeichnung dargestellt, während in der linken Hälfte die Stellung eines Schirms 12 während der eigentlichen Beschichtung dargestellt ist). Zusätzlich ist eine zweite, bügelförmige Anode 13 vorgesehen, die in etwa gleichem Abstand zu den verschiedenen Verdampfern 7 angeordnet und mittels eines dritten Schalters 17 als Anode an eine dritte Gleichstromquelle 14 geschaltet werden kann; diese liefert Spannungen von bis zu 100 V bei Strömen bis zu 300 A. Die dritte Gleichstromquelle 14 ist über einen ersten Schalter 15 auch mit den zu beschichtenden Teilen 9 verbindbar. Diese zweite Anode 13 verstärkt den Ionisationsgrad in der Kammer 1 und beschleunigt die Ionen des Plasmas in Richtung auf die Teile 9, die auf diese Weise einer schonenden Reinigung und Erwärmung unterzogen werden. Dadurch, daß sowohl die Kammer 1 als auch die jeweils freien Pole der verschiedenen Gleichstromquellen 8, 11, 14 an Erde gelegt sind, sind sie elektrisch zu einem Gesamtsystem verbunden, bei dem lediglich die dritte Gleichstromquelle 14 mit ihrer Kathode an Erde, die übrigen Gleichstromquellen dagegen mit ihrer Anode an Erde gelegt sind.
Für die verschiedenen Prozeßphasen ergeben sich die folgenden Schalter- und Schirmstellungen:

Claims (15)

1. Lichtbogen-Beschichtungsanlage mit
  • a) einer evakuierbaren, gegebenenfalls kontrolliert mit einem Reaktions- oder Inertgas füllbaren, die zu beschichtenden Teile (9) enthaltenden Kammer (1),
  • b) in der Kammer (1) elektrisch isoliert von dieser angeordneten, durch den Lichtbogen verzehrbaren Kathoden (7), die an erste Gleichstromquellen (8) angeschlossen sind,
  • c) eine zweite auf einer höheren Spannung als die erste befindliche Gleichstromquelle (11), an deren negativem Pol die elektrisch isoliert von der Kammer (1) angeordneten, zu beschichtenden Teile (9) angeschlossen sind, wobei
  • d) die positiven Pole der ersten und zweiten Gleichstromquellen mindestens an eine erste Anode angeschlossen sind,
dadurch gekennzeichnet, daß
  • e) eine zweite, von der ersten elektrisch isoliert angeordnete Anode (13) vorhanden ist, die an eine dritte Gleichstromquelle (14) angeschlossen ist, die sich auf einer höheren Spannung als die erste Gleichstromquelle befindet.
2. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Anode (13) aus einem magnetischen Werkstoff besteht.
3. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wand der Kammer (1) als erste Anode geschaltet ist.
4. Lichtbogen-Beschichtunganlage nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Gleichstromquelle (14) mit ihrem negativen Pol an die Kammer (1) angeschlossen ist.
5. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4 mit mehreren Kathoden 7, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Anode (13) in gleichem Abstand zu jeder der Kathoden angeordnet ist.
6. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Anode (13) die Gestalt eines zumindest einseitig offenen, mit der offenen Seite auf die zu beschichtenden Teile (9) gerichteten, über einen Steg an der Kammer (1) befestigten Bügels hat.
7. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest für einen Teil der Kathoden (7) zwischen zwei Endlagen hin und her bewegliche Schirme (12) vorhanden sind, die in ihrer einen Endlage die direkte Sicht von der jeweiligen Kathode (7) auf die zu beschichtenden Teile (9) versperren und in ihrer anderen Endlage vollständig freigeben.
8. Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
  • a) eine durch einen ersten Schalter (15) unterbrechbare elektrische Verbindung zwischen der dritten Gleichstromquelle (14) und den zu beschichtenden Teilen (9) vorhanden ist,
  • b) die elektrische Verbindung zwischen der ersten Gleichstromquelle (11) und den zu beschichtenden Teilen (9) durch einen zweiten Schalter (16) unterbrechbar ist,
  • c) die elektrische Verbindung zwischen der dritten Gleichstromquelle (14) und der zweiten Anode (13) durch einen dritten Schalter (17) unterbrechbar ist.
9. Verfahren zum Betrieb einer Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 7 und 8 zum Zweck der Ionenreinigung der zu beschichtenden Teile (9), dadurch gekennzeichnet, daß der erste Schalter (15) geöffnet und der zweite und dritte Schalter (16, 17) geschlossen sowie die Schirme (12) in ihrer die Sicht versperrenden Endlage sind.
10. Verfahren zum Betrieb einer Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 7 und 8 zum Zweck des Aufheizens der zu beschichtenden Teile (9), dadurch gekennzeichnet, daß der erste Schalter (15) geschlossen und der zweite und dritte Schalter (16, 17) geöffnet sind sowie die Schirme (12) in ihrer die Sicht versperrende Endlage.
11. Verfahren zum Betrieb einer Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 7 und 8 zum Zweck des Aufheizens der zu beschichtenden Teile (9) und der zweiten Anode (13), dadurch gekennzeichnet, daß der erste und dritte Schalter (15, 17) geschlossen und der zweite Schalter (16) geöffnet sind sowie die Schirme (12) in ihrer die Sicht versperrenden Endlage.
12. Verfahren zum Betrieb einer Lichtbogen-Beschichtungsanlage nach Anspruch 7 und 8 zum Zweck des Beschichtens der Teile (9), dadurch gekennzeichnet, daß der erste und dritte Schalter (15, 17) geschlossen und der zweite Schalter (16) geöffnet sind, sowie die Schirme (12) in ihrer die Sicht freigebenden Endlage.
13. Verfahren nach Anspruch 12 zum Zweck des Beschichtens mit einer Metall-Kohlenstoff-Mischschicht, dadurch gekennzeichnet, daß metallische Kathoden (7) verwendet werden und ein kohlenstoffhaltiges Gas in die Kammer (1) zugelassen wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13 zum Zweck des Beschichtens mit einer reinen Kohlenstoffschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Schirme (9) sich in ihrer die Sicht versperrenden Endlage befinden.
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