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DE10159587B4 - Resistance and process for its production - Google Patents

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DE10159587B4
DE10159587B4 DE10159587A DE10159587A DE10159587B4 DE 10159587 B4 DE10159587 B4 DE 10159587B4 DE 10159587 A DE10159587 A DE 10159587A DE 10159587 A DE10159587 A DE 10159587A DE 10159587 B4 DE10159587 B4 DE 10159587B4
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DE
Germany
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copper
resistance
weight
plate
insulating layer
Prior art date
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DE10159587A
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Kenji Okamoto
Kazuhiro Imamura
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

Widerstand umfassend:
eine Widerstandsplatte (2) aus einer elektrischen Widerstandslegierung, die 42,0 bis 48,0 Gewichts-% Nickel, 0,3 bis 2,5 Gewichts-% Mangan, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht, sowie Kupfer enthält, wobei der Gesamtgehalt an Kupfer, Nickel und Mangan nicht weniger als 98 Gewichts-% beträgt und eine Korngrenze der Legierung in Form eines Hohlraums geätzt ist,
eine Harzisolierschicht (3), die auf die Widerstandsplatte (2) geschichtet ist, und
eine metallische Wärmeableitplatte 4, die auf die der Widerstandsplatte (2) abgewandte Seite der Harzisolierschicht (3) geschichtet ist.Resistance comprising:
an electrical resistance alloy resistance plate (2) containing 42.0 to 48.0% by weight of nickel, 0.3 to 2.5% by weight of manganese, each based on the total weight, and copper, the total content of copper , Nickel and manganese is not less than 98% by weight and a grain boundary of the alloy is etched in the form of a cavity,
a resin insulating layer (3) laminated on the resistance plate (2), and
a metallic heat dissipation plate 4 laminated on the side of the resin insulating layer (3) facing away from the resistance plate (2).

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Strommeßwiderstand zur Verwendung bei einem Stromrichter, etwa einem Wechselrichter.The The present invention relates to a current measuring resistor for use in a power converter, such as an inverter.

Bei Stromrichtern wie Wechselrichtern oder Leistungsmodulen mit einem IGBT oder ähnlichem wird zur genauen Messung eines hohen Stroms von bis zu 400 A ein 0,1 bis 100 mΩ Widerstand hoher Genauigkeit verwendet. Dabei muß dafür gesorgt werden, daß die infolge des hohen Stroms von dem Widerstand erzeugte Wärme abgeleitet wird. Zu diesem Zweck wird ein Widerstand eingesetzt, bei dem gemäß Darstellung in 1 eine Widerstandsplatte 2 aus einer Widerstandslegierung unter Zwischenlage einer Harzisolierschicht 3 auf eine metallische Wärmeableitplatte 4 geschichtet ist. Solch ein aus drei Schichten zusammengesetzter Widerstand ist in der JP 3-16799B und der JP 10-149901A offenbart.In converters such as inverters or power modules with an IGBT or the like, a 0.1 to 100 mΩ high accuracy resistor is used to accurately measure a high current of up to 400A. It must be ensured that the heat generated by the resistor due to the high current is dissipated. For this purpose, a resistor is used, in which, as shown in FIG 1 a resistance plate 2 of a resistance alloy with the interposition of a Harzisolierschicht 3 on a metallic heat dissipation plate 4 is layered. Such a resistor composed of three layers is disclosed in JP 3-16799B and JP 10-149901A.

Eine Kupfer-Mangan-Legierung, eine Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung oder eine Kupfer-Nickel-Legierung mit hohem spezifischen Widerstand wird als Widerstandslegierung zur Messung eines elektrischen Stroms mit hoher Genauigkeit verwendet. Die Warenbezeichnung Manganin ist als Beispiel einer Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung bekannt. Warennamen wie Advance oder Ideal mit kleinen Mengen an Mn, Fe und Si sowie Konstantan sind als Beispiele für die Kupfer-Nickel-Legierung bekannt.A Copper-manganese alloy, a copper-manganese-nickel alloy or a copper-nickel alloy High resistivity is called resistance alloy used for measuring an electric current with high accuracy. The trade name manganin is an example of a copper-manganese-nickel alloy known. Trade names like Advance or Ideal with small amounts on Mn, Fe and Si as well as constantan are known as examples of the copper-nickel alloy.

Der oben beschriebene Schichtwiderstand ist jedoch mit folgenden Problemen behaftet.Of the however, the above-described sheet resistance has the following problems afflicted.

2 zeigt den Verlauf des Temperaturkoeffizienten des Widerstands von Manganin (mit 85 % Kupfer, 12 % Mangan, 2 % Nickel und 1 % Eisen) als einer typischen Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung, sowie von der Kupfer-Nickel-Legierung (mit 54,5 % Kupfer, 43,7 % Nickel und 1,8 % Mangan). Im Fall der Kupfer-Mangan-Legierung oder der Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung, die im großen Ausmaß eingesetzt wird, ist der Absolutwert des Temperaturkoeffizienten des Widerstands mit 10 ppm/°C oder weniger innerhalb eines Temperaturbereichs von Raumtemperatur bei etwa 60°C außerordentlich klein, steigt jedoch bei Temperaturen außerhalb dieses Bereichs, also unterhalb und oberhalb des Bereichs, an. Im Gegensatz dazu beträgt der Absolutwert des Temperaturkoeffizienten des Widerstands der Kupfer-Nickel-Legierung nahezu konstant 15 ppm/°C oder weniger unabhängig von der Temperatur. Stromrichter, bei denen die Temperatur über 100°C steigt, erfordern daher den Einsatz der Kupfer-Nickel-Legierung, deren Temperaturkoeffizient des Widerstands bei hoher Umgebungstemperatur gering ist. 2 shows the course of the temperature coefficient of resistance of manganin (with 85% copper, 12% manganese, 2% nickel and 1% iron) as a typical copper-manganese-nickel alloy, as well as the copper-nickel alloy (with 54, 5% copper, 43.7% nickel and 1.8% manganese). In the case of the copper-manganese alloy or the copper-manganese-nickel alloy which is widely used, the absolute value of the temperature coefficient of resistance at 10 ppm / ° C or less within a temperature range of room temperature is about 60 ° C extremely small, but increases at temperatures outside this range, ie below and above the range. In contrast, the absolute value of the temperature coefficient of resistance of the copper-nickel alloy is almost constant 15 ppm / ° C or less regardless of the temperature. Power converters, where the temperature rises above 100 ° C, therefore require the use of the copper-nickel alloy whose temperature coefficient of resistance at high ambient temperature is low.

Wenn die Widerstandsplatte 2 Strom führt, wird Joulsche Wärme erzeugt. Damit der Strom korrekt gemessen wird, muß der Stromrichter den Temperaturanstieg dieser Widerstandsplatte 2 so steuern, daß ein Temperaturanstieg innerhalb des Stromrichters infolge dieser erzeugten Wärme verhindert wird. Der Schichtwiderstand strahlt die erzeugte Wärme über die Harzisolierschicht 3 ab und wird dadurch gekühlt. Deshalb sollte die Wärmeleitfähigkeit der Harzisolierschicht 3 so hoch wie möglich sein.When the resistance plate 2 Current leads, Joule heat is generated. For the current to be measured correctly, the power converter must monitor the temperature rise of this resistance plate 2 control so that a temperature rise within the converter is prevented as a result of this heat generated. The sheet resistance radiates the generated heat via the resin insulating layer 3 and is thereby cooled. Therefore, the heat conductivity of the resin insulating layer should be 3 be as high as possible.

Das Zusetzen größerer Mengen an anorganischem Füllstoff ist für die Erhöhung der Wärmeleitfähigkeit vorteilhaft. Die Menge an anorganischem Füllstoff, die zum Harzmaterial beim herkömmlichen Schichtwiderstand zugesetzt wird, beträgt maximal 70 Gewichts-%, und der Widerstand weist eine niedrige Wärmeleitfähigkeit und einen hohen Wärmewiderstand auf. Die Kühleigenschaften sind daher nicht zufriedenstellend. Ein Harzmaterial, dem 80 bis 90 Gewichts-% anorganischer Füllstoff zugesetzt sind, um die Wärmeabstrahleigenschaft zu verbessern, weist eine größere Kontaktfläche zwischen dem Füllstoff und der Metallfläche auf, was die Haftung mit der Widerstandsplatte 2 verschlechtert. Zur Verbesserung der Haftung wird die Haftfläche gewöhnlich aufgerauht. Eine elektrolytische Kupferfolie oder ähnliches zur Verwendung bei einer gedruckten Leiterplatte wird auf eine Tiefe von 5 bis 15 μm aufgerauht. Selbst ein stark versetztes Harzmaterial mit 80 bis 90 Gewichts-% anorganischem Füllstoff hat einen starken Ankereffekt. Im Fall einer gerollten Kupferfolie mit einer glatten Fläche, werden in einem sogenannten Schwärzungsprozeß Nadelkristalle aus oxidiertem Kupfer zum Aufrauhen der Oberfläche auf der Oberfläche ausgebildet. Kürzlich wurde die Oberfläche von Kupfer über eine Tiefe von etlichen μm in einem sogenannten Mikro-Ätzprozeß aufgerauht.The addition of larger amounts of inorganic filler is advantageous for increasing the thermal conductivity. The amount of inorganic filler added to the resin material in the conventional sheet resistance is at most 70% by weight, and the resistor has a low heat conductivity and a high heat resistance. The cooling properties are therefore not satisfactory. A resin material to which 80 to 90% by weight of inorganic filler is added to improve the heat-radiating property has a larger contact area between the filler and the metal surface, resulting in adhesion with the resistance plate 2 deteriorated. To improve adhesion, the adhesive surface is usually roughened. An electrolytic copper foil or the like for use in a printed circuit board is roughened to a depth of 5 to 15 μm. Even a highly-dispersed resin material having 80 to 90% by weight of inorganic filler has a strong anchor effect. In the case of a rolled copper foil having a smooth surface, in a so-called blackening process, needles of oxidized copper are formed for roughening the surface on the surface. Recently, the surface of copper was roughened over a depth of several microns in a so-called micro-etching process.

Eine gerollte Platte, die als Widerstandsplatte 2 zur Verwendung bei herkömmlichen Schichtwiderständen dient, weist eine glatte Oberfläche auf. Aus diesem Grund kann die Oberfläche nicht aufgerauht werden, es sei denn der Aufrauhprozeß wird wie im Fall einer gerollten Folie ausgeführt. Wie bei der gerollten Kupferfolie kann die oben erwähnte Kupfer-Mangan-Legierung oder Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung leicht geschwärzt oder mikrogeätzt werden, da sie mit 82 bis 85 % eine große Menge an Kupfer beinhaltet. Dagegen kann die Kupfer-Nickel-Legierung, deren Temperaturkoeffizient des Widerstands innerhalb eines weiten Temperaturbereichs auf niedrigem Wert konstant ist, nur schwer oxidiert werden, weshalb es schwierig ist, die Kupfer-Nickel-Legierung so aufzurauhen, wie die Kupfer-Mangan-Legierung oder die Kupfer-Mangan-Nickel-Legierung.A rolled plate used as a resistance plate 2 for use with conventional sheet resistors, has a smooth surface. For this reason, the surface can not be roughened unless the roughening process is carried out as in the case of a rolled sheet. As with the rolled copper foil, the above-mentioned copper-manganese alloy or copper-manganese-nickel alloy can be easily blackened or microetched since it contains a large amount of copper at 82 to 85%. In contrast, the copper-nickel alloy, whose temperature coefficient of resistance is constant within a wide temperature range at a low level, is difficult to be oxidized, and therefore it is difficult to control the Kup To roughen fer-nickel alloy as the copper-manganese alloy or the copper-manganese-nickel alloy.

Wenn der Widerstand zur besseren Kühlung direkt auf eine auf Erdpotential befindliche Metallplatte eines Leistungsmoduls montiert wird, liegt die Schaltungsspannung des Stromrichters an der Harzisolierschicht 3 an. Diese Spannung kann einen Spitzenwert von maximal 1000 V erreichen. Folglich muß die Harzisolierschicht eine hohe dielektrische Festigkeit aufweisen und für einen langen Zeitraum behalten.When the resistor is mounted directly on an earth potential metal plate of a power module for better cooling, the circuit voltage of the power converter is applied to the resin insulating layer 3 at. This voltage can reach a peak of maximum 1000V. Consequently, the resin insulating layer must have a high dielectric strength and be retained for a long period of time.

Die US 5,469,131 A offenbart einen Widerstandskörper zur Messung von Überstrom, der in Form eines Widerstandsmusters auf einem Harzfilm ausgebildet ist. Als Beispiele für das Material des Widerstandsmusters sind angegeben: eine Cu-Ni Legierung aus 55 Gew.-% Cu und 45 Gew.-% Ni mit einem Widerstands-Temperaturkoeffizienten von 15 ppm; eine Legierung aus 58 Gew.-% Cu und 42 Gew.-% Ni mit einem Widerstands-Temperaturkoeffizienten von etwa Null; eine Cu-MN Legierung aus 50 bis 80 Gew.-% Cu und 12 bis 30 Gew.-% Mn mit einem Widerstands-Temperaturkoeffizienten von 1 ppm; eine Cu-Ni Legierung aus 50 bis 80 Gew.-% Cu und 2 bis 16 Gew.-% Ni mit einem Widerstands-Temperaturkoeffizienten von 1 ppm; und eine Ni-Cr Legierung, die ebenfalls einen niedrigen Widerstands-Temperaturkoeffizienten aufweist.The US 5,469,131 A discloses a resistance body for measuring overcurrent formed in the form of a resistance pattern on a resin film. As examples of the material of the resistance pattern are given: a Cu-Ni alloy of 55 wt .-% Cu and 45 wt .-% Ni with a resistance temperature coefficient of 15 ppm; an alloy of 58 wt% Cu and 42 wt% Ni with a resistance temperature coefficient of about zero; a Cu-MN alloy of 50 to 80 wt% Cu and 12 to 30 wt% Mn having a resistance temperature coefficient of 1 ppm; a Cu-Ni alloy of 50 to 80% by weight of Cu and 2 to 16% by weight of Ni having a resistance temperature coefficient of 1 ppm; and a Ni-Cr alloy also having a low resistance temperature coefficient.

Die JP 11-245328 A offenbart einen Meßwiderstand für Überstrom mit einem spezifischen Volmenwiderstand von 0,1 bis 0,8 μΩ·m, der auf eine oder beide Seiten einer Keramikplatte, insbesondere eine Aluminumnitrid-Platte eine Dicke von 0.3 to 2 mm gelötet ist, deren Wärmeleitfähigkeit 100 W/mK oder mehr beträgt. Als Widerstandsmaterial werden eine Cu-Mn Legierung, eine Cu-Ni Legierung und eine Cu-Mn-Ni Legierung vorgeschlagen. Der Mn-Anteil liegt bei 0.5 bis 13 Gew.-% und der Ni-Anteil bei 1 bis 48 Gew.-%.The JP 11-245328 A discloses a measuring resistor for overcurrent with a specific volume resistivity of 0.1 to 0.8 μΩ · m, the on one or both sides of a ceramic plate, in particular a Aluminum nitride plate is soldered a thickness of 0.3 to 2 mm, their thermal conductivity 100 W / mK or more. When Resistor material becomes a Cu-Mn alloy, a Cu-Ni alloy and proposed a Cu-Mn-Ni alloy. The Mn share is included 0.5 to 13 wt .-% and the Ni content at 1 to 48 wt .-%.

Die JP 2000-031643 A beschreibt eine Mehrschicht-Leiterplatte mit einer leitenden Unterschicht, auf der sich eine isolierende Harz-Zwischenschicht befindet. Die Unterschicht besitzt eine mittels eines Ätzmittels aufgerauhte Oberfläche, auf die ein Metal aus der Gruppe Titan, Aluminium, Zink, Eisen, Indium, Thallium, Kobalt, Nickel, Zinn, Blei, Bismut, und Edelmetallen geschichtet ist. Erst auf diesem Metall befindet sich die Zwischenschicht.The JP 2000-031643 A describes a multilayer printed circuit board with a conductive underlayer, on which is an insulating resin interlayer located. The lower layer has a roughened by means of an etchant Surface, on the one metal from the group titanium, aluminum, zinc, iron, Indium, thallium, cobalt, nickel, tin, lead, bismuth, and precious metals is layered. Only on this metal is the intermediate layer.

Die DE 196 46 441 A1 offenbart einen elektrischen Widerstand mit einer aus einer Widerstandslegierung bestehenden Metallfolie, einem aus gut wärmeleitfähigem Metall bestehenden Substrat und einer zwischen der Widerstandsfolie und dem Substrat befindlichen und diese fest miteinander verbindenden Klebeschicht aus einem mit Pulver aus wärmeleitfähigem Isoliermaterial gefüllten Kunststoffmaterial.The DE 196 46 441 A1 discloses an electrical resistor comprising a metal foil made of a resistance alloy, a substrate made of good thermal conductivity metal, and an adhesive layer of a plastic material filled with powder of thermally conductive insulating material located between the resistor foil and the substrate and firmly bonded together.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Schichtwiderstand der genannten Art so auszubilden, daß eine hohe Haftfestigkeit zwischen einer Widerstandsplatte aus einer Kupfer-Nickel-Legierung und einem wärmeleitenden Harzmaterial besteht, und der einen niedrigen spezifischen Wärmewiderstand, ausgezeichnete Kühleigenschaften und ausgezeichnete Isoliereigenschaften aufweist.task The present invention is a sheet resistance of said Kind so that a high adhesive strength between a copper-nickel alloy resistor plate and a thermally conductive Resin material exists, and the low specific thermal resistance, excellent cooling properties and has excellent insulating properties.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Widerstand zur Verwendung bei einem Stromrichter zu schaffen, der einen geringen Temperaturkoeffizienten innerhalb eines weiten Temperaturbereichs, eine hohe Genauigkeit bei der Strommessung, eine hohe Haftfestigkeit zwischen einer Widerstandsplatte und einer wärmeleitenden Harzplatte, eine hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Kühleigenschaften und ausgezeichnete Isoliereigenschaften aufweist.A Another object of the present invention is to provide a resistor to provide for use in a power converter, which has a low Temperature coefficients within a wide temperature range, a high accuracy in the current measurement, a high adhesive strength between a resistance plate and a thermally conductive resin plate, a high thermal conductivity, excellent cooling properties and has excellent insulating properties.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch einen Widerstand gemäß Patentanspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.These Task is achieved by a resistor according to claim 1 solved. Advantageous developments of the invention are the subject of the dependent claims.

In einer bevorzugten Ausführungsform besteht der erfindungsgemäße Widerstand aus einer Widerstandsplatte aus einer elektrischen Widerstandslegierung und einer metallischen Wärmeableitplatte, die unter Zwischenlage einer Harzisolierschicht aufeinandergeschichtet sind, wobei die Widerstandslegierung 42,0 bis 48,0 Gewichts-% Nickel, 0,3 bis 2,5 Gewichts-% Mangan sowie Kupfer bezogen auf das Gesamtgewicht enthält, wobei der gesamte Gehalt an Kupfer, Nickel und Mangan nicht weniger als 98 Gewichts-% beträgt, die Widerstandsplatte eine Dicke von 1 mm oder mehr aufweist und ihre Korngrenzen zur Bildung einer konkaven Form geätzt sind, so daß sie an der Harzisolierschicht anhaften kann.In a preferred embodiment is the resistance of the invention from a resistance plate of an electrical resistance alloy and a metallic heat sink, which are stacked with the interposition of a Harzisolierschicht wherein the resistance alloy is 42.0 to 48.0% by weight nickel, 0.3 to 2.5% by weight manganese and copper based on the total weight contains the total content of copper, nickel and manganese is not less is 98% by weight, the resistance plate has a thickness of 1 mm or more and their grain boundaries are etched to form a concave shape, so that you can adhere to the resin insulating layer.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:embodiments The invention will be described below with reference to the drawings explained in more detail. It demonstrate:

1 eine Schnittansicht des Widerstands, und 1 a sectional view of the resistor, and

2 eine graphische Darstellung des Zusammenhangs zwischen der Umgebungstemperatur und dem Temperaturkoeffizienten einer Kupfer-Mangan-Legierung und einer Kupfer-Nickel-Legierung, 2 a graphical representation of the relationship between the ambient temperature and the temperature coefficient of a copper-manganese alloy and a copper-nickel alloy,

Eine Kupfer-Nickel-Legierung zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung ist eine Legierung mit 40 bis 50 Gewichts-% Nickel und 60 bis 50 Gewichts-% Kupfer jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der Legierung. Bevorzugter ist eine Kupfer-Nickel-Legierung mit 42,0 bis 48,0 Gewichts-% Nickel und 58,0 bis 52,0 Gewichts-% Kupfer. Die Kupfer-Nickel-Legierung umfaßt hauptsächlich Kupfer und Nickel, es können aber geringe Mengen anderer Metalle (z. B. Mn, Fe und Si) enthalten sein, solange der Absolutwert des Temperaturkoeffizienten des Widerstands nicht erhöht wird. Beispielsweise enthält die Kupfer-Nickel-Legierung zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung 42,0 bis 48,0 Gewichts-% Nickel, 0,3 bis 0,5 Gewichts-% Mangan sowie Kupfer, wobei der Gesamtgehalt an Kupfer, Nickel und Mangan nicht weniger als 98 Gewichts-% beträgt. Die Kupfer-Nickel-Legierung mit dieser Zusammensetzung besitzt einen Temperaturkoeffizienten des Widerstands innerhalb des Bereichs von ± 20 ppm/°C und noch besser –15 bis +15 ppm/°C in einem Temperaturbereich zwischen –50°C und 200°C.A Copper-nickel alloy for use in the present invention is an alloy with 40 to 50% by weight of nickel and 60 to 50 Weight% of copper in each case based on the total weight of the alloy. More preferably, a copper-nickel alloy is 42.0 to 48.0% by weight. Nickel and 58.0 to 52.0% by weight copper. The copper-nickel alloy comprises mainly Copper and nickel, it can but contain small amounts of other metals (eg Mn, Fe and Si) be as long as the absolute value of the temperature coefficient of resistance not increased becomes. For example, contains the copper-nickel alloy for use in the present invention Invention 42.0 to 48.0% by weight nickel, 0.3 to 0.5% by weight Manganese and copper, the total content of copper, nickel and Manganese is not less than 98% by weight. The copper-nickel alloy with this composition has a temperature coefficient of the resistance within the range of ± 20 ppm / ° C, and more preferably -15 to +15 ppm / ° C in a temperature range between -50 ° C and 200 ° C.

Gemäß der vorliegenden Erfindung hat die elektrische Widerstandsplatte 2 aus der Kupfer-Nickel-Legierung eine Dicke von 0,1 mm oder mehr, noch besser 0,1 bis 0,5 mm.According to the present invention, the electrical resistance plate 2 from the copper-nickel alloy has a thickness of 0.1 mm or more, more preferably 0.1 to 0.5 mm.

Die Widerstandsplatte 2 aus der Kupfer-Nickel-Legierung gemäß der vorliegenden Erfindung wird vorzugsweise unter Verwendung eines organischen Säureätzmittels aufgerauht. Beispiele organischer Säuren zur Verwendung in dem organischen Säureätzmittel gemäß der Erfindung sind gesättigte Fettsäuren wie Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure, Buttersäure, Valeriansäure und Capronsäure, ungesättigte Fettsäuren wie Acrylsäure, Crotonsäure und Isocrotonsäure; aliphatische gesättigte Dicarbonsäuren wie Oxalsäure, Malonsäure, Succinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure und Pimelinsäure, aliphatische ungesättigte Dicarbonsäuren wie Maleinsäure; aromatische Karbonsäuren wie Benzoesäure, Phthalsäure und Zinnamonsäure; Oxycarbonsäuren wie Glycolsäure, Milchsäure, Äpfelsäure und Zitronensäure; Kohlensäure mit Substituent wie Sulfaminsäure, β-Chlorpropionsäure, Nikotinsäure, Ascorbinsäure, Hydroxypivalinsäure, Lävulinsäure; und Derivate dieser Säuren. Diese organischen Säuren können einzeln oder in Kombination eingesetzt werden. Vorzugsweise wird die Ameisensäure als Material für das organische Ätzmittel gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet. Bedarfsweise kann das organische Säureätzmittel Zusätze (z. B. eine zweite Kupferionenquelle und eine Halogenionenquelle) enthalten. Vorzugsweise ist das organische Säureätzmittel zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung eine wäßrige Lösung, die eine Kombination aus einer organischen Säure, der zweiten Kupferionenquelle und der Halogenionenquelle mit 10 bis 20 Gewichts-% aufweist und einen pH-Wert von 3,0 bis 3,5 besitzt.The resistance plate 2 The copper-nickel alloy according to the present invention is preferably roughened using an organic acid etchant. Examples of organic acids for use in the organic acid etchant according to the invention are saturated fatty acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid and caproic acid, unsaturated fatty acids such as acrylic acid, crotonic acid and isocrotonic acid; aliphatic saturated dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid and pimelic acid, aliphatic unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, phthalic acid and stannic acid; Oxycarboxylic acids such as glycolic acid, lactic acid, malic acid and citric acid; Carbonic acid with substituents such as sulfamic acid, β-chloropropionic acid, nicotinic acid, ascorbic acid, hydroxypivalic acid, levulinic acid; and derivatives of these acids. These organic acids may be used singly or in combination. Preferably, the formic acid is used as the material for the organic etchant according to the present invention. If desired, the organic acid etchant may contain additives (eg, a second copper ion source and a halogen ion source). Preferably, the organic acid etchant for use in the present invention is an aqueous solution having a combination of an organic acid, the second copper ion source and the halogen ion source at 10 to 20% by weight, and a pH of 3.0 to 3.5 has.

Der Aufrauhprozeß wird normalerweise 30 s bis 3 min lang abhängig von Art und Konzentration des eingesetzten organischen Säureätzmittels ausgeführt. Normalerweise erfolgt das Aufrauhen durch Aufstrahlen eines Ätzmittels mit einem Strahldruck von 0,15 bis 0,2 MPa bei einer Temperatur im Bereich von 25 bis 40°C, noch besser im Bereich von 30 bis 40°C.Of the Roughening process becomes usually for 30 seconds to 3 minutes depending on the type and concentration of the organic acid etchant used executed. Normally, the roughening is done by irradiating an etchant with a jet pressure of 0.15 to 0.2 MPa at one temperature in the range of 25 to 40 ° C, still better in the range of 30 to 40 ° C.

Der oben beschriebene Aufrauhprozeß bildet einen konkaven Hohlraum mit einer Tiefe von etlichen μm längs einer Kristallgrenze der Kupfer-Nickel-Legierung. Insbesondere wird die Oberfläche der Kupfer-Nickel-Legierung aufgerauht, was nachfolgend die Haftfähigkeit gegenüber der Harzisolierschicht 3 verbessert.The roughening process described above forms a concave cavity having a depth of several μm along a crystal boundary of the copper-nickel alloy. In particular, the surface of the copper-nickel alloy is roughened, resulting in adhesiveness to the resin insulating layer 3 improved.

Die Harzisolierschicht 3 zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung umfaßt Epoxyharz mit einem anorganischen Füllstoff. Die Harzisolierschicht 3 muß eine hohe Wärmeleitfähigkeit (niedrigen Wärmewiderstand) aufweisen, um wirkungsvoll Wärme von der elektrischen Widerstandsplatte 2 zur metallischen Wärmeableitplatte 4 zu übertragen. Zur Realisierung der hohen Wärmeleitfähigkeit enthält die Harzisolierschicht 3 gemäß der Erfindung 71 bis 95 Gewichts-% des anorganischen Füllstoffs (bezogen auf das Gesamtgewicht der Harzisolierschicht), und noch besser 71 bis 90 Gewichts-%.The resin insulating layer 3 for use in the present invention includes epoxy resin with an inorganic filler. The resin insulating layer 3 Must have a high thermal conductivity (low thermal resistance) to effectively heat from the electrical resistance plate 2 to the metallic heat dissipation plate 4 transferred to. To realize the high thermal conductivity, the resin insulating layer contains 3 According to the invention, 71 to 95% by weight of the inorganic filler (based on the total weight of the resin insulating layer), and more preferably 71 to 90% by weight.

Das Epoxyharz zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung umfaßt Bisphenol-A-Epoxyharz oder eine Mischung aus Bisphenol-A-Epoxyharz und Phenol-Novolakharz. Der anorganische Füllstoff zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung umfaßt SiO2, Al2O3, BN, AlN, MgO oder eine Mischung aus diesen Stoffen.The epoxy resin for use in the present invention includes bisphenol A epoxy resin or a mixture of bisphenol A epoxy resin and phenol novolak resin. The inorganic filler for use in the present invention includes SiO 2 , Al 2 O 3 , BN, AlN, MgO or a mixture of these substances.

Die Harzisolierschicht 3 gemäß der Erfindung kann als Dispersionsflüssigkeit oder -lösung zur Beschichtung der Widerstandslegierungsschicht 2 oder der Wärmeableitplatte 4 bereitgestellt werden. Methylethylketon oder Toluol können als Lösungsmittel eingesetzt werden.The resin insulating layer 3 According to the invention may be used as a dispersion liquid or solution for coating the resistance alloy layer 2 or the heat dissipation plate 4 to be provided. Methyl ethyl ketone or toluene can be used as solvent.

Wie schon angegeben, kann, wenn der Widerstand der vorliegenden Erfindung direkt auf eine auf Erdpotential liegende Metallplatte eines Leistungsmoduls montiert wird, maximal eine Spannung von etwa 1000 Vp (Spitzenspannung) an der Harzisolierschicht 3 anliegen. Folglich muß die Harzisolierschicht eine hohe dielektrische Festigkeit aufweisen und diese für eine lange Zeit behalten. Außerdem muß die Harzisolierschicht 3 ein besonders gutes Haftvermögen bezuglich der Widerstandsplatte 2 und der Wärmeableitplatte 4 aufweisen. Zur Erfüllung dieser Erfordernisse weist die Harzisolierschicht 3 eine Dicke von 50 bis 200 μm, vorzugsweise von 50 bis 150 μm auf. Die Harzisolierschicht 3 besitzt eine dielektrische Festigkeit von 500 kVeff (Effektivspannung) oder mehr und vorzugsweise von 6 kVeff oder mehr. Aufgrund dieser dielektrischen Festigkeit unterliegt der Widerstand gemäß der Erfindung über lange Zeit keinem Durchbruch, selbst wenn er direkt auf eine auf Erdpotential liegende Metallplatte eines Leistungsmoduls montiert wird.As already stated, when the resistor of the present invention is mounted directly on a grounded metal plate of a power module, a maximum of about 1000 Vp (peak voltage) can be applied to the resin insulating layer 3 issue. Consequently, the resin insulating layer must have a high dielectric strength and keep it for a long time. In addition, the resin insulating layer must 3 a particularly good adhesion with respect to the resistance plate 2 and the heat dissipation plate 4 exhibit. To meet these requirements, the Harzisolierschicht 3 a thickness of 50 to 200 .mu.m, preferably from 50 to 150 .mu.m. The resin insulating layer 3 has a dielectric strength of 500 kV eff (effective voltage) or more, and preferably 6 kV rms or more. Due to this dielectric strength, the resistor according to the invention does not undergo breakdown for a long time, even when mounted directly on a ground plane metal plate of a power module.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Metallplatte aus Kupfer oder Aluminium mit einer hohen Wärmeleitfähigkeit vorzugsweise als metallische Wärmeableitplatte 4 verwendet. Ähnlich der Widerstandsplatte 2 muß die Oberfläche der Wärmeableitplatte 4, die mit der Harzisolierschicht 3 verbunden wird, aufgerauht werden, damit eine gute Haftung mit dem wärmeleitenden Harz der Harzisolierschicht 3 gewährleistet wird. Die Oberfläche der Wärmeableitplatte 4 kann auf herkömmliche Weise unabhängig vom Material aufgerauht werden. Wenn Kupfer verwendet wird, kann die Oberfläche durch einen als Schwärzungsprozeß bezeichneten Oxidationsprozeß aufgerauht werden, bei dem Nadelkristalle gebildet werden. Wenn Aluminium verwendet wird, kann ein anodischer Oxidbeschichtungsprozeß die Oberfläche aufrauhen. Außerdem kann eine Kühlrippe oder ein Prisma auf der der Harzisolierschicht 3 abgewandten Seite der Wärmeableitplatte 4 vorgesehen sein, um die Oberfläche zur Erhöhung der Wärmeabstrahlwirkung zu vergrößern.According to the present invention, a metal plate of copper or aluminum having a high heat conductivity is preferably used as a metallic heat dissipation plate 4 used. Similar to the resistance plate 2 must be the surface of the heat dissipation plate 4 that with the resin insulating layer 3 is roughened, so that good adhesion with the thermally conductive resin of the resin insulating layer 3 is guaranteed. The surface of the heat dissipation plate 4 can be roughened in a conventional manner regardless of the material. When copper is used, the surface may be roughened by an oxidation process called a blackening process in which needle crystals are formed. When aluminum is used, an anodic oxide coating process can roughen the surface. In addition, a cooling fin or a prism may be formed on the resin insulating layer 3 opposite side of the heat dissipation plate 4 be provided to increase the surface area for increasing the heat radiation effect.

Die Harzisolierschicht 3 kann mit der Widerstandsplatte 2 und der Wärmeableitplatte 4 durch Heißpressen verbunden werden. Die Harzisolierschicht 3, die auf die Wärmeableitplatte 4 geschichtet und bis zum halbausgehärteten Zustand getrocknet wird, wird auf die Widerstandsplatte 2 geschichtet, so daß sie während des Heißpressens an dieser anhaftet. Alternativ wird die Widerstandsplatte 2 mit der Harzisolierschicht 3 beschichtet, letztere dann bis zum halbausgehärteten Zustand getrocknet und dann auf die Wärmeableitplatte 4 geschichtet, um an dieser während des Heißpressens anzuhaften. Alternativ ist es möglich, ein Harzisolierschicht-Spenderblatt zu verwenden, das durch Beschichten eines Zwischenträgers (etwa aus PET) mit der Harzisolierschicht 3 und deren nachfolgendes Trocknen bis zum halbgehärteten Zustand hergestellt wird. In diesem Fall wird das Spenderblatt mit der Harzisolierschicht 3 auf die Widerstandsplatte 2 oder die Wärmeableitplatte 4 gebracht, so daß die Harzisolierschicht 3 in engen Kontakt mit der Widerstandsplatte 2 bzw. der Wärmeableitplatte 4 kommt. Die Harzisolierschicht 3 wird dann vorübergehend durch Anwenden von Hitze oder von ähnlichem an die Widerstandsplatte 2 bzw. die Wärmeableitplatte 4 angeheftet. Der Zwischenträger wird dann von der Harzisolierschicht 3 abgelöst, wodurch ein Laminat aus der Harzisolierschicht 3 und der Widerstandsplatte 2 bzw. der Wärmeableitplatte 4 gebildet wird. Die Wärmeableitplatte 4 bzw. die Widerstandsplatte 3 wird dann auf dieses Laminat geschichtet, und beide dann durch Heißpressen zur Bildung des Widerstands gemäß der vorliegenden Erfindung miteinander verbunden. Während des Verbindens wird ein Druck von 4,9 MPa (50 kp/cm2) bei einer Temperatur von 180°C über 60 min aufgebracht.The resin insulating layer 3 can with the resistance plate 2 and the heat dissipation plate 4 be connected by hot pressing. The resin insulating layer 3 on the heat sink 4 layered and dried to semi-cured state, is applied to the resistance plate 2 layered so that it adheres to it during the hot pressing. Alternatively, the resistance plate 2 with the resin insulating layer 3 The latter is then dried to semi-cured state and then onto the heat sink 4 layered to adhere to this during hot pressing. Alternatively, it is possible to use a resin insulating layer donor sheet by coating an intermediate carrier (such as PET) with the resin insulating layer 3 and their subsequent drying is made to the semi-cured state. In this case, the donor sheet becomes the resin insulating layer 3 on the resistance plate 2 or the heat dissipation plate 4 brought so that the resin insulating layer 3 in close contact with the resistance plate 2 or the heat dissipation plate 4 comes. The resin insulating layer 3 then temporarily by applying heat or the like to the resistance plate 2 or the heat dissipation plate 4 attached to. The intermediate carrier is then removed from the resin insulating layer 3 peeled off, thereby forming a laminate of the resin insulating layer 3 and the resistance plate 2 or the heat dissipation plate 4 is formed. The heat dissipation plate 4 or the resistance plate 3 is then coated on this laminate, and then both joined together by hot pressing to form the resistor according to the present invention. During bonding, a pressure of 4.9 MPa (50 kgf / cm 2 ) is applied at a temperature of 180 ° C for 60 minutes.

Schließlich wird die Kupfer-Nickel-Platte, die als Widerstandsplatte 2 dient, in vorbestimmten Proben geätzt, und zwar unter Einsatz eines chemischen Ätzmittels wie Eisenchlorid oder Kupferchlorid. Die resultierenden Probe werden durch Pressen oder V-Schneiden zur Bildung einzelner Widerstände getrennt.Finally, the copper-nickel plate is used as a resistance plate 2 is etched in predetermined samples, using a chemical etchant such as ferric chloride or copper chloride. The resulting sample is separated by pressing or V-cutting to form individual resistors.

Beispiel 1example 1

Unter Einsatz verschiedener Mittel wurde versucht, die Oberfläche einer Widerstandplatte aus einer Kupfer-Nickel-Legierung mit 54,5 Gewichts-% Kupfer, 43,7 Gewichts-% Nickel und 1,8 Gewichts-% Mangan mit einer Dicke von 0,2 mm aufzurauhen. Die Ergebnisse wurden anhand von REM-(Rasterelektronenmikroskop)-Fotographien (mit einem Durchmesservergrößerungsfaktor von 2000) beurteilt.Under Use of various remedies has been attempted to surface one Resistance plate made of a copper-nickel alloy with 54.5% by weight Copper, 43.7 weight% nickel and 1.8 weight% manganese with a Thickness of 0.2 mm to roughen. The results were obtained by SEM (Scanning Electron Microscope) photographs (with a diameter magnification factor from 2000).

Die Oberfläche einer Probe 1 wurde mechanisch poliert, und zwar mit einem ungewebten Stoff #320. Die Oberfläche war nicht aufgerauht, obwohl eine geringe Menge an Säumen auf der Oberfläche ausgebildet ist.The surface a sample 1 was mechanically polished, with a non-woven Fabric # 320. The surface was not roughened, though a small amount of hems on the surface is trained.

Die Oberfläche einer Probe 2 wurde unter Verwendung von Chromsäure elektrolytisch poliert. Ähnlich wie bei der Probe 1 war die Oberfläche der Kupfer-Nickel-Legierungsplatte nicht aufgerauht.The surface Sample 2 was electrolytically polished using chromic acid. Similar to in Sample 1, the surface was the copper-nickel alloy plate not roughened.

Die Oberfläche einer Probe 3 wurde mittels eines Salpretigsäureätzmittels behandelt. Eine geringe Menge an Säumen war auf der Oberfläche erkennbar.The surface Sample 3 was treated with a salt etchant. A small amount on hems was on the surface recognizable.

Die Oberfläche einer Probe 4 wurde mittels eines Salzsäureätzmittels behandelt. Die Oberfläche war nicht aufgerauht.The surface Sample 4 was treated with a hydrochloric acid etchant. The surface was not roughened.

Die Oberfläche einer Probe 5 wurde durch Bestrahlen mittels eines organischen Säureätzmittels auf der Basis von Ameisensäure bei einem Strahldruck von 0,15 MPa und einer Temperatur von 35°C aufgerauht. Hohlräume mit einer Tiefe von etlichen μm wurden dabei längs der Korngrenzen der Kupfer-Nickel-Legierung ausgebildet.The surface Sample 5 was prepared by irradiation with an organic acid etchant based on formic acid roughened at a jet pressure of 0.15 MPa and a temperature of 35 ° C. Cavities with a depth of several μm were doing along formed the grain boundaries of the copper-nickel alloy.

Wie oben angegeben, kann die Oberfläche der Kupfer-Nickel-Legierung gemäß der Erfindung durch elektrolytisches Polieren unter Verwendung von Chromsäure oder durch Ätzen unter Verwendung von Salpetrigsäure oder Salzsäure, d.h. einem herkömmlichen Verfahren, nicht ausreichend aufgerauht werden. Gemäß der Erfindung können dagegen die Korngrenzen der Kupfer-Nickel-Legierung durch Aufrauhen mittels des organischen Säureätzmittels zur Bildung von Hohlräumen geätzt werden.As stated above, the surface may be the copper-nickel alloy according to the invention by electrolytic polishing using chromic acid or by etching using nitrous acid or hydrochloric acid, i.e. a conventional one Procedure, not roughened sufficiently. According to the invention can contrast, the grain boundaries of the copper-nickel alloy by roughening by means of organic acid etchant for the formation of cavities etched become.

Als nächstes wurden jeweils eine Widerstandsplatte aus einer Kupfer-Nickel-Legierung mit einer Breite von 150 mm, einer Länge von 500 mm und einer Dicke von 0,2 mm, die auf die obigen Weisen behandelt bzw. aufgerauht worden waren, und eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 2 mm unter Zwischenlage eines Epoxyharzisoliermaterials mit einem SiO2-Füllstoff aufeinandergeschichtet. Das Isoliermaterial war Bisphenol-A-Epoxyharz mit 80 Gewichts-% SiO2-Füllstoff. Die Widerstandsplatte wurde unter Verwendung einer Heißpresse für die Dauer von 60 min bei einer Temperatur von 180°C und einem Druck von 4,9 MPa mit dem Isoliermaterial verbunden. Die Isoliermaterialschicht besaß eine Dicke von 125 μm. Nachdem die Isoliermaterialschicht vollständig ausgehärtet war, wurde die aufgeschichtete Widerstandsplatte durch Eisenchlorid auf die Größe 10 mal 10 mm geätzt.Next, a copper-nickel alloy resistance plate having a width of 150 mm, a length of 500 mm and a thickness of 0.2 mm, which had been roughened in the above manners, and an aluminum plate were each used a thickness of 2 mm with the interposition of a Epoxyharzisoliermaterials with a SiO 2 filler stacked together. The insulating material was bisphenol A epoxy resin with 80 wt% SiO 2 filler. The resistance plate was bonded to the insulating material using a hot press for 60 minutes at a temperature of 180 ° C and a pressure of 4.9 MPa. The insulating material layer had a thickness of 125 μm. After the insulating material layer was completely cured, the coated resistor plate was etched by iron chloride to the size of 10 by 10 mm.

Ein Werkzeug zur Messung der Zugfestigkeit wurde mit der laminierten Platte verlötet, und ein Zugtester bewertete die Zugfestigkeit. Die Haftfestigkeit der Proben 1 bis 3 betrug nur 160 N/cm2, während diejenige der Probe 5 immerhin 654 N/cm2 betrug.A tool for measuring tensile strength was brazed to the laminated board and a tensile tester evaluated the tensile strength. The adhesive strength of Samples 1 to 3 was only 160 N / cm 2 , while that of Sample 5 was at least 654 N / cm 2 .

Tabelle 1

Figure 00080001
Table 1
Figure 00080001

Beispiel 2Example 2

Die Durchbruchspannung der laminierten Platte, die im Beispiel 1 hergestellt wurde, wurde für verschiedene Dicken der Harzisolierschicht 3 gemessen. Tabelle 2 zeigt die Ergebnisse der Messung. Wie aus Tabelle 2 ersichtlich, kann die dielektrische Festigkeit (Durchbruchspannung), die für den Widerstand erforderlich ist, realisiert werden, wenn die Harzisolierschicht 3 eine Dicke von 50 μm oder mehr aufweist.The breakdown voltage of the laminated board produced in Example 1 was for various thicknesses of the resin insulating layer 3 measured. Table 2 shows the results of the measurement. As apparent from Table 2, the dielectric strength (breakdown voltage) required for the resistor can be realized when the resin insulating layer 3 has a thickness of 50 μm or more.

Tabelle 2

Figure 00080002
Table 2
Figure 00080002

Gemäß der vorliegenden Erfindung ermöglicht die Verwendung der Widerstandsplatte aus einer Kupfer-Nickel-Legierung den Einsatz eines Widerstands für einen Stromrichter, etwa einen Wechselrichter. Die vorliegende Erfindung schafft einen Strommeßwiderstand hoher Genauigkeit, dessen Widerstandswert sich bei Temperaturänderungen nicht stark ändert. Die Oberfläche der Kupfer-Nickel-Legierung ist mittels eines organischen Säureätzmittels aufgerauht, um dadurch die Haftfestigkeit zwischen der Legierung und der Harzisolierschicht zu verbessern, die eine große Menge an anorganischem Füllstoff enthält. Die Verwendung einer Harzisolierschicht mit einer großen Menge an anorganischem Füllstoff führt zu einem Widerstand mit sehr guter Wärmeableiteigenschaft und dielektrischer Festigkeit.According to the present invention, the use of the copper-nickel alloy resistor plate allows the use of a resistor for a power converter such as an inverter. The present invention provides a high precision current measuring resistor whose resistance value is does not change much with temperature changes. The surface of the copper-nickel alloy is roughened by means of an organic acid etchant to thereby improve the adhesion between the alloy and the resin insulating layer containing a large amount of inorganic filler. The use of a resin insulating layer containing a large amount of inorganic filler results in a resistor having a very good heat dissipating property and dielectric strength.

Claims (6)

Widerstand umfassend: eine Widerstandsplatte (2) aus einer elektrischen Widerstandslegierung, die 42,0 bis 48,0 Gewichts-% Nickel, 0,3 bis 2,5 Gewichts-% Mangan, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht, sowie Kupfer enthält, wobei der Gesamtgehalt an Kupfer, Nickel und Mangan nicht weniger als 98 Gewichts-% beträgt und eine Korngrenze der Legierung in Form eines Hohlraums geätzt ist, eine Harzisolierschicht (3), die auf die Widerstandsplatte (2) geschichtet ist, und eine metallische Wärmeableitplatte 4, die auf die der Widerstandsplatte (2) abgewandte Seite der Harzisolierschicht (3) geschichtet ist.Resistor comprising: a resistance plate ( 2 ) of an electrical resistance alloy containing 42.0 to 48.0% by weight of nickel, 0.3 to 2.5% by weight of manganese, in each case based on the total weight, and copper, wherein the total content of copper, nickel and manganese is not less than 98% by weight and a grain boundary of the alloy is etched in the form of a cavity, a resin insulating layer ( 3 ) placed on the resistance plate ( 2 ), and a metallic heat dissipation plate 4 , which on the the resistance plate ( 2 ) facing away from the Harzisolierschicht ( 3 ) is layered. Widerstand nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandsplatte (2) eine Dicke von 0,1 mm oder mehr aufweist.Resistor according to Claim 1, characterized in that the resistance plate ( 2 ) has a thickness of 0.1 mm or more. Widerstand nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Harzisolierschicht (3) aus einem Epoxyharz mit 71 bis 95 Gewichts-% anorganischem Füllstoff besteht.Resistor according to Claim 1 or 2, characterized in that the resin insulating layer ( 3 ) consists of an epoxy resin with 71 to 95% by weight of inorganic filler. Widerstand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Harzisolierschicht eine Dicke von 50 bis 200 μm und eine Durchbruchspannung von 5 kVeff oder mehr aufweist.A resistor according to any one of the preceding claims, characterized in that the resin insulating layer has a thickness of 50 to 200 μm and a breakdown voltage of 5 kV rms or more. Widerstand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmeableitplatte (4) aus Kupfer oder Aluminium besteht.Resistor according to one of the preceding claims, characterized in that the heat dissipation plate ( 4 ) consists of copper or aluminum. Verfahren zur Herstellung eines Widerstands gemäß einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Legierung der Widerstandsplatte (2) unter Verwendung eines organischen Säureätzmittels geätzt wird.Method for producing a resistor according to one of the preceding claims, characterized in that the alloy of the resistance plate ( 2 ) is etched using an organic acid etchant.
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