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DE102005045228A1 - Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie silangruppenhaltige, härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester - Google Patents

Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie silangruppenhaltige, härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester Download PDF

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DE102005045228A1
DE102005045228A1 DE102005045228A DE102005045228A DE102005045228A1 DE 102005045228 A1 DE102005045228 A1 DE 102005045228A1 DE 102005045228 A DE102005045228 A DE 102005045228A DE 102005045228 A DE102005045228 A DE 102005045228A DE 102005045228 A1 DE102005045228 A1 DE 102005045228A1
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DE
Germany
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group
atom
general formula
diesters
mixtures according
Prior art date
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Ceased
Application number
DE102005045228A
Other languages
English (en)
Inventor
Andreas Dr. Poppe
Elke Westhoff
Simone Hesener
Manuela Niemeier
Wilfried STÜBBE
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Coatings GmbH
Original Assignee
BASF Coatings GmbH
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Publication date
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Priority to AT06792027T priority patent/ATE432317T1/de
Priority to EP06792027A priority patent/EP1926771B1/de
Priority to KR1020087009469A priority patent/KR101320004B1/ko
Priority to PCT/EP2006/008908 priority patent/WO2007033786A1/de
Priority to US12/067,683 priority patent/US8013099B2/en
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/53Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
    • C08K5/5317Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
    • C08K5/5333Esters of phosphonic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
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    • C08G18/08Processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/38Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
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Abstract

Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern (A) in silangruppenhaltigen Gemischen, silangruppenhaltige Gemische, die DOLLAR A (A) mindestens einen Phosphonsäurediester und/oder mindestens einen Diphosphonsäurediester und DOLLAR A (B) mindestens eine Verbindung, enthaltend mindestens zwei kondensierbare Silangruppen, DOLLAR A enthalten, sowie die Verwendung der silangruppenhaltigen Gemische zur Herstellung gehärteter Materialien, insbesondere Beschichtungen.

Description

  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung betrifft die neue Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern als Bestandteil von silangruppenhaltigen Gemischen. Außerdem betrifft die vorliegende Erfindung neue, silangruppenhaltige, härtbare Gemische, die Phosphonsäurediester und die Phosphonsäurediester als Bestandteil enthalten.
  • Phosphonsäurediester sind Ester der Phosphonsäure [HP(O)(OH)2], die mit der Phosphorigen Säure [P(OH)3] tautomer ist. Die Phosphonsäurediester werden häufig nicht ganz korrekt auch als sekundäre Phosphite bezeichnet. Indes sind die echten Derivate der Phosphorigen Säure nur die Triester.
  • Diphosphonsäurediester sind die Diester der Diphosphonsäure: (HO)(O)PH-O-PH(O)(OH), die früher auch als Diphosphorige Säure, bezeichnet wurde.
    (vgl. hierzu Römpp Lexikon der Chemie, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, New York, 1990, »Phosphite«, »Phosphonate«, »Phosphonsäure«, »Diethylphosphit« und »Dimethylphosphit«).
  • Silangruppenhaltige, wasserfreie, thermisch härtbare Gemische, insbesondere Beschichtungsstoffe, die durch Polykondensation über die Silangruppen vernetzen können, sind aus der internationalen Patentanmeldung WO 2004/072189 A2 oder den europäischen Patentanmeldungen EP 0 267 689 A2 und EP 1 193 278 A1 bekannt.
  • Die bekannten, silangruppenhaltigen, wasserfreien, thermisch härtbaren Gemische enthalten gegebenenfalls mit Aminen blockierte saure Phosphorsäureester, gegebenenfalls mit Aminen blockierte Sulfonsäuren, organische Zinnverbindungen, wie Dibutylzinndilaurat, Dibutylzinndiacetat, Zinnoctoat oder Dibutylzinnoxid, Amine, wie Triethylamin, Tetramethylguanidin oder Triethylendiamin, sowie Titan-, Zinn(II)-, Zink- oder Bismutverbindungen als Katalysatoren der thermischen Härtung.
  • Jeder dieser Katalysatoren weist aber spezifischer Nachteile auf.
  • So zeigen die stark sauren Katalysatoren unerwünscht starke Wechselwirkungen mit üblichen und bekannten Lichtschutzmitteln, wie sie in thermisch härtbaren Gemischen, insbesondere Beschichtungsstoffen, verwendet werden. Außerdem können sie die Lagerstabilität der bekannten, silangruppenhaltigen, wasserfreien, thermisch härtbaren Gemische soweit erniedrigen, dass letztere vorzeitig gelieren.
  • Die metallhaltigen Katalysatoren und die Aminkatalysatoren führen häufig zu Vergilbungen, was sich insbesondere bei Klarlackierungen störend bemerkbar macht, die aus den bekannten, silangruppenhaltigen, wasserfreien, thermisch härtbaren Gemischen hergestellt worden sind.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neue Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern zu finden und so deren Verwendbarkeit zu verbreitern, um die Technik zu bereichern.
  • Außerdem liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, neue silangruppenhaltige Gemische zu finden, die Phosphonsäurediester und/oder Diphosphonsäurediester enthalten.
  • Die neuen silangruppenhaltigen Gemische sollen sich einfach herstellen lassen auch bei Temperaturen oberhalb der Raumtemperatur, beispielsweise bei 40°C, für längere Zeit, mindestens aber vier Wochen, lagerstabil sein. Vorzugsweise sollen sie jedoch so reaktiv sein, dass sie auch unter den Bedingungen der Automobilserienlackierung (OEM) problemlos und rasch gehärtet werden können, beispielsweise bei 100 bis 160°C während 10 bis 60 Minuten.
  • Nicht zuletzt sollen die neuen, silangruppenhaltigen Gemische, insbesondere die Beschichtungsstoffe, thermisch gehärtete Materialien, insbesondere Beschichtungen, liefern, die besonders hart, abriebfest, hoch kratzfest, besonders chemikalienbeständig und etchbeständig sowie als Klarlackierungen besonders hochglänzend und klar sind.
  • Lösung
  • Demgemäß wurde die neue Verwendung von Phosphonsäurediestern und/oder Diphosphonsäurediestern (A) in silangruppenhaltigen Gemischen gefunden, was im Folgenden als »erfindungsgemäße Verwendung« bezeichnet wird.
  • Außerdem wurden die neuen silangruppenhaltigen Gemische gefunden, die
    • (A) mindestens einen Phosphonsäurediester und/oder mindestens einen Diphosphonsäurediester und
    • (B) mindestens eine Verbindung, enthaltend mindestens zwei kondensierbare Silangruppen,
    enthalten und die im Folgenden als »erfindungsgemäße Gemische« bezeichnet werden.
  • Weitere Erfindungsgegenstände gehen aus der Beschreibung hervor.
  • Vorteile der Erfindung
  • Im Hinblick auf den Stand der Technik war es überraschend und für den Fachmann nicht vorhersehbar, dass die Aufgabe, die der vorliegenden Erfindung zugrunde lag, mit Hilfe der erfindungsgemäßen Verwendung und der erfindungsgemäßen Gemische gelöst werden konnte.
  • Insbesondere war es überraschend, dass die erfindungsgemäße Verwendung die Anwendungsmöglichkeiten von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern (A) außerordentlich verbreiterte, wodurch die Technik bereichert wurde.
  • Insbesondere gestattete die erfindungsgemäße Verwendung die Bereitstellung neuartiger, härtbarer, insbesondere thermisch härtbarer Gemische, die sich durch die Polykondensation von kondensierbaren Silangruppen härten ließen.
  • Außerdem war es überraschend, dass aufgrund der erfindungsgemäßen Verwendung die Polykondensation von Silangruppen enthaltenden Verbindungen besonders rasch und problemlos ablief.
  • Die erfindungsgemäßen Gemische ließen sich einfach herstellen und waren auch bei Temperaturen oberhalb der Raumtemperatur, beispielsweise bei 40°C, für längere Zeit, mindestens aber vier Wochen, lagerstabil. Dennoch waren sie so reaktiv, dass sie auch unter den Bedingungen der Automobilserienlackierung (OEM) problemlos und rasch gehärtet werden konnten, beispielsweise bei 100 bis 160°C während 10 bis 60 Minuten.
  • Nicht zuletzt war es überraschend, dass die erfindungsgemäßen Gemische neue thermisch gehärtete Gemische, insbesondere neue Beschichtungen, lieferten, die besonders hart, besonders abriebfest, hoch kratzfest, besonders chemikalienbeständig und etchbeständig sowie als Klarlackierungen besonders hochglänzend und klar waren.
  • Ausführliche Beschreibung der Erfindung
  • Erfindungsgemäß werden die Phosphonsäurediester (A) als Bestandteil von silangruppenhaltigen Gemischen verwendet.
  • Für die erfindungsgemäße Verwendung werden die Phosphonsäurediester und die Diphosphonsäurediester (A) vorzugsweise aus der Gruppe, bestehend aus acyclischen Phosphonsäurediestern, cyclischen Phosphonsäurediestern, acyclischen Diphosphonsäurediestern und cyclischen Diphosphonsäurediestern, ausgewählt.
  • Bevorzugt werden die acyclischen Phosphonsäurediester (A) aus der Gruppe, bestehend aus acyclischen Phosphonsäurediestern (A) der allgemeinen Formel I:
    Figure 00040001
    ausgewählt.
  • In der allgemeinen Formel I sind die Reste R1 und R2 gleich oder voneinander verschieden; vorzugsweise sind sie gleich.
  • Die Reste R1 und R2 werden aus der Gruppe, bestehend aus:
    • – substituiertem und unsubstituiertem Alkyl- mit 1 bis 20, vorzugsweise 2 bis 16 und insbesondere 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- mit 3 bis 20, vorzugsweise 3 bis 16 und insbesondere 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und Aryl- mit 5 bis 20, vorzugsweise 6 bis 14 und insbesondere 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R1 oder R2 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert;
    • – substituiertem und unsubstituiertem Alkylaryl-, Arylalkyl-, Alkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Arylcycloalkyl-, Cycloalkylaryl-, Alkylcycloalkylaryl-, Alkylarylcycloalkyl-, Arylcycloalkylalkyl-, Arylalkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkylaryl- und Cycloalkylarylalkyl-, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten und wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R1 und R2 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; und
    • – substituiertem und unsubstituiertem Rest- der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein, insbesondere ein, Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom, Schwefelatom und Stickstoffatom, wobei der Strich die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert;
    ausgewählt.
  • Bevorzugt werden die cyclischen Phosphonsäurediester (A) aus der Gruppe, bestehend aus den cyclischen Phosphonsäurediestern (A) der allgemeinen Formel II:
    Figure 00050001
    ausgewählt.
  • In der allgemeinen Formel II sind die Reste R3 und R4 gleich oder voneinander verschieden; vorzugsweise sind sie gleich.
  • Die Reste R3 und R4 werden aus der Gruppe, bestehend aus:
    • – substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Alkyl- mit 1 bis 20, vorzugsweise 1 bis 10 und insbesondere 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- mit 3 bis 20, vorzugsweise 3 bis 10 und insbesondere 3 bis 6 Kohlenstoffatomen und Aryl- mit 5 bis 20, vorzugsweise 6 bis 14 und insbesondere 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R3 oder R4 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert;
    • – substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Alkylaryl-, Arylalkyl-, Alkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Arylcycloalkyl-, Cycloalkylaryl-, Alkylcycloalkylaryl-, Alkylarylcycloalkyl-, Arylcycloalkylalkyl-, Arylalkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkylaryl- und Cycloalkylarylalkyl-, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten und wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R3 und R4 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; und
    • – substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Rest- der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein, insbesondere ein, Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, wobei der Strich die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert;
    ausgewählt.
  • In der allgemeinen Formel II steht die Variable Z für
    • – eine kovalente Bindung zwischen einem Atom des Rests R3 und einem Atom des Rests R4;
    • – eine zweibindige, verküpfende Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, substituiertem, insbesondere mit Sauerstoff substituiertem, und unsubstituiertem Schwefelatom, substituiertem, insbesondere mit Alkyl substitiuiertem, Stickstoffatom, substituiertem, insbesondere mit Sauerstoff substituiertem, Phosphoratom und substituiertem, insbesondere mit Alkyl und Alkoxy substituiertem Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom; oder
    • – eine zweibindige, verküpfende Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus substituiertem und unsubstituiertem, mindestens ein Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom, Schwefelatom und Stickstoffatom, enthaltendem oder von Heteroatomen freiem Alkyl mit 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 6 und insbesondere 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl mit 3 bis 10, vorzugsweise 3 bis 6 und insbesondere 6 Kohlenstoffatomen und Aryl mit 5 bis 10 und insbesondere 6 Kohlenstoffatomen.
  • Bevorzugt werden die acyclischen Diphosphonsäurediester (A) aus der Gruppe, bestehend aus den acyclischen Diphosphonsäurediestern (A) der allgemeinen Formel III: (R1-O)(O)PH-O-PH(O)(O-R2) (III);worin die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, ausgewählt.
  • Bevorzugt werden die cyclischen Diphosphonsäurediester (A) aus der Gruppe, bestehend aus den cyclischen Diphosphonsäurediestern (A) der allgemeinen Formel IV:
    Figure 00070001
    worin die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, ausgewählt.
  • Als Substituenten für die Reste R1, R2, R3 und R4 kommen alle Gruppen und Atome in Betracht, die die Wirkung der Phosphonsäurediester und der Diphosphonsäurediester (A) nicht beeinträchtigen, die Härtungsreaktionen in den erfindungsgemäßen Gemischen nicht inhibieren, nicht zu unerwünschten Nebenreaktionen führen und keine toxische Wirkung hervorrufen. Beispiele geeigneter Substituenten sind Halogenatome, Nitrilgruppen oder Nitrogruppen, bevorzugt Halogenatome, insbesondere Fluoratome, Chloratome und Bromatome.
  • Vorzugsweise sind die Reste R3, R4, R3 und R4 unsubstituiert.
  • Bevorzugt werden die Reste R1 und R2 aus der Gruppe, bestehend aus Phenyl, Methyl und Ethyl, ausgewählt. Besonders bevorzugt wird Phenyl verwendet.
  • Bevorzugt werden die acyclischen Phosphonsäurediester (A) der allgemeinen Formel I verwendet.
  • Besonders bevorzugt werden die Reste R1 und R2 der acyclischen Phosphonsäurediester (A) der allgemeinen Formel I aus der Gruppe, bestehend aus Phenyl, Methyl und Ethyl, ausgewählt. Insbesondere wird Phenyl verwendet.
  • Ein Beispiel für einen ganzen besonders gut geeigneten Phosphonsäurediester (A) der allgemeinen Formel I ist Diphenylphosphonat, das manchmal von der Fachwelt (nicht ganz korrekt) auch als Diphenylphosphit bezeichnet wird.
  • Als silangruppenhaltige Gemische im Sinne der Erfindung kommen insbesondere organische, silangruppenhaltige Gemische in Betracht. Die Silangruppen der Gemische können mit monomeren, oligomeren oder polymeren Grundstrukturen verknüpft sein. Die Silangruppen können insbesondere als Siloxangruppen auch selbst die Bausteine der Grundstrukturen bilden. Sie können außerdem reaktionsträge oder inert sein. Vorzugsweise sind sie reaktionsfähig, insbesondere im Sinne von Hydrolyse- und/oder Kondensationsreaktionen.
  • Ein besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Verwendung ist, dass die Phosphonsäurediester (A) ihre hervorragenden Wirkungen in silangruppenhaltigen Gemischen bereits in vergleichsweise geringen Mengen entfalten.
  • Die erfindungsgemäßen Gemische enthalten obligatorisch,
    • (A) mindestens einen, insbesondere einen, der vorstehend beschriebenen Phosphonsäurediester und
    • (B) mindestens eine, insbesondere eine, Verbindung, enthaltend mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, kondensierbare Silangruppen.
  • Darüber hinaus können sie noch mindestens einen weiteren Bestandteil (C) enthalten.
  • In einer gegebenen Verbindung (B) ist eine Grundstruktur mit mindestens zwei, insbesondere mindestens drei, kondensierbaren Silangruppen verknüpft.
  • Vorzugsweise haben die kondensierbare Silangruppen die allgemeine Formel V: -SiR5 mR6 3-m (V),worin der Index und die Variablen die folgende Bedeutung haben:
    m ganze Zahl von 1 bis 3, insbesondere 3;
    R5 einbindiges, kondensierbares Atom oder einbindiger, kondensierbarer, organischer Rest;
    R6 einbindiger, inerter, organischer Rest.
  • Vorzugsweise werden die einbindigen, kondensierbaren Atome aus der Gruppe, bestehend aus Wasserstoffatomen, Fluoratomen, Chloratomen und Bromatomen, ausgewählt.
  • Vorzugsweise werden die einbindigen, kondensierbaren, organischen Reste R5 aus der Gruppe, bestehend aus Hydroxylgruppen und den Gruppen der allgemeinen Formel VI: -R7-R6 (VI),worin die Variable R7 für ein zweibindiges, verküpfendes Atom oder eine zweibindige, verknüpfende, funktionelle Gruppe steht und R6 die vorstehend angegebene Bedeutung hat.
  • Vorzugsweise werden die einbindigen, inerten, organischen Reste R6 aus der Gruppe, bestehend aus
    • – einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkyl vorzugsweise mit 1 bis 20, bevorzugt 2 bis 16 und insbesondere 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- vorzugsweise mit 3 bis 20, bevorzugt 3 bis 16 und insbesondere 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und Aryl- vorzugsweise mit 5 bis 20, bevorzugt 6 bis 14 und insbesondere 6 bis 10 Kohlenstoffatomen;
    • – einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkylaryl, Arylalkyl, Alkylcycloalkyl, Cycloalkylalkyl, Arylcycloalkyl, Cycloalkylaryl, Alkylcycloalkylaryl, Alkylarylcycloalkyl, Arylcycloalkylalkyl, Arylalkylcycloalkyl, Cycloalkylalkylaryl und Cycloalkylarylalkyl, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen vorzugsweise jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten; und
    • – einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Rest der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein, insbesondere ein, Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom, Schwefelatom und Stickstoffatom;
    wobei die vorstehend beschriebenen Substituenten in Betracht kommen, ausgewählt.
  • Bevorzugt werden die zweibindigen, verküpfenden Atome R7 aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatomen und Schwefelatomen, insbesondere Sauerstoffatomen, ausgewählt.
  • Bevorzugt werden die zweibindigen, verküpfenden, funktionellen Gruppen R7 aus der Gruppe, bestehend aus -C(=R8)-, -R7-C(=R8)-, -C(=R8)-R7-, -NH- und -N(-R6)-, ausgewählt, worin die Variable R8 für ein zweibindiges Atom steht, worin die Variable R7 die vorstehend angegebene Bedeutung hat und insbesondere für ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom steht und die Variable R6 die vorstehend angegebene Bedeutung hat und wobei "=" eine Doppelbindung symbolisiert und die durch den linken äußeren Ergänzungsstrich symbolisierte kovalente Bindung die Gruppe der allgemeinen Formel VI mit dem Siliziumatom der Gruppe der allgemeinen Formel V verknüpft.
  • Insbesondere werden die zweibindigen Atome R8 aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatomen und Schwefelatomen, insbesondere Sauerstoffatomen, ausgewählt.
  • Ganz besonders bevorzugt werden die zweibindigen, verküpfenden Atome R7 verwendet.
  • Insbesondere werden die Silangruppen der allgemeinen Formel V aus der Gruppe, bestehend aus Trimethoxysilyl- und Triethoxysilyl-Gruppen, ausgewählt.
  • Die Verbindungen (B) können monomer, oligomer oder polymer aufgebaut sein, d. h., sie können eine monomere, eine oligomere oder eine polymere Grundstruktur aufweisen.
  • »Monomer« bedeutet, dass die betreffende Verbindung (B) bzw. ihre Grundstruktur im Wesentlichen aus einer Struktureinheit oder aus zwei Struktureinheiten, die gleich oder voneinander verschieden sein können, aufgebaut ist.
  • »Oligomer« bedeutet, dass die betreffende Verbindung (B) bzw. ihre Grundstruktur im statistischen Mittel aus 3 bis 12 monomeren Struktureinheiten, die gleich oder voneinander verschieden sein können, aufgebaut ist.
  • »Polymer« bedeutet, dass die betreffende Verbindung (B) bzw. ihre Grundstruktur im statistischen Mittel aus mindestens 8 monomeren Struktureinheiten, die gleich oder voneinander verschieden sein können, aufgebaut ist.
  • Ob eine Verbindung (B) bzw. ihre Grundstruktur, die im statistischen Mittel aus 8 bis 12 monomeren Struktureinheiten aufgebaut ist, vom Fachmann als Oligomer oder als Polymer angesehen wird, richtet sich insbesondere nach dem zahlenmittleren und massenmittleren Molekulargewicht einer solchen Verbindung (B) oder Grundstruktur. Sind die Molekulargewichte vergleichsweise hoch, wird man von einem Polymeren sprechen, sind sie vergleichsweise niedrig, von einem Oligomeren.
  • Die monomeren Grundstrukturen der Verbindungen (B) leiten sich von üblichen und bekannten, niedermolekularen, organischen Verbindungen ab.
  • Die oligomeren und polymeren Grundstrukturen der Verbindungen (B) leiten sich vorzugsweise von den üblichen und bekannten, organischen und metallorganischen Oligomeren und Polymeren ab. Diese können die unterschiedlichsten Strukturen haben. Beispielsweise können sie linear, sternförmig, kammförmig oder unregelmäßig verzweigt, dendrimer oder ringförmig sein, wobei mehr als eine dieser Strukturen in einer Verbindung (B) vorliegen kann. Dabei können die Strukturen eine statistische und/oder blockförmige Verteilung der monomeren Struktureinheiten aufweisen.
  • Bevorzugt leiten sich die oligomeren und polymeren Grundstrukturen der Verbindungen (B) von den üblichen und bekannten, durch radikalische, anionische oder kationische Polymerisation olefinisch oder acetylenisch, vorzugsweise olefinisch, ungesättigter Monomere herstellbaren Oligomeren und Polymeren, durch Polykondensation herstellbaren Oligomeren und Polymeren oder durch Polyaddition herstellbaren Oligomeren und Polymeren ab.
  • Besonders bevorzugt leiten sich die oligomeren und polymeren Grundstrukturen der Verbindungen (B) von den üblichen und bekannten Polyolefinen, Polystyrolen, Polyacrylnitrilen, (Meth)Acrylat(co)polymerisaten, Polyestern, Polyamiden, Polyphenylenoxiden und Polyurethanen ab.
  • Besonders bevorzugt enthalten die Grundstrukturen der Verbindungen (B) mindestens eine Gruppe und insbesondere mindestens zwei Gruppen, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus den Gruppen der allgemeinen Formeln (VII 1), (VII 2) und (VII 3): -R10-R11-R12- (VII 1), -R10-R11-R12= (VII 2) und -R10-R11-R12< (VII 3),worin die Variablen R10, R11 und R12 die nachstehend bei der allgemeinen Formel VII im Detail erläuterte Bedeutung haben.
  • Ganz besonders bevorzugt haben die Verbindungen (B) die allgemeinen Formel VII: R9{-R10-R11-R12[-R13]n[-R14(-R15)o]p}q (VII),worin die Indizes und die Variablen die folgende Bedeutung haben:
    n 0 oder 1;
    o 1, 2 oder 3;
    p 1 oder 2;
    q ganze Zahl von 1 bis 10, mit der Maßgabe, dass o = 2 oder 3 und/oder p = 2, wenn q = 1;
    R9 mindestens einbindiger, vorzugsweise mindestens zweibindiger und insbesondere mindestens dreibindiger, inerter, organischer Rest mit der Maßgabe dass o = 2 oder 3 und/oder p = 2, wenn R9 = einbindiger, organischer Rest;
    R10 in der ersten Alternative = Gruppe -NH-, mit der Maßgabe, dass
    • (i) die Gruppen R12 über die durch die linken äußeren Ergänzungsstriche symbolisierten kovalenten Bindungen mit dem Kohlenstoffatom der Gruppe R11 verknüpft sind und durch die durch die rechten äußeren Ergänzungsstriche, durch "<" oder durch "=" symbolisierten kovalenten Bindungen mit den Resten R14 oder R14 und R13 verknüpft sind;
    oder
    in der zweiten Alternative = Gruppen R12, mit den Maßgaben, dass
    • (ii) die mit R14 direkt verknüpfte Gruppe R12 = -NH- und
    • (iii) die Gruppen R12 über die durch die linken äußeren Ergänzungsstriche symbolisierten kovalenten Bindungen mit dem Kohlenstoffatom der Gruppe R11 verknüpft sind und durch die durch die rechten äußeren Ergänzungsstriche, durch "<" oder durch "=" symbolisierten kovalenten Bindungen mit den Resten R9 verknüpft sind;
    R11 Gruppe -C(=R8)-, worin "=R8" die vorstehend angegebene Bedeutung hat;
    R12 zweibindiges oder dreibindiges Atom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus zweibindigen, verküpfenden Atomen R7 und dreibindigen Stickstoffatomen -N< und -N=, worin "=" eine Doppelbindung symbolisiert; oder
    zweibindige oder dreibindige, verküpfende, funktionelle Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus -NH-, -N(-R6)- -NH-C(=R8)-, -NH[-C(=R8)-]2, -NH-C(=R8)-NH-, -NH-C(=R8)-R7-, -NH-C(=R8)-NH-C(=R8)-R7-, -R7-N=, -R7-NH-C(=R8)- und -NH-C(=R8)-NH-N=C<, worin "=R8", R7 und R6 die vorstehend angegebene Bedeutung haben;
    R13 einbindiger, inerter, organischer Rest R6 oder Gruppe der allgemeinen Formel VIII: -R14(-R15)o (VIII),worin der Index o die vorstehend angegebene Bedeutung hat und die Reste R14 und R15 die nachstehend angegebene Bedeutung haben;
    R14 mindestens zweibindiger, inerter, organischer Rest;
    R15 Silangruppe der allgemeinen Formel V.
  • Vorzugsweise werden die mindestens einbindigen Reste R9 aus der Gruppe, bestehend aus
    • – mindestens einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkyl vorzugsweise mit 1 bis 20, bevorzugt 2 bis 16 und insbesondere 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- vorzugsweise mit 3 bis 20, bevorzugt 3 bis 16 und insbesondere 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und Aryl- vorzugsweise mit 5 bis 20, bevorzugt 6 bis 14 und insbesondere 6 bis 10 Kohlenstoffatomen;
    • – mindestens einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkylaryl, Arylalkyl, Alkylcycloalkyl, Cycloalkylalkyl, Arylcycloalkyl, Cycloalkylaryl, Alkylcycloalkylaryl, Alkylarylcycloalkyl, Arylcycloalkylalkyl, Arylalkylcycloalkyl, Cycloalkylalkylaryl und Cycloalkylarylalkyl, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen vorzugsweise jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten; und
    • – mindestens einbindigem, substituiertem und unsubstituiertem Rest der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein, insbesondere ein, Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom, Schwefelatom und Stickstoffatom;
    wobei die vorstehend beschriebenen Substituenten in Betracht kommen, ausgewählt.
  • Vorzugsweise ist der Rest R10 eine -NH-Gruppe (= erste Alternative).
  • Vorzugsweise ist der Rest R11 eine -C(=O)-Gruppe.
  • Vorzugsweise werden die Reste R12 aus der Gruppe, bestehend aus dreibindigen Stickstoffatomen -N< und zweibindigen, verküpfenden, funktionellen Gruppen -N(-R6)-, worin die Variable R6 die vorstehend angegebene Bedeutung, bevorzugt Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, n-Butyl, Isobutyl, sec.-Butyl und tert.-Butyl, insbesondere n-Butyl, hat, ausgewählt.
  • Bevorzugt sind die Reste R12 über die durch die linken äußeren Ergänzungsstriche symbolisierten kovalenten Bindungen mit dem Kohlenstoffatom der Gruppe R11 verknüpft und durch die durch die rechten äußeren Ergänzungsstriche oder durch "<" symbolisierten kovalenten Bindungen mit den Resten R14 oder R14 und R13 verknüpft (= erste Alternative).
  • Vorzugsweise werden die mindestens zweibindigen, insbesondere zweibindigen, Reste R14 aus der Gruppe, bestehend aus
    • – mindestens zweibindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkyl vorzugsweise mit 1 bis 20, bevorzugt 2 bis 16 und insbesondere 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- vorzugsweise mit 3 bis 20, bevorzugt 3 bis 16 und insbesondere 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und Aryl- vorzugsweise mit 5 bis 20, bevorzugt 6 bis 14 und insbesondere 6 bis 10 Kohlenstoffatomen;
    • – mindestens zweibindigem, substituiertem und unsubstituiertem Alkylaryl, Arylalkyl, Alkylcycloalkyl, Cycloalkylalkyl, Arylcycloalkyl, Cycloalkylaryl, Alkylcycloalkylaryl, Alkylarylcycloalkyl, Arylcycloalkylalkyl, Arylalkylcycloalkyl, Cycloalkylalkylaryl und Cycloalkylarylalkyl, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen vorzugsweise jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten; und
    • – mindestens zweibindigem, substituiertem und unsubstituiertem Rest der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein, insbesondere ein, Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, insbesondere Sauerstoffatom, Schwefelatom und Stickstoffatom;
    wobei die vorstehend beschriebenen Substituenten in Betracht kommen, ausgewählt. Insbesondere wird Propan-1,3-diyl verwendet.
  • Die vorstehend beschriebenen Verbindungen (B) können nach den üblichen und bekannten Verfahren der siliziumorganischen Chemie hergestellt werden.
  • Vorzugsweise sind sie herstellbar, indem man
    • (a) in einer ersten Alternative mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel IX: R9(-N=C=R8)q (IX),worin der Index q und die Variable R9 die vorstehend angegebene Bedeutung haben und R8 für ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom steht, mit mindestens einer Verbindung der allgemeinen Formel X: H-R12[-R13]n[-R14(-R15)o]p (X),worin die Indizes und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, umsetzt oder
    • (b) in einer zweiten Alternative mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel XI: R9(-R12-H)q (XI),worin der Index und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, mit mindestens einer Verbindung der allgemeinen Formel XII: R8=C=N-R14(-R15)o (XII),worin der Index und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, umsetzt.
  • Vorzugsweise wird die erste Alternative (a) angewandt.
  • Vorzugsweise wird bei den beiden Alternativen (a) und (b) ein Äquivalentverhältnis der komplementären, reaktiven, funktionellen Gruppen -N=C=R8:-R12-H nahe 1, bevorzugt 1,5:1 bis 1:1,5, besonders bevorzugt 1,3:1 bis 1:1,3 und insbesondere 1,2:1 bis 1:1,2 angewandt.
  • Beispiele geeigneter Verbindungen der allgemeinen Formel X sind
    • – Monoisocyanate, wie Ethyl-, Propyl-, Butyl-, Pentyl-, Hexyl -, Heptyl-, Octyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Lauryl-, Cyclohexyl- oder Phenylisocyanat;
    • – Diisocyanate, wie Tetramethylen-1,4-diisocyanat, Hexamethylen-1,6-diisocyanat, 2,2,4-Trimethylhexamethylen-1,6-diisocyanat, omega,omega'-Dipropyl-ätherdiisocyanat, Cyclohexyl-1,4-diisocyanat, Cyclohexyl-1,3-diisocyanat, Cyclohexyl-1,2-diisocyanat, Dicyclohexylmethan-4,4'-diisocyanat, 1,5-Dimethyl-2,4-di(isocyanato-methyl)-benzol, 1,5-Di-methyl-2,4-di(isocyanatoethyl)-benzol, 1,3,5-Trimethyl-2,4-di(isocyanatomethyl)-benzol, 1,3,5-Triethyl-2,4-di(isocyanatomethyl)-benzol, Isophorondiisocyanat, Dicyclohexyldimethylmethan-4,4'-diisocyanat, 2,4-Toluylendiisocyanat, 2,6-Toluylendiisocyanat, Diphenylmethan-4,4'-diisocyanat; und
    • – Polyisocyanate, wie Triisocyanate wie Nonantriisocyanat (NTI) sowie Polyisocyanate auf der Basis der vorstehend beschriebenen Diisocyanate und Triisocyanate, insbesondere Oligomere, die Isocyanurat-, Biuret-, Allophanat-, Iminooxadiazindion-, Urethan-, Carbodiimid-, Harnstoff- und/oder Uretdiongruppen enthalten, beispielsweise aus den Patentschriften und Patentanmeldungen CA 2,163,591 A1 , US 4,419,513 A , US 4,454,317 A , EP 0 646 608 A1 , US 4,801,675 A , EP 0 183 976 A1 , DE 40 15 155 A1 , EP 0 303 150 A1 , EP 0 496 208 A1 , EP 0 524 500 A1 , EP 0 566 037 A1 , US 5,258,482 A , US 5,290,902 A , EP 0 649 806 A1 , DE 42 29 183 A1 oder EP 0 531 820 A1 bekannt sind und vorteilhafterweise eine NCO-Funktionalität von 2,0-5,0, vorzugsweise von 2,2-4,0, insbesondere von 2,5-3,8 haben;
    • – die hochviskosen Polyisocyanate, wie sie in der deutschen Patentanmeldung DE 198 28 935 A1 beschrieben werden; sowie
    • – die aus der deutschen Patentanmeldung DE 199 24 170 A1 , Spalte 2, Zeile 6 bis 34, Spalte 4, Zeile 16, bis Spalte 6, Zeile 62, die aus den internationalen Patentanmeldungen WO 00/31194, Seite 11, Zeile 30, bis Seite 12, Zeile 26, und WO 00/37520, Seite 5, Zeile 4, bis Seite 6, Zeile 27, und die aus der europäischen Patentanmeldung EP 0 976 723 A2 , Seite 12, Absatz [0128], bis Seite 22, Absatz [0284], bekannten Polyisocyanate.
  • Beispiele geeigneter Verbindungen der allgemeinen Formel XI sind N,N-Bis(3-trimethoxysilylpropan-1-yl)amin, N,N-Bis(3-triethoxysilylpropan-1-yl)amin, N-(3-trimethoxysilylpropan-1-yl)-N-n-butylamin oder N-(3-triethoxysilylpropan-1-yl)-N-n-butylamin.
  • Beispiele geeigneter Verbindungen der allgemeinen Formel XII sind die üblichen und bekannten, aliphatischen, cycloaliphatischen, aromatischen, aliphatisch-cycloaliphatischen, aliphatisch-aromatischen oder aliphatisch-cycloaliphatisch-aromatischen, mindestens eine Hydroxylgruppe, mindestens eine Thiolgruppe und/oder mindestens eine primäre und/oder sekundäre Aminogruppe enthaltenden Alkohole, Thiole, Thioalkohole, Phenole, Amine, Aminoalkohole, Aminothiole oder Aminothioalkohole.
  • Beispiele für geeignete Verbindungen der allgemeinen Formel XIII sind 3-Trimethoxysilylpropan-1-yl-isocyanat oder 3-Triethoxysilylpropan-1-yl-isocyanat.
  • Methodisch weist die Herstellung der Verbindungen (B) keine Besonderheiten auf, sondern erfolgt mit Hilfe der üblichen und bekannten Methoden und Vorrichtungen zur Handhabung und Umsetzung von Polyisocyanaten und organischen Siliciumverbindungen eingesetzt werden, wobei die üblichen und bekannten Vorsichtsmaßnahmen zur Handhabung von Polyisocyanaten getroffen werden.
  • Im Allgemeinen werden die Verbindungen der allgemeinen Formeln X und XI bzw. XII und XIII so lange miteinander umgesetzt, bis in den betreffenden Reaktionsgemischen mit Hilfe der üblichen und bekannten Methoden für den qualitativen und quantitativen Nachweis von Isocyanatgruppen keine freien Isocyanatgruppen mehr nachweisbar sind.
  • Nicht zuletzt können die erfindungsgemäßen Gemische noch mindestens einen Zusatzstoff (C) in den üblichen und bekannten, wirksamen Mengen enthalten. Vorzugsweise wird der Zusatzstoff (C) aus der Gruppe, bestehend aus organischen Lösemitteln, von den Verbindungen (B) verschiedenen Vernetzungsmitteln und Bindemitteln, mit aktinischer Strahlung, insbesondere UV-Strahlung, aktivierbaren Verbindungen, organischen und anorganischen, farbigen und unbunten, optisch effektgebenden, elektrisch leitfähigen, magnetisch abschirmenden und fluoreszierenden Pigmenten, transparenten und opaken, organischen und anorganischen Füllstoffen, Nanopartikeln, Stabilisatoren, UV-Absorbern, Lichtschutzmitteln, Radikalfängern, Photoinitiatoren, Initiatoren der radikalischen Polymerisation, Trockenstoffen, Entlüftungsmitteln, Slipadditiven, Polymerisationsinhibitoren, Entschäumern, Emulgatoren und Netzmitteln, Haftvermittlern, Verlaufmitteln, Filmbildehilfsmitteln, rheologiesteuernden Additiven und Flammschutzmitteln, ausgewählt.
  • Bevorzugt werden Stabilisatoren, besonders bevorzugt Glykole, ganz besonders bevorzugt Propylenglykol, Butylglykol und Homologe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen im Molekül und insbesondere Propylenglykol und Butylglykol verwendet.
  • Der Gehalt der erfindungsgemäßen Gemische an Phosphonsäurediestern und/oder Diphosphonsäurediestern (A) kann sehr breit variieren und richtet sich nach den Erfordernissen des Einzelfalls, sodass er an diese optimal angepasst werden kann. Vorzugsweise sind die Phosphonsäurediester und/oder Diphosphonsäurediester (A) in einem erfindungsgemäßen Gemisch in einer Menge von 1 bis 40 Gew.-% bevorzugt 2 bis 30 Gew.-% und insbesondere 3 bis 20 Gew.-%, jeweils bezogen auf den Festkörper des erfindungsgemäßen Gemischs, enthalten.
  • Ebenso kann der Gehalt der erfindungsgemäßen Gemische an Verbindungen (B) sehr breit variieren und den Erfordernissen des Einzelfalls optimal angepasst werden. Vorzugsweise sind die Verbindungen (B) in einem erfindungsgemäßen Gemisch in einer Menge von 60 bis 99 Gew.-%, bevorzugt 70 bis 98 Gew.-% und insbesondere 80 bis 97 Gew.-%, jeweils bezogen auf den Festkörper des erfindungsgemäßen Gemischs, enthalten.
  • Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist der Festkörper gleich der Summe aller Bestandteile eines erfindungsgemäßen Gemischs, beispielsweise eines härtbaren erfindungsgemäßen Gemischs, die nach der Entfernung der flüchtigen Bestandteile den nichtflüchtigen Rückstand bilden, beispielsweise ein erfindungsgemäßes gehärtetes Material.
  • Auch der Festkörpergehalt der erfindungsgemäßen Gemische kann sehr breit variieren und daher den Erfordernissen des Einzelfalls optimal angepasst werden. Vorzugsweise liegt der Festkörpergehalt bei 100 Gew.-%, d. h., das erfindungsgemäße Gemisch enthält keine flüchtigen Bestandteile im vorstehend genannten Sinne. Sind solche flüchtigen Bestandteile vorhanden, liegt der Festkörpergehalt, jeweils bezogen auf das erfindungsgemäße Gemisch, vorzugsweise bei 20 bis 80 Gew.-%, bevorzugt 25 bis 70 Gew.-% und insbesondere 30 bis 65 Gew.-%.
  • Vorzugsweise sind die erfindungsgemäßen Gemische wasserfrei. Dies bedeutet, dass sie allerhöchstens Spuren von Wasser enthalten, die bei ihrer Herstellung über die Bestandteile und/oder bei ihrer Herstellung und/oder Handhabung über die Luftfeuchtigkeit unbeabsichtigt eingetragen werden. Bevorzugt liegt der Wassergehalt unterhalb der Nachweisgrenzen der üblichen und bekannten, qualitativen und quantitativen Methoden der Wasserbestimmung.
  • Bevorzugt sind die erfindungsgemäßen Gemische härtbar, besonders bevorzugt thermisch härtbar. Insbesondere erfolgt die thermische Härtung durch die Polykondensation der in den erfindungsgemäßen Gemischen enthaltenen kondensierbaren Silangruppen unter der Bildung dreidimensionaler Netzwerke, d. h., neuer duroplastischer Materialien.
  • Die thermische Härtung durch die Polykondensation durch die in den erfindungsgemäßen Gemischen enthaltenen kondensierbaren Silangruppen kann noch durch andere, übliche und bekannte Mechanismen der thermischen Härtung, bei denen andere komplementäre, reaktive, funktionelle Gruppen als die kondensierbare Silangruppen eingesetzt werden, die physikalische Härtung durch die Verfilmung geeigneter, filmbildender Bestandteile und/oder die Härtung mit aktinischer Strahlung, insbesondere UV-Strahlung, unterstützt werden. Dieser Arten der Härtung dienen der vorteilhaften Variation der für die erfindungsgemäßen Gemische charakteristischen und ihr anwendungstechnisches Eigenschaftsprofil prägenden Härtung über die kondensierbare Silangruppen.
  • Die erfindungsgemäßen Gemische können in den unterschiedlichsten physikalischen Zuständen und dreidimensionalen Formen vorliegen.
  • So können die erfindungsgemäßen Gemische bei Raumtemperatur fest oder flüssig bzw. fließfähig sein. Sie können aber auch bei Raumtemperatur fest und bei höheren Temperaturen fließfähig sein, wobei sie vorzugsweise thermoplastisches Verhalten zeigen. Insbesondere können sie konventionelle, organische Lösemittel enthaltende Gemische, wässrige Gemische, im Wesentlichen oder völlig lösemittel- und wasserfreie flüssige Gemische (100%-Systeme), im wesentlichen oder völlig lösemittel- und wasserfreie feste Pulver oder im wesentlichen oder völlig lösemittelfreie Pulversuspensionen (Pulverslurries) sein. Außerdem können sie Einkomponentensysteme, in denen alle Bestandteile nebeneinander in einer Komponente vorliegen, oder Zwei- oder Mehrkomponentensysteme, in denen mindestens ein besonders reaktiver Bestandteil, beispielsweise ein Polyisocyanat oder ein Polyepoxid, in einer separaten Komponente bis kurz vor der Herstellung und Applikation des betreffenden erfindungsgemäßen Gemischs getrennt von den übrigen Bestandteilen vorliegt, sein. Insbesondere sind die erfindungsgemäßen Gemische organische Lösemittel enthaltende Einkomponentensysteme.
  • Methodisch weist die Herstellung der erfindungsgemäßen Gemische keine Besonderheiten auf, sondern erfolgt durch das Vermischen und Homogenisieren der vorstehend beschriebenen Bestandteile mit Hilfe üblicher und bekannter Mischverfahren und Vorrichtungen wie Rührkessel, Rührwerksmühlen, Extruder, Kneter, Ultraturrax, Inline-Dissolver, statische Mischer, Mikromischer, Zahnkranzdispergatoren, Druckentspannungsdüsen und/oder Microfluidizer gegebenenfalls unter Ausschluss von aktinischer Strahlung. Die Auswahl der für einen gegebenen Einzelfall optimalen Methode richtet vor allem sich nach dem physikalischen Zustand und der dreidimensionalen Form, den das erfindungsgemäße Gemisch haben soll. Soll beispielsweise ein thermoplastisches erfindungsgemäßes Gemisch in der Form einer Folie oder eines Laminats vorliegen, kommt insbesondere die Extrusion durch eine Breitschlitzdüse für die Herstellung des erfindungsgemäßen Gemischs und dessen Formgebung in Betracht.
  • Im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die erfindungsgemäßen Gemische zur Herstellung von neuen gehärteten Materialien, insbesondere neuen duroplastischen Materialien, verwendet, die unterschiedlichsten Verwendungszwecken dienen und im folgenden als »erfindungsgemäße Materialien« bezeichnet werden.
  • Bevorzugt handelt es sich bei den erfindungsgemäßen Gemischen um Ausgangsprodukte für Formteile und Folien oder um Beschichtungsstoffe, Klebstoffe und Dichtungsmassen, insbesondere Beschichtungsstoffe.
  • Bevorzugt handelt es sich bei den erfindungsgemäßen Materialien um neue Formteile, Folien, Beschichtungen, Klebschichten und Dichtungen, insbesondere neue Beschichtungen.
  • Insbesondere werden die erfindungsgemäßen Beschichtungsstoffe als neue Elektrotrauchlacke, Füller, Steinschlagschutzgrundierungen, Unidecklacke, Wasserbasislacke und/oder Klarlacke, insbesondere Klarlacke, zur Herstellung neuer farb- und/oder effektgebender, elektrisch leitfähiger, magnetisch abschirmender oder fluoreszierender Mehrschichtlackierungen, insbesondere farb- und/oder effektgebender Mehrschichtlackierungen, eingesetzt. Für die Herstellung der erfindungsgemäßen Mehrschichtlackierungen können die üblichen und bekannten Nass-in-nass-Verfahren und/oder Extrusionsverfahren sowie die üblichen und bekannten Lack- oder Folienaufbauten angewandt werden.
  • Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Materialien werden die erfindungsgemäßen Gemische auf übliche und bekannte temporäre oder permanente Substrate appliziert.
  • Vorzugsweise werden für die Herstellung der erfindungsgemäßen Folien und Formteile übliche und bekannte temporäre Substrate verwendet, wie Metall- und Kunststoffbänder und -folien oder Hohlkörper aus Metall, Glas, Kunststoff, Holz oder Keramik, die leicht entfernt werden können, ohne dass die aus den erfindungsgemäßen Gemischen hergestellten erfindungsgemäße Folien und Formteile beschädigt werden.
  • Werden die erfindungsgemäßen Gemische für die Herstellung der erfindungsgemäßen Beschichtungen, Klebstoffen und Dichtungen verwendet, werden permanente Substrate eingesetzt, wie Karosserien von Fortbewegungsmitteln, insbesondere Kraftfahrzeugkarosserien, und Teile hiervon, Bauwerke im Innen- und Außenbereich und Teile hiervon, Türen, Fenster, Möbel, Glashohlkörper, Coils, Container, Emballagen, Kleinteile, optische, mechanische und elektrotechnische Bauteile sowie Bauteile für weiße Ware. Die erfindungsgemäßen Folien und Formteile können ebenfalls als permanente Substrate dienen.
  • Methodisch weist die Applikation der erfindungsgemäßen Gemische keine Besonderheiten auf, sondern kann durch alle üblichen und bekannten, für das jeweilige erfindungsgemäße Gemisch geeigneten Applikationsmethoden, wie z.B. Extrudieren, Elektrotauchlackieren, Spritzen, Sprühen, inklusive Pulversprühen, Rakeln, Streichen, Gießen, Tauchen, Träufeln oder Walzen erfolgen. Vorzugsweise werden Extrusions- und Spritzapplikationsmethoden, insbesondere Spritzapplikationsmethoden, angewandt.
  • Nach ihrer Applikation werden die erfindungsgemäßen Gemische in üblicher und bekannter Weise thermisch gehärtet.
  • Die thermische Härtung erfolgt im Allgemeinen nach einer gewissen Ruhezeit oder Ablüftzeit. Sie kann eine Dauer von 30 s bis 2 h, vorzugsweise 1 min bis 1 h und insbesondere 1 bis 45 min haben. Die Ruhezeit dient beispielsweise zum Verlauf und zur Entgasung von Schichten aus den erfindungsgemäßen Gemischen und zum Verdunsten von flüchtigen Bestandteilen wie gegebenenfalls vorhandenem Lösemittel und/oder Wasser. Die Ablüftung kann durch eine erhöhte Temperatur, die zu einer Härtung noch nicht ausreicht, und/oder durch eine reduzierte Luftfeuchtigkeit beschleunigt werden.
  • Diese Verfahrensmaßnahme wird auch zur Trocknung der applizierten erfindungsgemäßen Gemische, insbesondere der Schichten aus den erfindungsgemäßen Beschichtungsstoffen, speziell der Schichten aus den erfindungsgemäßen Lackschichten, angewandt, die nicht oder nur partiell gehärtet werden sollen.
  • Die thermische Härtung erfolgt beispielsweise mit Hilfe eines gasförmigen, flüssigen und/oder festen, heißen Mediums, wie heiße Luft, erhitztes Öl oder erhitzte Walzen, oder von Mikrowellenstrahlung, Infrarotlicht und/oder nahem Infrarotlicht (NIR). Vorzugsweise erfolgt das Erhitzen in einem Umluftofen oder durch Bestrahlen mit IR- und/oder NIR-Lampen. Die Härtung kann auch stufenweise erfolgen. Vorzugsweise erfolgt die thermische Härtung bei Temperaturen von Raumtemperatur bis 200°C, bevorzugt von Raumtemperatur bis 180°C und insbesondere von Raumtemperatur bis 160°C.
  • Die thermische Härtung kann noch durch die vorstehend beschriebenen zusätzlichen Härtungsmethoden unterstützt werden, wozu gegebenenfalls die üblichen und bekannten Vorrichtungen, beispielsweise zur Härtung mit aktinischer Strahlung, insbesondere UV Strahlung, verwendet werden.
  • Die resultierenden erfindungsgemäßen Materialien, insbesondere die resultierenden erfindungsgemäßen Folien, Formteile, Beschichtungen, Klebschichten und Dichtungen, eignen sich hervorragend für das Beschichten, Verkleben, Abdichten, Umhüllen und Verpacken von Karosserien von Fortbewegungsmitteln, insbesondere Kraftfahrzeugkarosserien, und Teilen hiervon, Bauwerken im Innen- und Außenbereich und Teilen hiervon, Türen, Fenstern, Möbeln, Glashohlkörpern, Coils, Container, Emballagen, Kleinteilen, wie Muttern, Schrauben, Felgen oder Radkappen, optischen Bauteilen, mechanischen Bauteilen, elektrotechnischen Bauteilen, wie Wickelgüter (Spulen, Statoren, Rotoren), sowie Bauteilen für weiße Ware, wie Radiatoren, Haushaltsgeräte, Kühlschrankverkleidungen oder Waschmaschinenverkleidungen.
  • Die erfindungsgemäßen Gemische bieten ganz besonderer Vorteile, wenn sie als erfindungsgemäße Klarlacke zur Herstellung von neuen Klarlackierungen verwendet werden.
  • Bei den erfindungsgemäßen Klarlackierungen handelt es sich üblicherweise um die äußersten Schichten von Mehrschichtlackierungen oder Folien bzw. Laminaten, die wesentlich den optischen Gesamteindruck (Appearance) bestimmen und die Substrate und/oder die farb- und/oder effektgebenden Schichten von Mehrschichtlackierungen oder Folien bzw. Laminaten vor mechanischer und chemischer Schädigung und Schädigung durch Strahlung schützen. Deswegen machen sich auch Defizite in der Härte, Kratzfestigkeit, Chemikalienbeständigkeit und der Stabilität gegenüber Vergilbung bei der Klarlackierung besonders stark bemerkbar. So aber weisen die hergestellten erfindungsgemäßen Klarlackierungen nur eine geringe Vergilbung auf. Sie sind hoch kratzfest und zeigen nach dem Zerkratzen nur sehr geringe Glanzverluste. Insbesondere ist der Glanzverlust im Waschstraßensimulationstest nach Amtec/Kistler sehr gering. Gleichzeitig haben sie eine hohe Härte und eine besonders hohe Chemikalienfestigkeit. Nicht zuletzt weisen sie eine hervorragende Substrathaftung und Zwischenschichthaftung auf.
  • Herstellbeispiel 1
  • Die Herstellung der Verbindung (B1)
  • In einem Reaktionsgefäß, ausgerüstet mit Rührer, Rückflusskühler, Ölheizung und Stickstoffeinleitungsrohr, wurden 456,38 Gewichtsteile eines handelsüblichen Polyisocyanats (Basonat® HI 100 der Firma BASF Aktiengesellschaft) und 228 Gewichtsteile eines handelsüblichen aromatischen Lösemittelgemischs (Solventnaphta®) vorgelegt. Zu dieser Mischung wurden unter Rühren langsam 815,62 Gewichtsteile N,N-Bis(3-trimethoxysilylpropan-1-yl)amin (Dynasilan® 1124 der Firma Degussa) hinzu gegeben. Anschließend wurde das Reaktionsgemisch während zwei Stunden unter Rühren auf 50°C erhitzt. Hiernach waren IR-spektroskopisch keine freien Isocyanatgruppen mehr nachweisbar. Die Lösung der Verbindung (B1) wies einen Festkörpergehalt von 84 bis 85 Gew.-% auf.
  • Herstellbeispiel 2
  • Die Herstellung der Verbindung (B2)
  • In einem Reaktionsgefäß, ausgerüstet mit Rührer, Rückflusskühler, Ölheizung und Stickstoffeinleitungsrohr, wurden 82 Gewichtsteile eines handelsüblichen Polyisocyanats (Vestanat® T 1890 der Firma Degussa) und 82 Gewichtsteile eines handelsüblichen aromatischen Lösemittelgemischs (Solventnaphta®) vorgelegt. Zu dieser Mischung wurden unter Rühren langsam 86 Gewichtsteile N-(3-Trimethoxysilylpropan-1-yl)-N-n-butylamin (Dynasilan® 1189 der Firma Degussa) hinzu gegeben. Anschließend wurde das Reaktionsgemisch während zwei Stunden unter Rühren auf 50°C erhitzt. Hiernach waren IR-spektroskopisch keine freien Isocyanatgruppen mehr nachweisbar. Die Lösung der Verbindung (B2) wies einen Festkörpergehalt von 52 bis 53 Gew.-% auf.
  • Herstellbeispiel 3
  • Die Herstellung der Verbindung (B3)
  • In einem Reaktionsgefäss, ausgerüstet mit Rührer, Rückflusskühler, Ölheizung und Stickstoffeinleitungsrohr, wurden 48,38 Gewichtsteile eines handelsüblichen Polyisocyanats (Vestanat® T 1890 der Firma Degussa) und 48,38 Gewichtsteile eines handelsüblichen aromatischen Lösemittelgemischs (Solventnaphta®) vorgelegt. Zu dieser Mischung wurden unter Rühren langsam 32,82 Gewichtsteile N-(3-Trimethoxysilylpropan-1-yl)-N-n-butylamin (Dynasilan® 1189 der Firma Degussa) und 20,42 Gewichtsteile N,N-Bis(3-trimethoxysilylpropan-1-yl)amin (Silquest® A 1170 der Firma Witco) hinzu gegeben. Anschließend wurde das Reaktionsgemisch während zwei Stunden unter Rühren auf 50°C erhitzt. Hiernach waren IR-spektroskopisch keine freien Isocyanatgruppen mehr nachweisbar. Die Lösung der Verbindung (B3) wies einen Festkörpergehalt von 58 Gew.-% auf.
  • Herstellbeispiel 4
  • Die Herstellung des Zusatzstoffs (C1)
  • In einem Reaktionsgefäß, ausgerüstet mit Rührer, Rückflusskühler, zwei Zulaufgefäßen und Ölheizung, wurden 71,04 Gewichtsteile Solventnaphtha® vorgelegt und unter Rühren auf 145°C erhitzt. Anschließend wurden bei dieser Temperatur aus dem einen Zulaufgefäß ein Gemisch aus 100,1 Gewichtsteile Methylmethacrylat und 6,79 Gewichtsteilen Isodecylmethacrylat während zwei Stunden unter Rühren gleichmäßig zudosiert. Gleichzeitig beginnend, wurde aus dem anderen Zulaufgefäß eine Lösung von 25,96 Gewichtsteilen tert.-Butylhydroperoxid in 49,4 Gewichtsteile Solventnaphtha® während fünf Stunden unter Rühren gleichmäßig zudosiert. Nach der Beendigung des zweiten Zulaufs wurde das Reaktionsgemisch noch während 1,5 Stunden 145°C nachpolymerisiert. Die resultierende Methacrylatharzlösung wies einen Festkörpergehalt von 47 Gew.-% auf. Die Molekulargewichtsverteilung des Methacrylatharzes wurde Mithilfe der Gelpermeationschromatographie mit Polystyrol als internem Standard bestimmt. Der Restmonomerengehalt wurde mittels Gaschromatographie gemessen. Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
    Massenmittleres Molekulargewicht: 2.874 Dalton;
    Zahlenmittleres Molekulargewicht: 1.132 Dalton;
    Molekulargewicht am Peakmaximum: 2.876 Dalton;
    Uneinheitlichkeit des Molekulargewichts: 2,5 und
    Restmonomerengehalt: ≤ 0,5 Gew.-%.
  • Beispiel 1
  • Die Herstellung des Einkomponentenklarlacks 1 und der Mehrschichtlackierungen 1 (Silber) und 1 (Schwarz), jeweils umfassend die Klarlackierung 1
  • Der Einkomponentenklarlack 1 wurde durch Vermischen von 92 Gewichtsteilen der Verbindung (B2) des Herstellbeispiels 2, 0,5 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lackadditivs Byk® 301 der Firma Byk Chemie, 1,1 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 384 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 1 Gewichtsteil des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 292 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 25 Gewichtsteilen Solventnaphtha®, 0,25 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lackadditivs Byk® 390 der Firma Byk Chemie und 8 Gewichtsteilen Diphenylphosphonat (Diphenylphosphit) und Homogenisieren der resultierende Mischung hergestellt.
  • Der Einkomponentenklarlack 1 war lagerstabil; er konnte problemlos während vier Wochen bei 40°C gelagert werden, ohne dass ein Anstieg seiner Viskosität zu beobachten war.
  • Der Einkomponentenklarlack 1 wurde auf Prüfbleche appliziert, die jeweils mit einer üblichen und bekannten, kathodisch abgeschiedenen, thermisch gehärteten Elektrotauchlackierung, einer üblichen und bekannten, thermisch gehärteten Füllerlackierung und einer während 10 Minuten bei 80°C vorgetrockneten Schicht aus einem handelsüblichen, konventionellen, schwarzen Basislacken der Firma BASF Coatings AG beschichtet worden waren, appliziert. Die Basislackschicht und die Klarlackschicht wurden gemeinsam während 22 Minuten bei 140°C gehärtet. Die resultierende Basislackierung wies eine Schichtdicke von 7,5 μm und die Klarlackierung eine Schichtdicke von 30 μm auf.
  • Die Chemikalienbeständigkeit wurde durch den üblichen und bekannten Gradientenofentest und durch den üblichen und bekannten Test GME 604409 bestimmt, bei dem 38-prozentige Schwefelsäure während 72 Stunden bei Raumtemperatur auf die Mehrschichtlackierungen einwirkt. Die Resultate wurden visuell beurteilt und mit Noten von 1 bis 10 benotet. Ab einer Note 8 war das Testergebnis in Ordnung.
  • Die Kratzfestigkeit wurde durch den Waschstraßensimulationstest mit einer Laborwaschstraße der Firma Amtec Kistler bestimmt (vgl. T. Klimmasch, T. Engbert, Technologietage, Köln, DFO, Berichtsband 32, Seiten 59 bis 66, 1997). Die Beanspruchung wurde durch Messen des Restglanzes der Probe nach dem Waschstraßensimulationstest und nachfolgendem Abwischen mit einem mit Waschbenzin getränktem Wischtuch bestimmt.
  • Außerdem wurde die Kratzfestigkeit mit dem Crockmeter (9 μm Papierkörnung) bestimmt.
  • Die Ergebnisse finden sich in der Tabelle 1. Tabelle 1: Chemikalienbeständigkeit und Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierungen 1 (Silber) und 1 (Schwarz)
    Figure 00280001
    Figure 00290001
  • Die Ergebnisse untermauern die überraschend hohe Chemikalienbeständigkeit der Mehrschichtlackierungen 1 (Silber) und 1 (Schwarz) sowie den hohen Glanz und die hohe Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 1 (Schwarz). Eine Messung der Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 1 (Silber) wurde deshalb nicht durchgeführt, weil für die Bestimmung der Kratzfestigkeit üblicherweise schwarze Lackierungen verwendet werden, bei denen das Schadensbild sehr viel besser zu erkennen ist als bei silbernen Lackierungen.
  • Beispiel 2
  • Die Herstellung des Einkomponentenklarlacks 2 und der Mehrschichtlackierung 2 (Schwarz), umfassend die Klarlackierung 2
  • Der Einkomponentenklarlack 2 wurde durch Vermischen von einer 100 Gewichtsteilen der Verbindung (B3) des Herstellbeispiels 3, 0,5 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lackadditivs Byk® 358 der Firma Byk Chemie, 1,1 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 384 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 1 Gewichtsteil des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 292 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 25 Gewichtsteilen Solventnaphtha®, 3 Gewichtsteilen Butylglykoldiacetat und 8 Gewichtsteilen Diphenylphosphonat und Homogenisieren der resultierende Mischung hergestellt.
  • Der Einkomponentenklarlack 1 war lagerstabil; er konnte problemlos während vier Wochen bei 40°C gelagert werden, ohne dass ein Anstieg seiner Viskosität zu beobachten war.
  • Der Einkomponentenklarlack 2 wurde auf Prüfbleche appliziert, die jeweils mit einer üblichen und bekannten, kathodisch abgeschiedenen, thermisch gehärteten Elektrotauchlackierung, einer üblichen und bekannten, thermisch gehärteten Füllerlackierung und einer während 10 Minuten bei 80°C vorgetrockneten Schicht aus einem handelsüblichen, konventionellen, schwarzen Basislack der Firma BASF Coatings AG beschichtet worden waren, appliziert. Die Basislackschicht und die Klarlackschicht wurden gemeinsam während 22 Minuten bei 140°C gehärtet. Die resultierende Basislackierung wies eine Schichtdicke von 7,5 μm und die Klarlackierung eine Schichtdicke von 30 μm auf.
  • Es wurden dieselben Untersuchungen wie bei Beispiel 1 durchgeführt. Die Ergebnisse finden sich in der Tabelle 2. Sie untermauern die überraschend hohe Chemikalienbeständigkeit sowie den hohen Glanz und die hohe Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 2 (Schwarz). Tabelle 2: Chemikalienbeständigkeit und Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 2 (Schwarz)
    Figure 00300001
    Figure 00310001
  • Beispiel 3
  • Die Herstellung des Einkomponentenklarlacks 3 und der Mehrschichtlackierung 3 (Schwarz), umfassend die Klarlackierung 3
  • Der Einkomponentenklarlack 3 wurde durch Vermischen von 92 Gewichtsteilen der Verbindung (B1) des Herstellbeispiels 1, 45 Gewichtsteilen der Verbindung (B2) des Herstellbeispiels 2,5 Gewichtsteilen des Zusatzstoffs (C) des Herstellbeispiels 4, 0,5 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lackadditivs Byk® 358 der Firma Byk Chemie, 1,1 Gewichtsteilen des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 384 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 1 Gewichtsteil des handelsüblichen Lichtschutzmittels Tinuvin® 292 der Firma Ciba Specialty Chemicals, 57 Gewichtsteilen Solventnaphtha®, 6 Gewichtsteilen Propylenglykol und 8 Gewichtsteilen Diphenylphosphonat und Homogenisieren der resultierende Mischung hergestellt.
  • Der Einkomponentenklarlack 3 war lagerstabil; er konnte problemlos während vier Wochen bei 40°C gelagert werden, ohne dass ein Anstieg seiner Viskosität zu beobachten war.
  • Der Einkomponentenklarlack 3 wurde auf Prüfbleche appliziert, die jeweils mit einer üblichen und bekannten, kathodisch abgeschiedenen, thermisch gehärteten Elektrotauchlackierung, einer üblichen und bekannten, thermisch gehärteten Füllerlackierung und einer während 10 Minuten bei 80°C vorgetrockneten Schicht aus einem handelsüblichen schwarzen Wasserbasislack der Firma BASF Coatings AG beschichtet worden waren, appliziert. Die Basislackschicht und die Klarlackschicht wurden gemeinsam während 22 Minuten bei 140°C gehärtet. Die resultierende Basislackierung wies eine Schichtdicke von 7,5 μm und die Klarlackierung eine Schichtdicke von 30 μm auf.
  • Es wurden dieselben Untersuchungen wie bei Beispiel 1 durchgeführt. Die Ergebnisse finden sich in der Tabelle 3. Sie untermauern die überraschend hohe Chemikalienbeständigkeit sowie den hohen Glanz und die hohe Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 2 (Schwarz). Tabelle 3: Chemikalienbeständigkeit und Kratzfestigkeit der Mehrschichtlackierung 3 (Schwarz)
    Figure 00320001
    Figure 00330001
  • Insgesamt zeigen die Ergebnisse der Tabellen 1 bis 3, dass das Eigenschaftsprofil von Einkomponentenklarlacken auf der Basis von Verbindungen (B) und Phosphonsäurediestern (A) in überraschend einfacher Weise variiert und optimiert werden konnte.

Claims (26)

  1. Verwendung von Phosphonsäurediestern (A) in silangruppenhaltigen Gemischen.
  2. Verwendung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Phosphonsäurediester und die Diphosphonsäurediester (A) aus der Gruppe, bestehend aus acyclischen Phosphonsäurediestern, cyclischen Phosphonsäurediestern, acyclischen Diphosphonsäurediestern, cyclischen Diphosphonsäurediestern und cyclisch-acyclischen Diphosphonsäurediestern, ausgewählt werden.
  3. Verwendung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die acyclischen Phosphonsäurediester (A) die allgemeine Formel I haben:
    Figure 00340001
    worin die Variablen die folgende Bedeutung haben: R1 und R2 gleich oder voneinander verschieden und ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus substituiertem und unsubstituiertem Alkyl- mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen und Aryl- mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R1 oder R2 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; substituiertem und unsubstituiertem Alkylaryl-, Arylalkyl-, Alkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Arylcycloalkyl-, Cycloalkylaryl-, Alkylcycloalkylaryl-, Alkylarylcycloalkyl-, Arylcycloalkylalkyl-, Arylalkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkylaryl- und Cycloalkylarylalkyl-, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten und wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R1 und R2 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; und substituiertem und unsubstituiertem Rest- der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, wobei der Strich die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert;
  4. Verwendung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die cyclischen Phosphonsäurediester (A) die allgemeinen Formel II haben:
    Figure 00350001
    worin die Variablen die folgende Bedeutung haben: R3 und R4 gleich oder voneinander verschieden und ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Alkyl- mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl- mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen und Aryl- mit 5 bis 20 Kohlenstoffatomen, wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R3 oder R4 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Alkylaryl-, Arylalkyl-, Alkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkyl-, Arylcycloalkyl-, Cycloalkylaryl-, Alkylcycloalkylaryl-, Alkylarylcycloalkyl-, Arylcycloalkylalkyl-, Arylalkylcycloalkyl-, Cycloalkylalkylaryl- und Cycloalkylarylalkyl-, wobei die hierin enthalten Alkyl-, Cycloalkyl- und Arylgruppen jeweils die vorstehend aufgeführte Anzahl von Kohlenstoffatomen enthalten und wobei der Strich jeweils die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests R3 und R4 und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; und substituiertem und unsubstituiertem, zweibindigem Rest- der vorstehend aufgeführten Art, enthaltend mindestens ein Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, wobei der Strich die kovalente Bindung zwischen einem Kohlenstoffatom des Rests und dem Sauerstoffatom der O-P-Gruppe symbolisiert; Z kovalente Bindung zwischen einem Atom des Rests R3 und einem Atom des Rests R4 oder zweibindige, verküpfende Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, substituiertem und unsubstituiertem Schwefelatom, substituiertem Stickstoffatom, substituiertem Phosphoratom, substituiertem Siliziumatom, substituiertem und unsubstituiertem, mindestens ein Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Sauerstoffatom, Schwefelatom, Stickstoffatom, Phosphoratom und Siliziumatom, enthaltendem und von Heteroatomen freiem Alkyl mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, Cycloalkyl mit 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und Aryl mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen;
  5. Verwendung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die acyclischen Diphosphonsäurediester (A) die allgemeine Formel III haben: (R1-O)(O)PH-O-PH(O)(O-R2) (III);worin die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben.
  6. Verwendung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die cyclischen Diphosphonsäurediester (A) die allgemeine Formel IV haben:
    Figure 00370001
    worin die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben.
  7. Verwendung nach einem der Ansprüche 3 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Variablen R1 und R2 aus der Gruppe, bestehend aus Phenyl, Methyl und Ethyl, ausgewählt werden.
  8. Verwendung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass R1 und R2 Phenyl sind.
  9. Silangruppenhaltige Gemische, enthaltend 7(A) mindestens einen Phosphonsäurediester und/oder mindestens einen Diphosphonsäurediester und (B) mindestens eine Verbindung, enthaltend mindestens zwei kondensierbare Silangruppen.
  10. Gemische nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens einen Phosphonsäurediester und/oder mindestens einen Diphosphonsäurediester (A) gemäß einem der Ansprüche 2 bis 9 enthalten.
  11. Gemische nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens einen Phosphonsäurediester und/oder mindestens einen Diphosphonsäurediester (A) in einer Menge von 1 bis 40 Gew.-%, bezogen auf den Festkörper eines Gemischs, enthalten.
  12. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens eine Verbindung (B) in einer Menge von 60 bis 99 Gew.-%, bezogen auf den Festkörper eines Gemischs, enthalten.
  13. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 12, und dadurch gekennzeichnet, dass die kondensierbare Silangruppe die allgemeine Formel V hat: -SiR5 mR6 3-m (V), worin der Index und die Variablen die folgende Bedeutung haben: m ganze Zahl von 1 bis 3; R5 einbindiges, kondensierbares Atom oder einbindiger, kondensierbarer, organischer Rest; R6 einbindiger, inerter, organischer Rest.
  14. Gemische nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das einbindige, kondensierbare Atom aus der Gruppe, bestehend aus und Wasserstoffatom, Fluoratomen, Chloratom und Bromatom; und der einbindige, kondensierbare, organische Rest R aus der Gruppe, bestehend aus den Gruppen der allgemeinen Formel VI: -R7-R6 (VI),worin die Variable R7 für ein zweibindiges, verküpfendes Atom oder eine zweibindige, verknüpfende, funktionelle Gruppe steht und R6 die vorstehend angegebene Bedeutung hat.
  15. Gemische nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das zweibindige, verküpfende Atom R7 für ein Sauerstoffatom steht oder aus der Gruppe, bestehend aus -C(=R8)-, -R7-C(=R8)-, -C(=R8)-R7-, -NH- und -N(-R6)-, worin die Variable R8 für ein zweibindiges Atom steht, ausgewählt ist, wobei "=" eine Doppelbindung symbolisiert und die durch den linken äußeren Ergänzungsstrich symbolisierte kovalente Bindung die Gruppe der allgemeinen Formel VI mit dem Siliziumatom der Gruppe der allgemeinen Formel V verknüpft.
  16. Gemische nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der einbindige, inerte, organische Rest R6 aus der Gruppe, bestehend aus den Resten R1 oder R2, ausgewählt ist.
  17. Gemische nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Silangruppe der allgemeinen Formel VI aus der Gruppe, bestehend aus Trimethoxysilyl- und Triethoxysilyl-Gruppen, ausgewählt ist.
  18. Gemische nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung (B) die allgemeine Formel VII hat: R9{-R10-R11-R12[-R13]n[-R14(-R15)o]p}q (VII),worin die Indizes und die Variablen die folgende Bedeutung haben: n 0 oder 1; o 1, 2 oder 3; p 1 oder 2; q ganze Zahl von 1 bis 10, mit der Maßgabe, dass o = 2 oder 3 und/oder p = 2, wenn q = 1; R9 mindestens einbindiger, inerter, organischer Rest mit der Maßgabe dass o = 2 oder 3 und/oder p = 2, wenn R4 = einbindiger, organischer Rest; R10 Gruppe -NH- oder zweibindiges, verküpfendes Atom R2 mit der Maßgabe, dass R7 = Gruppe -NH-, n = 0 und p = 1, wenn R5 = zweibindiges, verküpfendes Atom R2; R11 Gruppe -C(=R8)-, worin "=R8" die vorstehend angegebene Bedeutung hat; R12 zweibindiges oder dreibindiges Atom, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus zweibindigen, verküpfenden Atomen R7 und dreibindigen Stickstoffatomen -N< und -N=, worin "=" eine Doppelbindung symbolisiert; oder zweibindige oder dreibindige, verküpfende, funktionelle Gruppe, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus -NH-, -N(-R6)- -NH-C(=R8)-, -NH[-C(=R8)-]2, -NH-C(=R8)-NH-, -NH-C(=R8)-R7-, -NH-C(=R8)-NH-C(=R8)-R7-, -R7-N=, -R7-NH-C(=R8)- und -NH-C(=R8)-NH-N=C<, worin "=R8", R7 und R6 die vorstehend angegebene Bedeutung haben; wobei die durch den linken äußeren Ergänzungsstrich symbolisierte kovalente Bindung das Atom oder die Gruppe R7 mit dem Kohlenstoffatom der Gruppe R11 verknüpft; R13 einbindiger, inerter, organischer Rest R6 oder Gruppe der allgemeinen Formel VIII: -R14(-R15)o (VIII),worin der Index o die vorstehend angegebene Bedeutung hat und die Reste R14 und R15 die nachstehend angegebene Bedeutung haben; R14 mindestens zweibindiger, inerter, organischer Rest; R15 Silangruppe der allgemeinen Formel V.
  19. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungen (B) herstellbar sind, indem man (a) in einer ersten Alternative mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel IX: R9(N=C=R8)q (IX),worin der Index q und die Variable R9 die vorstehend angegebene Bedeutung haben und R8 für ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom steht, mit mindestens einer Verbindung der allgemeinen Formel X: H-R12[-R13]n[-R14(-R15)o]p (X),worin die Indizes und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, umsetzt oder (b) in einer zweiten Alternative mindestens eine Verbindung der allgemeinen Formel XI: R9(-R12-H)q (XI), worin der Index und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, mit mindestens einer Verbindung der allgemeinen Formel XII: R8=C=N-R14(-R15)o (XII),worin der Index und die Variablen die vorstehend angegebene Bedeutung haben, umsetzt.
  20. Gemische nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, dass der Rest R14 aus der Gruppe, bestehend aus den Resten R3 oder R4, ausgewählt ist.
  21. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 20, dadurch gekennzeichnet, dass sie mindestens einen weiteren Bestandteil (C) enthalten.
  22. Gemische nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass der Bestandteil (C) aus der Gruppe, bestehend aus reaktionsfähigen und inerten, oligomeren und polymeren, filmbildenden Bindemitteln; Vernetzungsmitteln; reaktionsfähigen und inerten, organischen und anorganischen Lösemitteln; mit aktinischer Strahlung, insbesondere UV-Strahlung, aktivierbaren Verbindungen; organischen und anorganischen, farbigen und unbunten, optisch effektgebenden, elektrisch leitfähigen, magnetisch abschirmenden und fluoreszierenden Pigmenten; transparenten und opaken, organischen und anorganischen Füllstoffen; Nanopartikeln; Stabilisatoren; UV-Absorbern; Lichtschutzmitteln; Radikalfängern; Photoinitiatoren; Initiatoren der radikalischen Polymerisation; Trockenstoffen; Entlüftungsmitteln; Slipadditiven; Polymerisationsinhibitoren; Entschäumern; Emulgatoren und Netzmitteln; Haftvermittlern; Verlaufmitteln; Filmbildehilfsmitteln; rheologiesteuernden Additiven und Flammschutzmitteln, ausgewählt ist.
  23. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass sie einen Festkörpergehalt von 20 bis 100 Gew.-% haben.
  24. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass sie wasserfrei sind.
  25. Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 24, dadurch gekennzeichnet, dass sie thermisch härtbar sind.
  26. Wasserfreie, thermisch härtbare Gemische nach einem der Ansprüche 9 bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass sie Beschichtungsstoffe sind.
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Cited By (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007013242A1 (de) 2007-03-15 2008-09-18 Basf Coatings Ag Hochkratzfeste Beschichtung mit guter Witterungs- und Rissbeständigkeit
DE102007013262A1 (de) 2007-03-15 2008-09-18 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel enthaltend Addukte mit Silanfunktionalität und daraus hergestellte hochkratzfeste Beschichtungen mit verbesserter Rissbeständigkeit
DE102007015261A1 (de) * 2007-03-27 2008-10-02 Aacure Aadhesives Gmbh Reaktivmasse und Verfahren zur Aufbringung hierfür
DE102007061856A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität
WO2009077180A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher kratzbeständigkeit und witterungsstabilität
DE102007061855A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität
DE102008030304A1 (de) 2008-06-25 2009-12-31 Basf Coatings Ag Verwendung teilsilanisierter Verbindungen auf Polyisocyanatbasis als Vernetzungsmittel in Beschichtungszusammensetzungen und Beschichtungszusammensetzung enthaltend die Verbindungen
DE102008060454A1 (de) 2008-12-05 2010-06-10 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel und daraus hergestellte Beschichtungen mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität sowie guten optischen Eigenschaften
DE102009016195A1 (de) 2009-04-03 2010-10-07 Basf Coatings Ag Feuchtigkeitshärtende Beschichtungsmittel auf der Basis aprotischer Lösemittel enthaltend Bindemittel mit Alkoxysilangruppen und deren Verwendung
WO2010149236A1 (de) 2009-06-24 2010-12-29 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guten ergebnissen in der prüfung der erichsentiefung und guten steinschlagschutzeigenschaften
WO2011029502A1 (de) 2009-09-12 2011-03-17 Basf Coatings Gmbh Bindemittelmischung und sie enthaltende beschichtungsmittel sowie daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzbeständigkeit und witterungsstabilität sowie guten optischen eigenschaften
US8013099B2 (en) 2005-09-22 2011-09-06 Basf Coatings Ag Use of phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters and silane group containing, curable mixtures containing phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters
WO2011131463A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem festkörpergehalt und gutem verlauf sowie daraus hergestellte mehrschichtlackierungen und deren verwendung
WO2011131461A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit verbesserter ablaufneigung
DE102010015683A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem Festkörpergehalt und gutem Verlauf sowie daraus hergestellte Mehrschichtlackierungen und deren Verwendung
US8138249B2 (en) 2007-03-23 2012-03-20 Basf Coatings Japan Ltd. Phosphonate-containing two-component coating system and the production and use thereof
WO2012065942A1 (de) 2010-11-19 2012-05-24 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem festkörpergehalt und gutem verlauf sowie daraus hergestellte mehrschichtlackierungen und deren verwendung
WO2012098014A1 (de) 2011-01-20 2012-07-26 Basf Coatings Gmbh Wässriges polyurethanbeschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzbeständigkeit und guter chemikalienbeständigkeit
WO2012168014A1 (de) 2011-06-09 2012-12-13 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guter polierbarkeit sowie deren verwendung
WO2012168079A1 (de) 2011-06-09 2012-12-13 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guter polierbarkeit sowie deren verwendung
US8569438B2 (en) 2006-12-19 2013-10-29 Basf Coatings Gmbh Coating agents having high scratch resistance and weathering stability
EP2676982A1 (de) 2012-06-20 2013-12-25 Evonik Industries AG Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit
WO2013189882A2 (de) 2012-06-20 2013-12-27 Evonik Industries Ag Beschichtungsmittel mit hoher kratzbeständigkeit
WO2014016026A1 (de) 2012-07-25 2014-01-30 Basf Coatings Gmbh Polyurethan-beschichtungsmittelzusammensetzung und ihre verwendung, mehrstufige beschichtungsverfahren
EP2735578A1 (de) 2012-11-26 2014-05-28 Evonik Industries AG Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit
US9018330B2 (en) 2006-05-29 2015-04-28 Basf Coatings Gmbh Use of curable mixtures comprising silane group-containing compounds and phosphonic acid diester or diphosphonic acid diester as adhesives
EP2896639A1 (de) 2014-01-15 2015-07-22 BASF Coatings GmbH Beschichtete metallisierte Oberflächen
WO2016091633A1 (de) 2014-12-08 2016-06-16 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen und sowie deren verwendung
WO2016202587A1 (de) 2015-06-15 2016-12-22 Basf Coatings Gmbh Verfahren zur beschichtung von radfelgen sowie die hierbei erhaltenen schmutzabweisenden und bremsstraubresistenten beschichtungen
WO2016202601A1 (de) 2015-06-15 2016-12-22 Basf Coatings Gmbh Verfahren zur beschichtung von radfelgen sowie die hierbei erhaltenen schmutz abweisenden und bremsstaubresistenten beschichtungen
WO2016202588A1 (de) 2015-06-15 2016-12-22 Basf Coatings Gmbh Polyurethan-beschichtungsmittelzusammensetzungen sowie deren verwendung zur herstellung von mehrschichtlackierungen
WO2017055418A1 (de) 2015-09-30 2017-04-06 Evonik Degussa Gmbh Mit silikonharzen modifizierte isocyanatoalkylalkoxysilan-addukte und ihre verwendung
EP3162827A1 (de) 2015-10-29 2017-05-03 Evonik Degussa GmbH Beschichtungsmittel mit monoallophanaten auf basis von alkoxysilanalkylisocyanaten
WO2017162811A1 (de) 2016-03-23 2017-09-28 Covestro Deutschland Ag Härtbare zusammensetzungen auf basis von alkoxysilangruppen-haltigen prepolymeren
WO2017202692A1 (de) 2016-05-24 2017-11-30 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst)reinigungseigenschaften sowie deren verwendung
EP3263619A1 (de) 2016-06-27 2018-01-03 Evonik Degussa GmbH Alkoxysilan- und allophanat-funktionalisierte beschichtungsmittel
EP3263616A1 (de) 2016-06-27 2018-01-03 Evonik Degussa GmbH Alkoxysilan-funktionalisierte allophanat-haltige beschichtungsmittel
US9982147B2 (en) 2013-12-10 2018-05-29 Basf Coatings Gmbh Aqueous dip-coating composition for electroconductive substrates, comprising bismuth and a phosphorus-containing, amine-blocked compound
US10081738B2 (en) 2012-12-03 2018-09-25 Basf Coatings Gmbh Multicoat effect and/or color paint system and method for producing it, and its use
US10100222B2 (en) 2012-12-03 2018-10-16 Basf Coatings Gmbh Coating material compositions and coatings produced therefrom combining high scratch resistance and good polishability and good optical properties, and use thereof
US10294389B2 (en) 2005-09-22 2019-05-21 Basf Coatings Gmbh Use of phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters and thermally curable mixtures containing phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters
EP3505548A1 (de) 2017-12-28 2019-07-03 Covestro Deutschland AG Alkoxysilanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis einer mischung von dialkoxy- und trialkoxysilanen
EP3505549A1 (de) 2017-12-28 2019-07-03 Covestro Deutschland AG Silanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis isocyanurat- und allophanatgruppen aufweisender polyisocyanate
WO2019141823A1 (en) 2018-01-18 2019-07-25 Basf Coatings Gmbh Process for coating fiber composite panels at low baking temperatures
US10519341B2 (en) 2014-12-08 2019-12-31 Basf Coatings Gmbh Nonaqueous coating material compositions, coatings produced therefrom and having improved adhesion and scratch resistance and also use thereof
WO2020089019A1 (de) 2018-10-30 2020-05-07 Covestro Deutschland Ag Verfahren zur herstellung eines mehrschicht-lackaufbaus mit einer deckschicht aus silangruppen-enthaltenden prepolymeren
EP3957693A1 (de) 2020-08-18 2022-02-23 BASF Coatings GmbH Grundlack mit hohem feststoffgehalt enthaltend eib blockcopolymer zur verhinderung von klebrigkeitsfehlern
WO2022058176A1 (en) 2020-09-18 2022-03-24 Basf Coatings Gmbh A coating composition, its preparation and use thereof
WO2022169621A1 (en) 2021-02-03 2022-08-11 Covestro Llc Methods of manufacturing one-component coating compositions
WO2022200533A1 (en) 2021-03-26 2022-09-29 Basf Coatings Gmbh Clearcoat compositions for providing clearcoats with no or reduced whitening

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2193024A4 (de) 2007-09-25 2013-11-06 Entrotech Inc Farbersatzfilme, verbundstoffe daraus und verwandte verfahren
US10981371B2 (en) 2008-01-19 2021-04-20 Entrotech, Inc. Protected graphics and related methods
EP2340164B1 (de) * 2008-09-26 2021-03-24 Entrotech, Inc. Verfahren zur in-situ-filmpolymerisierung
US8828303B2 (en) 2010-03-31 2014-09-09 Entrotech, Inc. Methods for polymerizing films in-situ using a radiation source
US9371469B2 (en) 2011-06-09 2016-06-21 Basf Coatings Gmbh Coating agent compositions, coatings made therefrom and exhibiting high scratch resistance and good polishability, and use thereof
WO2014026780A1 (en) 2012-08-16 2014-02-20 Basf Coatings Gmbh Coating compositions containing benzotrizol based uv-absorbers
EP3085720A1 (de) 2015-04-21 2016-10-26 Covestro Deutschland AG Hydrophil modifizierter polyisocyanuratkunststoff und verfahren zu dessen herstellung
CN107636096B (zh) 2015-05-21 2020-06-05 科思创德国股份有限公司 聚氨酯涂料组合物
KR102555281B1 (ko) 2015-09-09 2023-07-14 코베스트로 도이칠란트 아게 스크래치-내성 2-성분 폴리우레탄 코팅
KR20180051515A (ko) 2015-09-09 2018-05-16 코베스트로 도이칠란트 아게 스크래치-내성 수성 2k pu 코팅
EP3429980A1 (de) * 2016-03-16 2019-01-23 Construction Research & Technology GmbH Auf oberfläche aufgebrachter korrosionshemmer
US10844161B2 (en) 2016-08-09 2020-11-24 Covestro Deutschland Ag Silane-functional polymeric polyurethanes
EP3419826A4 (de) 2016-09-20 2019-12-18 Entrotech, Inc. Lackschichtapplizierungen mit reduzierten defekten, artikel und verfahren
EP3760658A1 (de) 2019-07-03 2021-01-06 Covestro Deutschland AG Beständige 2k-pur-beschichtungen
EP4108694A1 (de) 2021-06-21 2022-12-28 Covestro Deutschland AG Beschichtungsmittel und daraus erhältliche beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst-)reinigungseigenschaften
EP4108697A1 (de) 2021-06-21 2022-12-28 Covestro Deutschland AG Beschichtungsmittel und daraus erhältliche beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst-)reinigungseigenschaften
EP4108695A1 (de) 2021-06-21 2022-12-28 Covestro Deutschland AG Beschichtungsmittel und daraus erhältliche beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst-)reinigungseigenschaften
EP4198094A1 (de) 2021-12-20 2023-06-21 Covestro Deutschland AG Mehrschichtaufbau auf metallischen untergründen basierend auf polyaspartatbeschichtungen

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3849357A (en) * 1971-06-04 1974-11-19 Stauffer Chemical Co Pigmented masonry water repellent composition containing alkyltrialkoxy silane-alkyl orthosilicate reaction product silicone resin
US4574133A (en) * 1984-01-05 1986-03-04 Bp Chemicals Limited Polymer composition
US20020042461A1 (en) * 2000-10-04 2002-04-11 Jsr Corporation Composition of cyclic olefin addition copolymer and cross-linked material
DE10132654A1 (de) * 2001-03-13 2002-10-31 Fraunhofer Ges Forschung Phosphorhaltige, organisch polymerisierbare Silane und damit hergestellte Kieselsäure-Polykondensate

Family Cites Families (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3525705A (en) 1959-04-20 1970-08-25 Mobil Oil Corp Flame-resistant polyurethanes prepared from certain phorphorus compounds
US3251785A (en) 1961-02-14 1966-05-17 Socony Mobil Oil Co Inc Flame retardant polyurethane foam and method for forming same
US3746572A (en) 1971-02-23 1973-07-17 Stauffer Chemical Co Process for flame retarding fabrics
DE2559259A1 (de) 1975-12-31 1977-07-14 Dynamit Nobel Ag Silane mit verkappten funktionellen gruppen als haftvermittler
US4087585A (en) 1977-05-23 1978-05-02 Dow Corning Corporation Self-adhering silicone compositions and preparations thereof
JPS5536216A (en) * 1978-09-05 1980-03-13 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Curing of organoalkoxysilane compound
DE2916201A1 (de) 1979-04-21 1980-10-30 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur trimerisierung von diisocyanaten
US4631142A (en) 1979-07-09 1986-12-23 Societe Nationale Elf Aquitaine (Production) Diphosphonic extractants
DE3033860A1 (de) 1980-09-09 1982-04-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Neue isocyanato-isocyanurate, ein verfahren zu ihrer herstellung, sowie ihre verwendung als isocyanatkomponente in polyurethanlacken
DE3440912A1 (de) 1984-11-09 1986-05-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von waermefarbbestaendigen aliphatischen und/oder cycloaliphatischen diisocyanaten und ihre verwendung zur herstellung von farbverbesserten, modifizierten polyisocyanaten
US4547397A (en) * 1984-11-15 1985-10-15 Owens-Illinois, Inc. Tintable scratch resistant coating
JPS62260868A (ja) * 1986-05-07 1987-11-13 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk 被覆組成物
DE3621706A1 (de) 1986-06-28 1988-01-07 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von isocyanatgruppen aufweisenden prepolymeren, die nach diesem verfahren erhaeltlichen prepolymeren und ihre verwendung als bindemittel in einkomponentenlacken
JPH0760282B2 (ja) 1986-10-15 1995-06-28 三田工業株式会社 画像形成装置
US4810820A (en) 1987-08-12 1989-03-07 Mobay Corporation Process for the production of polyisocyanates containing allophanate groups
US4988755A (en) * 1987-12-14 1991-01-29 The B. F. Goodrich Company Passivated rare earth magnet or magnetic material compositions
DE4015155A1 (de) 1990-05-11 1991-11-14 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von isocyanuratpolyisocyanaten, die nach diesem verfahren enthaltenen verbindungen und ihre verwendung
DE4024204A1 (de) 1990-07-31 1992-02-06 Basf Lacke & Farben Ueberzugsmittel auf der basis hydroxylgruppen enthaltender polykondensations- und polyadditionsprodukte sowie deren verwendung
US5124427A (en) 1991-01-22 1992-06-23 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production and their use in two-component coating compositions
CA2072167C (en) 1991-07-22 2001-12-18 Terry A. Potter Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production and their use in two-component coating compositions
DE4129953A1 (de) 1991-09-10 1993-03-11 Bayer Ag Polyisocyanatgemische, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
EP0566037A2 (de) 1992-04-14 1993-10-20 Takeda Chemical Industries, Ltd. Polyisocyanate, ihre Herstellung und Verwendung
US5258482A (en) 1992-06-12 1993-11-02 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production from a mixture of diisocyanates and their use in two-component coating compositions
JP3261737B2 (ja) * 1992-06-12 2002-03-04 東レ株式会社 ポリエステル組成物およびポリエステルフィルム
DE4229183A1 (de) 1992-09-02 1994-03-03 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von niedrigviskosen Isocyanurat- und Urethangruppen enthaltenden Polyisocyanatmischungen
US5728779A (en) 1992-12-01 1998-03-17 Dsm N.V. Powder paint of epoxy-reactive polymer and aliphatic chain-containing polyepoxide
EP0646608B1 (de) 1993-02-12 1999-04-21 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Polyisocyanat, blockiertes polyisocyanat und beschichtungszusammensetzung
US5290902A (en) 1993-06-22 1994-03-01 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production from cyclic diisocyanates and their use in two-component coating compositions
JPH0758249A (ja) * 1993-08-20 1995-03-03 Nitto Denko Corp 半導体装置
US5487638A (en) 1993-10-20 1996-01-30 Eastman Kodak Company Apparatus and method for loading rolls of web into a chamber
DE4344063C1 (de) 1993-12-23 1995-06-08 Herberts Gmbh Wäßrige Bindemitteldispersion für physikalisch trocknende Überzugsmittel und deren Verwendung
DE4426561A1 (de) 1994-07-27 1996-02-01 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Phosphonsäureestern
DE4433206A1 (de) * 1994-09-17 1996-03-21 Goldschmidt Ag Th Verfahren zur pyrolytischen Beschichtung von Glas-, Glaskeramik- und Emailprodukten
CA2163591A1 (en) 1994-12-20 1996-06-21 William E. Slack High viscosity, high equivalent weight polyisocyanate mixtures containing allophanate and isocyanurate groups and their use in coating compositions
DE19650478A1 (de) 1996-12-05 1998-06-10 Daimler Benz Ag Lackiertes metallisches Substrat mit einer korrosionsschützenden Haftschicht auf Basis von Polysäuren und Verfahren zum Aufbringen der Haftschicht
AU6801298A (en) 1997-06-05 1998-12-10 Rohm And Haas Company Coating compositions having extended pot life and shortened cure time and combination of chemicals used therein
NL1007186C2 (nl) 1997-10-01 1999-04-07 Dsm Nv ß-hydroxyalkylamide groepen bevattend condensatiepolymeer.
DE19828935A1 (de) 1998-06-29 1999-12-30 Basf Ag Hochviskose Polyisocyanate enthaltende Zusammensetzungen
DE19832094A1 (de) * 1998-07-16 2000-01-27 Consortium Elektrochem Ind Flammhemmende Dispersionszusammensetzung
EP0976723A3 (de) 1998-07-31 2001-02-07 Daicel Chemical Industries, Ltd. Cycloaliphatische Polyisocyanatverbindung, ein Verfahren zu deren Herstellung, Polyurethan daraus, sowie Klebstoff-Zusammensetzung
US6111001A (en) 1998-11-24 2000-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Compositions containing rheology modifiers with functional group-containing polymers
JP2002533487A (ja) 1998-12-22 2002-10-08 アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ チキソトロピー性アミノホルムアルデヒド樹脂
ATE230783T1 (de) 1999-03-17 2003-01-15 Du Pont Kratzfeste und säurekorrosionsbeständige klarlackzusammensetzung mit hohem feststoffgehalt
GB2349137B (en) 1999-04-22 2003-07-09 Sean St Anthony Mooney Flexible carrier for bottles
DE19924170A1 (de) 1999-05-25 2000-11-30 Basf Coatings Ag Thixotropierungsmittel
US6623791B2 (en) 1999-07-30 2003-09-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved adhesion, coated substrates and methods related thereto
WO2001009260A1 (en) 1999-07-30 2001-02-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
EP1204701B1 (de) 1999-07-30 2005-09-21 PPG Industries Ohio, Inc. Beschichtungszusammensetzungen mit verbesserter kratzfestigkeit und beschichtete oberflächen
EP1228155B1 (de) 1999-07-30 2009-04-08 PPG Industries Ohio, Inc. Flexible beschichtungszusammensetzungen mit verbesserter kratzfestigkeit, beschichtete oberfläche und verfahren zu deren herstellung
CA2380408C (en) 1999-07-30 2008-04-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
DE19938758A1 (de) 1999-08-16 2001-02-22 Basf Coatings Ag Oligomere und Polymere auf der Basis von Diethyloctandiolen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE19948004B4 (de) 1999-10-06 2006-05-11 Basf Coatings Ag Polyurethane und Pfropfmischpolymerisate auf Polyurethanbasis sowie ihre Verwendung zur Herstellung von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und Dichtungsmassen
EP1134266A1 (de) 2000-03-13 2001-09-19 Dsm N.V. Pulverlackzusammensetzung
DE10048615A1 (de) 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Nichtwäßriges, wärmehärtendes Zweikomponenten-Beschichtungsmittel
JP4626736B2 (ja) * 2000-10-04 2011-02-09 Jsr株式会社 環状オレフィン系共重合体を含む光学透明材料および液晶表示基板材料
DE10051485A1 (de) 2000-10-17 2002-04-25 Henkel Kgaa Alkoxysilanhaltige Haftvermittler für Lacke und Klebstoffe auf Metallen
DE10202819C1 (de) 2002-01-25 2003-08-14 Basf Coatings Ag Verwendung von polyhydroxyfunktionalisierten Alkanen als Haftvermittler in Verbunden aus Beschichtung, Klebschicht und Scheibe sowie Verbunde dieser Art, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US6790896B2 (en) 2002-03-18 2004-09-14 The University Of Chicago Composite materials with improved phyllosilicate dispersion
JP2003292887A (ja) * 2002-04-03 2003-10-15 Dainippon Toryo Co Ltd 上塗り塗料
AT412089B8 (de) 2002-10-21 2004-10-25 Surface Specialties Austria Addukte von epoxidharzen und von phosphor abgeleiteten säuren sowie verfahren zu deren herstellung
US20040157980A1 (en) 2003-02-06 2004-08-12 Fox Michael D. Coating composition with improved hardness, mar and etch resistance
EP1475360A1 (de) 2003-05-05 2004-11-10 Sika Technology AG Verwendung von Alkoxygruppen aufweisenden Estern von Phosphor-Sauerstoff-Säuren als Korrosionsschutzmittel für Stahlbeton
US20050074617A1 (en) 2003-10-02 2005-04-07 Jun Lin Clearcoat composition having both windshield sealant and recoat adhesion
CN1285796C (zh) * 2003-12-30 2006-11-22 浙江恒逸集团有限公司 一种含硅膦酸酯阻燃剂及其合成方法
US20050238899A1 (en) 2004-04-27 2005-10-27 Isao Nagata High solids clearcoat compositions containing silane functional compounds
US7078474B2 (en) 2004-07-07 2006-07-18 E. I. Dupont De Nemours And Company Thermally curable coating compositions
DE102004060966A1 (de) 2004-12-17 2006-06-29 Basf Coatings Ag Strukturviskose härtbare Gemische, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE102005045150A1 (de) 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie thermisch härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
DE102005045228A1 (de) 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie silangruppenhaltige, härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
RU2467028C2 (ru) 2006-12-19 2012-11-20 БАСФ Коатингс ГмбХ Покровные средства с высокой стойкостью к царапанью и устойчивостью к атмосферным воздействиям

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3849357A (en) * 1971-06-04 1974-11-19 Stauffer Chemical Co Pigmented masonry water repellent composition containing alkyltrialkoxy silane-alkyl orthosilicate reaction product silicone resin
US4574133A (en) * 1984-01-05 1986-03-04 Bp Chemicals Limited Polymer composition
US20020042461A1 (en) * 2000-10-04 2002-04-11 Jsr Corporation Composition of cyclic olefin addition copolymer and cross-linked material
DE10132654A1 (de) * 2001-03-13 2002-10-31 Fraunhofer Ges Forschung Phosphorhaltige, organisch polymerisierbare Silane und damit hergestellte Kieselsäure-Polykondensate

Cited By (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8013099B2 (en) 2005-09-22 2011-09-06 Basf Coatings Ag Use of phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters and silane group containing, curable mixtures containing phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters
US10294389B2 (en) 2005-09-22 2019-05-21 Basf Coatings Gmbh Use of phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters and thermally curable mixtures containing phosphonic acid diesters and diphosphonic acid diesters
US9018330B2 (en) 2006-05-29 2015-04-28 Basf Coatings Gmbh Use of curable mixtures comprising silane group-containing compounds and phosphonic acid diester or diphosphonic acid diester as adhesives
US8569438B2 (en) 2006-12-19 2013-10-29 Basf Coatings Gmbh Coating agents having high scratch resistance and weathering stability
US9353287B2 (en) 2006-12-19 2016-05-31 Basf Coatings Gmbh Coating agents having high scratch resistance and weathering stability
DE102007013262A1 (de) 2007-03-15 2008-09-18 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel enthaltend Addukte mit Silanfunktionalität und daraus hergestellte hochkratzfeste Beschichtungen mit verbesserter Rissbeständigkeit
US8603587B2 (en) 2007-03-15 2013-12-10 Basf Coatings Gmbh Coating agent containing addition compounds with silane functionality, and highly scratch-resistant coatings with improved crack resistance
US9169405B2 (en) 2007-03-15 2015-10-27 Basf Coatings Gmbh Highly scratch-resistant coatings having good weathering and crack resistance
DE102007013242A1 (de) 2007-03-15 2008-09-18 Basf Coatings Ag Hochkratzfeste Beschichtung mit guter Witterungs- und Rissbeständigkeit
US8138249B2 (en) 2007-03-23 2012-03-20 Basf Coatings Japan Ltd. Phosphonate-containing two-component coating system and the production and use thereof
DE102007015261A1 (de) * 2007-03-27 2008-10-02 Aacure Aadhesives Gmbh Reaktivmasse und Verfahren zur Aufbringung hierfür
WO2009077182A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher kratzbeständigkeit und witterungsstabilität
DE102007061855A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität
US8679589B2 (en) 2007-12-19 2014-03-25 Basf Coatings Gmbh Coating agent having high scratch resistance and high weathering resistance
DE102007061856A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität
WO2009077180A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher kratzbeständigkeit und witterungsstabilität
US8808805B2 (en) 2007-12-19 2014-08-19 Basf Coatings Gmbh Coating agent with high scratch resistance and weathering resistance
CN101952337B (zh) * 2007-12-19 2012-11-14 巴斯夫涂料有限公司 具有高耐刮擦性和耐候性的涂层剂
US9090732B2 (en) 2007-12-19 2015-07-28 Basf Coatings Gmbh Coating composition having a high scratch resistance and weathering stability
DE102007061854A1 (de) 2007-12-19 2009-06-25 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität
RU2502769C2 (ru) * 2007-12-19 2013-12-27 БАСФ Коатингс ГмбХ Покровное средство с высокой стойкостью к царапанью и устойчивостью к атмосферным воздействиям
DE102008030304A1 (de) 2008-06-25 2009-12-31 Basf Coatings Ag Verwendung teilsilanisierter Verbindungen auf Polyisocyanatbasis als Vernetzungsmittel in Beschichtungszusammensetzungen und Beschichtungszusammensetzung enthaltend die Verbindungen
US8658752B2 (en) 2008-06-25 2014-02-25 Basf Coatings Gmbh Use of partially silanized polyisocyanate-based compounds as crosslinking-agents in coating compositions, and coating compositions comprising the compounds
DE102008060454A1 (de) 2008-12-05 2010-06-10 Basf Coatings Ag Beschichtungsmittel und daraus hergestellte Beschichtungen mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität sowie guten optischen Eigenschaften
US8486539B2 (en) 2008-12-05 2013-07-16 Basf Coatings Gmbh Coating compositions and coatings produced from them with high scratch resistance, weathering stability, and good optical properties
DE102009016195A1 (de) 2009-04-03 2010-10-07 Basf Coatings Ag Feuchtigkeitshärtende Beschichtungsmittel auf der Basis aprotischer Lösemittel enthaltend Bindemittel mit Alkoxysilangruppen und deren Verwendung
DE102009030481A1 (de) 2009-06-24 2011-01-05 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte Beschichtungen mit hoher Kratzfestigkeit bei gleichzeitig guten Ergebnissen in der Prüfung der Erichsentiefung und guten Steinschlagschutzeigenschaften
WO2010149236A1 (de) 2009-06-24 2010-12-29 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guten ergebnissen in der prüfung der erichsentiefung und guten steinschlagschutzeigenschaften
US9266995B2 (en) 2009-09-12 2016-02-23 Basf Coatings Gmbh Binding agent mixture, coating agents containing said binding agent mixture, and coatings produced from said coating agents, said coatings having a high scratch resistance, high weathering stability, and good optical properties
DE102009041380A1 (de) 2009-09-12 2011-03-24 Basf Coatings Gmbh Bindemittelmischung und sie enthaltende Beschichtungsmittel sowie daraus hergestellte Beschichtungen mit hoher Kratzbeständigkeit und Witterungsstabilität sowie guten optischen Eigenschaften
WO2011029502A1 (de) 2009-09-12 2011-03-17 Basf Coatings Gmbh Bindemittelmischung und sie enthaltende beschichtungsmittel sowie daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzbeständigkeit und witterungsstabilität sowie guten optischen eigenschaften
DE102010015683A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem Festkörpergehalt und gutem Verlauf sowie daraus hergestellte Mehrschichtlackierungen und deren Verwendung
US9404011B2 (en) 2010-04-21 2016-08-02 Basf Coatings Gmbh Coating agents having improved runoff tendency
WO2011131461A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit verbesserter ablaufneigung
DE102010015675A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit verbesserter Ablaufneigung
WO2011131463A1 (de) 2010-04-21 2011-10-27 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem festkörpergehalt und gutem verlauf sowie daraus hergestellte mehrschichtlackierungen und deren verwendung
US8790752B2 (en) 2010-04-21 2014-07-29 Basf Coatings Gmbh Coating materials with high solids content and good levelling, multicoat paint systems produced therefrom and use thereof
WO2012065942A1 (de) 2010-11-19 2012-05-24 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel mit hohem festkörpergehalt und gutem verlauf sowie daraus hergestellte mehrschichtlackierungen und deren verwendung
US9328257B2 (en) 2010-11-19 2016-05-03 Basf Coatings Gmbh Coating composition having a high solids content and good levelling and also multilayer surface coatings produced therefrom and their use
WO2012098014A1 (de) 2011-01-20 2012-07-26 Basf Coatings Gmbh Wässriges polyurethanbeschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzbeständigkeit und guter chemikalienbeständigkeit
US9777190B2 (en) 2011-01-20 2017-10-03 Basf Coatings Gmbh Aqueous polyurethane coating material and coatings produced therefrom and having high scratch resistance and good chemicals resistance
WO2012168014A1 (de) 2011-06-09 2012-12-13 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guter polierbarkeit sowie deren verwendung
US9909029B2 (en) 2011-06-09 2018-03-06 Basf Coatings Gmbh Coating material compositions, coatings made therefrom and exhibiting high scratch resistance and good polishability, and use thereof
WO2012168079A1 (de) 2011-06-09 2012-12-13 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittelzusammensetzungen und daraus hergestellte beschichtungen mit hoher kratzfestigkeit bei gleichzeitig guter polierbarkeit sowie deren verwendung
EP2676982A1 (de) 2012-06-20 2013-12-25 Evonik Industries AG Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit
WO2013189882A2 (de) 2012-06-20 2013-12-27 Evonik Industries Ag Beschichtungsmittel mit hoher kratzbeständigkeit
WO2014016026A1 (de) 2012-07-25 2014-01-30 Basf Coatings Gmbh Polyurethan-beschichtungsmittelzusammensetzung und ihre verwendung, mehrstufige beschichtungsverfahren
US9631112B2 (en) 2012-07-25 2017-04-25 Basf Coatings Gmbh Polyurethane coating material composition, multi-stage coating methods, and also the use of the coating material composition
EP2735578A1 (de) 2012-11-26 2014-05-28 Evonik Industries AG Beschichtungsmittel mit hoher Kratzbeständigkeit
US10100222B2 (en) 2012-12-03 2018-10-16 Basf Coatings Gmbh Coating material compositions and coatings produced therefrom combining high scratch resistance and good polishability and good optical properties, and use thereof
US10081738B2 (en) 2012-12-03 2018-09-25 Basf Coatings Gmbh Multicoat effect and/or color paint system and method for producing it, and its use
US9982147B2 (en) 2013-12-10 2018-05-29 Basf Coatings Gmbh Aqueous dip-coating composition for electroconductive substrates, comprising bismuth and a phosphorus-containing, amine-blocked compound
EP2896639A1 (de) 2014-01-15 2015-07-22 BASF Coatings GmbH Beschichtete metallisierte Oberflächen
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US10519341B2 (en) 2014-12-08 2019-12-31 Basf Coatings Gmbh Nonaqueous coating material compositions, coatings produced therefrom and having improved adhesion and scratch resistance and also use thereof
US10781338B2 (en) 2015-06-15 2020-09-22 Basf Coatings Gmbh Polyurethane coating material compositions and use thereof for producing multicoat paint systems
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US10633555B2 (en) 2015-09-30 2020-04-28 Evonik Operations Gmbh Isocyanatoalkyl alkoxysilane adducts modified by silicone resins and the use thereof
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WO2017071933A1 (de) 2015-10-29 2017-05-04 Evonik Degussa Gmbh Beschichtungsmittel mit monoallophanaten auf basis von alkoxysilanalkylisocyanaten
EP3162827A1 (de) 2015-10-29 2017-05-03 Evonik Degussa GmbH Beschichtungsmittel mit monoallophanaten auf basis von alkoxysilanalkylisocyanaten
US10538684B2 (en) 2015-10-29 2020-01-21 Evonik Operations Gmbh Coating compositions comprising monoallophanates based on alkoxysilane alkyl isocyanates
WO2017162811A1 (de) 2016-03-23 2017-09-28 Covestro Deutschland Ag Härtbare zusammensetzungen auf basis von alkoxysilangruppen-haltigen prepolymeren
WO2017202692A1 (de) 2016-05-24 2017-11-30 Basf Coatings Gmbh Beschichtungsmittel und daraus hergestellte beschichtungen mit verbesserten anschmutzungsresistenzen und (selbst)reinigungseigenschaften sowie deren verwendung
US11597794B2 (en) 2016-05-24 2023-03-07 Basf Coatings Gmbh Coating compositions and coatings produced therefrom with improved soiling resistance and (self-)cleaning properties and use thereof
US10336856B2 (en) 2016-06-27 2019-07-02 Evonik Degussa Gmbh Alkoxysilane- and allophanate-functionalized coating materials
US10093826B2 (en) 2016-06-27 2018-10-09 Evonik Degussa Gmbh Alkoxysilane-functionalized allophanate-containing coating compositions
EP3263616A1 (de) 2016-06-27 2018-01-03 Evonik Degussa GmbH Alkoxysilan-funktionalisierte allophanat-haltige beschichtungsmittel
EP3263619A1 (de) 2016-06-27 2018-01-03 Evonik Degussa GmbH Alkoxysilan- und allophanat-funktionalisierte beschichtungsmittel
EP3505549A1 (de) 2017-12-28 2019-07-03 Covestro Deutschland AG Silanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis isocyanurat- und allophanatgruppen aufweisender polyisocyanate
WO2019129611A1 (de) 2017-12-28 2019-07-04 Covestro Deutschland Ag Alkoxysilanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis einer mischung von dialkoxy- und trialkoxysilanen
WO2019129489A1 (de) 2017-12-28 2019-07-04 Covestro Deutschland Ag Silanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis isocyanurat- und allophanatgruppen aufweisender polyisocyanate
EP3505548A1 (de) 2017-12-28 2019-07-03 Covestro Deutschland AG Alkoxysilanmodifizierte polyharnstoffverbindungen auf basis einer mischung von dialkoxy- und trialkoxysilanen
US11739212B2 (en) 2017-12-28 2023-08-29 Covestro Deutschland Ag Alkoxy-silane-modified polyurea compounds based on a mixture of dialkoxy and trialkoxy silanes
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WO2022200533A1 (en) 2021-03-26 2022-09-29 Basf Coatings Gmbh Clearcoat compositions for providing clearcoats with no or reduced whitening

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