CN106226000B - 一种真空密封性能测量装置和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空密封性能测量装置及方法，该装置包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)。该方法采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器的密封性能，其中动态法适用于相对较大的漏率测量，其测量范围与四极质谱计(12)的最小可检信号、小孔流导相关，静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量，利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器(5)的氦漏率。
Description
技术领域
本发明涉及一种密封容器的真空密封性能测量装置和测量方法，尤其适用于密封容器的总漏率测量和分压漏率测量。
背景技术
为保证在极端条件下的系统正常运行，如半导体加工的真空环境，或者高真空、极低温、强辐射的太空环境，需要将其密封在密封容器中，以将系统与极端环境隔离，保证系统平稳运行。例如真空环境中的半导体加工过程中，控制器所包含的各种电子学系统和电子元器件在10-2Pa～102Pa的低真空范围内工作存在放电安全隐患；并且，暴露在真空环境中的电子学系统和电子元器会放气产生的气体及颗粒物质污染加工环境，影响半导体加工正常运行。因此，需要为这一部分在真空环境中运行的系统设计适当的真空密封结构，将其与真空工作环境有效隔离。
完成密封后，需要对密封容器的密封性能进行测量，以保证密封容器的泄漏率在允许范围之内。常用的密封容器检漏方法以氦气为检漏气体，采用氦气检漏仪通过喷吹法或吸腔法对密封容器的密封性能进行检测。氦气检漏仪检漏方便快捷，然而该方法主要用于局部检漏，偏重于定性分析，难于完成定量的整体漏率测量。并且氦气检漏仪仅能对密封容器的氦气漏率进行测量，氦气分子量很小，容易渗透密封材料从而影响测量结果。氦气检漏仪无法满足氦气以外的其他气体的漏率测量需求。
精确的漏率测量方法例如定容法、恒压法主要用于漏孔漏率计量，校准过程中均需要将漏孔漏率引入到测量室中。定容法将漏孔漏率引入到容积已定的定容室，通过测量定容室单位时间压力变化计算漏孔漏率。恒压法将漏孔漏率引入到容积连续改变的变容室中使得变容室内气压保持不变，通过测量单位时间变容室容积变化计算漏孔漏率。以上两种方法不适用于漏率较小的密封容器漏率测量，由于引入到测量室中的气体除密封容器泄漏量外还有密封容器在真空环境中的放气量，难以将相对较小的密封容器泄漏量从整体中区分出来，同时密封容器自身体积会改变测量室容积不利于采用容积测量手段完成漏率测量。
绝对对比法漏孔漏率校准通过恒压式流量计流出的恒定已知气体和漏孔漏率进行对比，计算出漏孔漏率。为提高漏孔校准精度装置需要配备一套复杂的精确配气系统用于提供标准流量与漏孔流量进行对比，该装置主要用于计量单位校准标准漏孔，对于实验室及工业漏率测量来说过于繁杂。
本发明提出一种密封容器的真空密封性能测量装置及方法，主要用于解决以下技术问题：(1)精确测量密封容器的整体漏率；(2)实现密封容器 10-6Pam3/s～10-11Pam3/s漏率量级的总压测量和单一气体漏率分压测量；(3)实现密封容器对多种气体例如氦气、氮气、氩气等的密封性能测量；(4)在满足漏率测量功能的前提下简化漏率测量装置。
发明内容
本发明提出一种在实验室及工业应用中的密封容器真空密封性能精确测量装置及方法。测量装置主要由测量室、标准漏孔、四极质谱计、真空规、吸气剂泵、限流小孔、真空泵组等组成。通过真空规对测量室压力的测量实现密封容器的总压密封性能测量，通过四极质谱计对不同种类气体离子流的测量实现密封容器的分压密封性能测量。测量过程中通过对密封容器漏率与标准漏孔漏率引起的真空计或四极质谱计响应进行比对，实现密封容器漏率的精确测量。标准漏率由流量经过标定的标准漏孔提供，选取多个漏率量级的标准漏孔能够实现宽范围的漏率精确测量；选取多种气体种类的标准漏孔例如氦气、氮气、氩气等实现密封容器对多种气体的密封性能测量。同时，本发明将适用于精确漏率测量的动态对比漏率测量法与极小漏率测量的静态累积对比漏率测量法集成在同一装置中，实现10- 6Pam3/s～10-11Pam3/s漏率量级的宽范围密封容器漏率精确测量。最后，本发明采用计量后的标准漏孔代替精确配气系统提供标准流量，简化精确漏率测量装置本身及测量过程，使其更适合于实验室及工业中的密封容器真空密封性能精确测量测量。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的。
一种真空密封性能测量装置，包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)，其中第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、真空规(11)、四极质谱计(12)分别各自连接到测量室(13)，限流小孔(7)的一端通过角阀(6)连接到测量室(13)，限流小孔(7)的另一端连接到分子泵组(8)和插板阀(10)之间，第一干式机械泵(9)通过分子泵组(8)借由插板阀(10)连接到测量室(13)，其中，真空规(11)用于密封容器漏率总压测量；四极质谱计(12)用于密封容器(5)单一气体成分漏率测量或分压漏率测量；限流小孔(7)用于动态法漏率测量过程中动态抽气，以维持测量室内气体的动态平衡；吸气剂泵(4)用于静态累积漏率测量过程中抽离主要由测量室(13)、密封容器(5)壁面在真空环境中放气产生的气体。
优选地，该装置还包括充抽气管路(17)，充抽气管路(17)由抽气管路和充气管路共同组成：抽气管路通过第二阀门(18)连接到第二干式机械泵(14) 上，由第二干式机械泵(14)完成抽气功能；充气管路通过第一阀门(16)连接到检漏气体瓶(15)上。
一种真空密封性能测量方法，其采用上述真空密封性能测量装置，该方法包括：采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器(5)的密封性能。
优选地，动态法测量过程包括：
S1：首先在密封容器(5)中密封检漏气体，将密封容器(5)送入测量室 (13)内，利用分子泵组(8)抽气，在测量室(13)内达到良好的本底真空条件后开启角阀(6)，关闭插板阀(10)，采用限流小孔(7)进行限流抽气；限流小孔抽气过程中，密封容器(5)泄漏量，密封容器(5)表面、测量室(13) 腔体放气量与限流小孔抽气量逐步达成动态平衡，利用真空规(11)测量平衡状态密封容器(5)漏率响应总压PL，四极质谱计(12)测量密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL；
S2：根据密封容器(5)的检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器(5)最为接近的标准漏孔进行标准漏孔漏率响应测量；完成密封容器(5) 漏率测量后将其取出，释放其中检漏气体，在干净空气手套箱中完成密封送入测量室(13)内，重复密封容器(5)漏率测量操作，得到系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0；
S3：打开插板阀(10)利用分子泵组(8)抽气达到真空条件后开启所选标准漏孔，标准漏孔流出的检漏气体压力稳定后打开角阀(6)，关闭插板阀(10)，利用限流小孔(7)抽气，测量室(13)内达到动态平衡后利用真空规(11)测量平衡状态标准漏孔响应总压PS，四极质谱计(12)测量标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS。
优选地，动态法测量过程包括：
S1：将密封容器(5)送入测量室(13)内，开启第二阀门(18)，通过第二干式机械泵(14)对密封容器(5)抽真空，关闭第二阀门(18)，测量系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0；
S2；再开启第一阀门(16)，通过检漏气体瓶(15)向密封容器(5)中充入1atm检漏气体，利用真空规(11)测量平衡状态密封容器(5)漏率响应总压PL，四极质谱计(12)测量密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL；
S3：根据密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器(5)最为接近的标准漏孔完成后续标准漏孔漏率响应测量；最后，通过第二干式机械泵(14)抽除密封容器(5)中的检漏气体，测量平衡状态标准漏孔响应总压PS以及标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS。
优选地，静态法测量过程包括：S1：本底累积离子流测量；S2：标准漏孔累积响应离子流测量；S3：密封容器累积响应离子流测量。
优选地，静态法测量过程中，所述本底累积离子流测量包括：测量室(13) 内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，通过四极质谱计(12)测量系统本底氦气离子流I0，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12) 测量本底氦气累积离子流I1；t0由四极质谱计(12)的测量能力而定，确保累积后的离子流在四极质谱计(12)的线性测量范围内；
所述标准漏孔累积响应离子流测量包括：测量室(13)内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，打开第三标准漏孔(3)，氦气离子流稳定后通过四极质谱计(12)测量标准漏孔响应氦气离子流I2，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12)测量标准漏孔累积响应氦气离子流I3；
所述密封容器累积响应离子流测量包括：密封容器(5)内充入1atm氦气，测量室(13)内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，氦气离子流稳定后通过四极质谱计(12)测量密封容器响应氦气离子流I4，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12)测量密封容器累积响应氦气离子流I5。
本发明利用密封容器总体漏率及单一气体分压漏率的测量实现密封容器的真空密封性能测量，密封容器的总压漏率通过真空计进行测量，单一气体分压漏率通过四极质谱计完成测量。与先前技术相比，本发明更适用于漏率较小的真空密封容器的密封性能测量；同时本发明将动态漏率测量和静态累积漏率测量两种方法集合在同一套装置中，实现了密封容器10-6Pam3/s～10-11Pam3/s漏率量级的宽范围漏率测量，分别通过真空计和四极质谱计完成了总压漏率测量和单一气体分压漏率测量；在满足漏率测量功能的前提下简化了漏率测量装置，使其更适合于实验室及工业中的密封容器漏率测量，从而对密封容器的密封性能进行评价；最后，通过采用多种气体种类的标准漏孔，本发明实现了密封容器对不同种类气体的漏率测量。
附图说明
通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
图1：密封容器的真空密封性能测量装置实施例1；
图2：密封容器的真空密封性能测量装置实施例2。
具体实施方式
下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
本发明提出一种密封容器的真空密封性能测量装置及方法，用于10-6Pam3/s～10-11Pam3/s范围内的真空密封容器漏率精确测量。本专利涉及的密封容器的真空密封性能测量装置如图1所示，主要包括第一标准漏孔1、第二标准漏孔2、第三标准漏孔3、吸气剂泵4、密封容器5、角阀6、限流小孔7、分子泵组8、第一干式机械泵9、插板阀10、真空规11、四极质谱计12、测量室13。其中真空规11用于密封容器漏率总压测量；四极质谱计12用于密封容器单一气体成分漏率测量或分压漏率测量；限流小孔7用于动态法漏率测量过程中动态抽气，以维持测量室内气体的动态平衡；吸气剂泵4用于静态累积漏率测量过程中抽离主要由测量室13、密封容器5壁面在真空环境中放气产生的气体。
密封性能测量前需要对密封容器5、密封圈、密封紧固件等进行清洗，采用丙酮进行除油；无水乙醇进行脱水后完成密封容器的密封工作。密封容器整体内压密封性能测量前向密封容器内充入1atm检漏气体，在真空环境的测量室13内测量检漏气体的泄漏量。检漏气体的充入方式分为两种方式：
1)如图1所示实施例1中密封容器5在1atm检漏气体气氛手套箱中完成密封安装，安装完成后密封容器5内部密封1atm检漏气体。采用清洁气体完成密封容器5表面吹扫后将其送样至测量室13内部准备进行密封性能测量。
2)如图2所示实施例2中测量室13和密封容器5上安装充抽气接口用于密封容器5内部抽真空和检漏气体充入。密封容器5在大气环境中完成密封与清洁后连接测量室内的充抽气管路17。充抽气管路17由抽气管路和充气管路共同组成：抽气管路通过阀门18连接到第二干式机械泵14上，由第二干式机械泵14 完成抽气功能；充气管路通过阀门16连接到检漏气体瓶15上。完成密封容器5 与充抽气管路17的连接后将密封容器5送样至测量室13内部准备进行密封性能测量。
本发明所述密封容器5的密封性能测量方法为对比法，通过在相同真空环境下分别测量标准漏率及密封容器漏率，利用测量仪器的短期稳定性计算出密封容器漏率。测量过程中标准漏率由经过国家计量单位计量过的标准漏孔提供。密封容器5内密封的检漏气体种类需要与标准漏孔内的标准气体保持一致。对比法密封性能测量按照主要抽气方式分为动态法和静态累积法，按照测量仪器分为总压法和分压法。动态法适用于漏率相对较大的密封容器测量，静态累积法适用于漏率相对较小的密封容器测量。总压法采用真空规例如磁悬浮转子规或电离真空规完成总压测量，分压法采用四极质谱计完成单一气体分压测量。
动态法适用于相对较大的漏率测量，其测量范围与四极质谱计12的最小可检信号、小孔流导均相关。静态累积法适用于相对较小的氦气漏率测量，利用四极质谱计对测量室内累积的氦分压的测量进一步计算出密封容器5的氦漏率。测量中将密封容器5泄漏的氦气在测量室13内进行累积，测量室13的氦分压将随时间增加而上升，累积一段时间后，获得较大的离子流，并通过质谱计准确测量，其累计时间由四极质谱计12的最小可检信号以及密封容器5的漏率量级决定。
动态法测量过程中通过限流小孔7抽气，在测量室13内达到动态平衡时采用真空规进行总压测量或采用四极质谱计进行分压测量，故名动态法。首先开启分子泵组8前的插板阀10利用分子泵组8对测量室13抽真空，使测量室13内达到良好的本底真空条件，在此基础上分别完成本底测量、密封容器5漏率测量、标准漏孔漏率测量三部分测量内容，通过测量值计算得到密封容器5的整体漏率，表征密封容器的密封性能。
图1所示实施例1测量装置进行密封容器密封性能测量时首先在密封容器5 中密封检漏气体，将密封容器5送入测量室13内，利用分子泵组8抽气，在测量室13内达到良好的本底真空条件后开启角阀6，关闭插板阀10，采用限流小孔7进行限流抽气。限流小孔抽气过程中，密封容器5泄漏量，密封容器5表面、测量室13腔体放气量与限流小孔抽气量逐步达成动态平衡，利用真空规11测量平衡状态密封容器5漏率响应总压PL，四极质谱计12测量密封容器5检漏气体响应分压离子流IL。根据密封容器5的检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器5最为接近的标准漏孔进行标准漏孔漏率响应测量。完成密封容器 5漏率测量后将其取出，释放其中检漏气体，在干净空气手套箱中完成密封送入测量室13内，重复密封容器5漏率测量操作，得到系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0。最后，打开插板阀10利用分子泵组8抽气达到真空条件后开启所选标准漏孔，标准漏孔流出的检漏气体压力稳定后打开角阀6，关闭插板10，利用限流小孔7抽气，测量室13内达到动态平衡后利用真空规11测量平衡状态标准漏孔响应总压PS，四极质谱计12测量标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS。密封容器5的整体漏率可以通过总压进行计算：
式中：QL—密封容器5整体漏率，Pa·m3/s；
QS—标准漏孔的标准漏率，Pa·m3/s；
PL—密封容器5漏率响应总压，Pa；
PS—标准漏孔响应总压，Pa；
P0—系统总压本底，Pa。
或者通过检漏气体分压进行计算：
式中：QL—密封容器5整体漏率，Pa·m3/s；
QS—标准漏孔的标准漏率，Pa·m3/s；
IL—密封容器5检漏气体响应分压离子流，A；
IS—标准漏孔检漏气体分压本底离子流，A；
I0—系统检漏气体分压本底离子流，A。
图2所示实施例2测量装置进行密封容器密封性能测量时，将密封容器5送入测量室13内，开启阀门18，通过第二干式机械泵14对密封容器5抽真空，关闭阀门18，测量系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0；再开启阀门16，通过气瓶15向密封容器5中充入1atm检漏气体，利用真空规11测量平衡状态密封容器5漏率响应总压PL，四极质谱计12测量密封容器5检漏气体响应分压离子流IL。根据密封容器5检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器5最为接近的标准漏孔完成后续标准漏孔漏率响应测量；最后，通过第二干式机械泵14抽除密封容器5中的检漏气体，测量平衡状态标准漏孔响应总压PS以及标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS。具体测量步骤与实施例1的测量步骤相同，最后通过式(1)和式(2)分别完成密封容器5的整体漏率和检漏气体分压的计算。
静态累积法测量过程中关闭插板阀10和角阀6对测量室13中的气体进行积累，仅采用吸气剂泵4抽除测量室13内壁和密封容器外表面放气。吸气剂泵对氦气的抽速可以忽略，不会影响测量室13内氦气的累积。测量过程分为：本底累积离子流测量；标准漏孔累积响应离子流测量；密封容器累积响应离子流测量。
系统本底累积离子流测量：测量室13内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵4，通过四极质谱计12测量系统本底氦气离子流I0，关闭插板阀10，累积时间t0后通过四极质谱计12测量本底氦气累积离子流I1。t0由四极质谱计12 的测量能力而定，确保累积后的离子流在四极质谱计12的线性测量范围内。
标准漏孔累积响应离子流测量：测量室13内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵4，打开第三标准漏孔3，氦气离子流稳定后通过四极质谱计12测量标准漏孔响应氦气离子流I2，关闭插板阀10，累积时间t0后通过四极质谱计12 测量标准漏孔累积响应氦气离子流I3。
密封容器累积响应离子流测量：密封容器5内充入1atm氦气，测量室13内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵4，氦气离子流稳定后通过四极质谱计 12测量密封容器响应氦气离子流I4，关闭插板阀10，累积时间t0后通过四极质谱计12测量密封容器累积响应氦气离子流I5。
最后，密封容器5对氦气的漏率通过式(3)计算：
式中：QL—密封容器5整体漏率，Pa·m3/s；
QS—标准漏孔的标准漏率，Pa·m3/s；
I0—系统本底氦气离子流I0，A
I1—系统本底氦气累积离子流，A
I2—标准漏孔响应氦气离子流，A
I3—标准漏孔累积响应氦气离子流，A
I4—密封容器响应氦气离子流，A
I5—密封容器累积响应氦气离子流，A
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (7)
1.一种真空密封性能测量装置，包括第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、密封容器(5)、角阀(6)、限流小孔(7)、分子泵组(8)、第一干式机械泵(9)、插板阀(10)、真空规(11)、四极质谱计(12)、测量室(13)，其中第一标准漏孔(1)、第二标准漏孔(2)、第三标准漏孔(3)、吸气剂泵(4)、真空规(11)、四极质谱计(12)分别各自连接到测量室(13)，限流小孔(7)的一端通过角阀(6)连接到测量室(13)，限流小孔(7)的另一端连接到分子泵组(8)和插板阀(10)之间，第一干式机械泵(9)通过分子泵组(8)借由插板阀(10)连接到测量室(13)，其中，真空规(11)用于密封容器漏率总压测量，所述密封容器漏率总压测量包括：密封容器(5)漏率响应总压测量、所选标准漏孔的响应总压测量、以及系统总压本底测量；四极质谱计(12)用于密封容器(5)单一气体成分漏率测量或分压漏率测量，所述单一气体成分漏率测量包括：单一气体成分的本底累积离子流测量、所选标准漏孔的累积响应离子流测量、以及密封容器(5)累积响应离子流测量，所述分压漏率测量，包括：密封容器(5)检漏气体响应分压离子流测量、系统检漏气体分压本底离子流测量、以及所选标准漏孔的检漏气体分压本底离子流测量；限流小孔(7)用于动态法漏率测量过程中动态抽气，以维持测量室内气体的动态平衡；吸气剂泵(4)用于静态累积漏率测量过程中抽离主要由测量室(13)、密封容器(5)壁面在真空环境中放气产生的气体。
2.根据权利要求1所述的装置，还包括充抽气管路(17)，充抽气管路(17)由抽气管路和充气管路共同组成：抽气管路通过第二阀门(18)连接到第二干式机械泵(14)上，由第二干式机械泵(14)完成抽气功能；充气管路通过第一阀门(16)连接到检漏气体瓶(15)上。
3.一种真空密封性能测量方法，其采用权利要求1或2所述的装置，该方法包括：采用动态法测量或者静态累积法测量密封容器(5)的整体漏率，表征密封容器(5)的密封性能。
4.根据权利要求3所述的方法，动态法测量过程包括：
S1：首先在密封容器(5)中密封检漏气体，将密封容器(5)送入测量室(13)内，利用分子泵组(8)抽气，在测量室(13)内达到良好的本底真空条件后开启角阀(6)，关闭插板阀(10)，采用限流小孔(7)进行限流抽气；限流小孔抽气过程中，密封容器(5)泄漏量，密封容器(5)表面、测量室(13)腔体放气量与限流小孔抽气量逐步达成动态平衡，利用真空规(11)测量平衡状态密封容器(5)漏率响应总压PL，四极质谱计(12)测量密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL；
S2：根据密封容器(5)的检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器(5)最为接近的标准漏孔进行标准漏孔漏率响应测量；完成密封容器(5)漏率测量后将其取出，释放其中检漏气体，在干净空气手套箱中完成密封送入测量室(13)内，重复密封容器(5)漏率测量操作，得到系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0；
S3：打开插板阀(10)利用分子泵组(8)抽气达到真空条件后开启所选标准漏孔，标准漏孔流出的检漏气体压力稳定后打开角阀(6)，关闭插板阀(10)，利用限流小孔(7)抽气，测量室(13)内达到动态平衡后利用真空规(11)测量平衡状态标准漏孔响应总压PS，四极质谱计(12)测量标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS；
其中，密封容器(5)的整体漏率通过下式计算得到：
式中,QL为密封容器(5)整体漏率；QS为标准漏孔的标准漏率；IL为密封容器(5)检漏气体响应分压离子流；IS为标准漏孔检漏气体分压本底离子流；I0为系统检漏气体分压本底离子流；
或者，密封容器(5)的整体漏率通过下式计算得到：
式中,QL为密封容器(5)整体漏率；QS为标准漏孔的标准漏率；PL为密封容器(5)漏率响应总压；PS为标准漏孔响应总压；P0为系统总压本底。
5.根据权利要求3所述的方法，动态法测量过程包括：
S1：将密封容器(5)送入测量室(13)内，开启第二阀门(18)，通过第二干式机械泵(14)对密封容器(5)抽真空，关闭第二阀门(18)，测量系统总压本底P0及系统检漏气体分压本底离子流I0；
S2；再开启第一阀门(16)，通过检漏气体瓶(15)向密封容器(5)中充入1atm检漏气体，利用真空规(11)测量平衡状态密封容器(5)漏率响应总压PL，四极质谱计(12)测量密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL；
S3：根据密封容器(5)检漏气体响应分压离子流IL选择漏率水平与密封容器(5)最为接近的标准漏孔完成后续标准漏孔漏率响应测量；最后，通过第二干式机械泵(14)抽除密封容器(5)中的检漏气体，测量平衡状态标准漏孔响应总压PS以及标准漏孔检漏气体分压本底离子流IS；
其中，密封容器(5)的整体漏率通过下式计算得到：
式中,QL为密封容器(5)整体漏率；QS为标准漏孔的标准漏率；IL为密封容器(5)检漏气体响应分压离子流；IS为标准漏孔检漏气体分压本底离子流；I0为系统检漏气体分压本底离子流；
或者，密封容器(5)的整体漏率通过下式计算得到：
式中,QL为密封容器(5)整体漏率；QS为标准漏孔的标准漏率；PL为密封容器(5)漏率响应总压；PS为标准漏孔响应总压；P0为系统总压本底。
6.根据权利要求3所述的方法，静态法测量过程包括：S1：本底累积离子流测量；S2：标准漏孔累积响应离子流测量；S3：密封容器累积响应离子流测量；
其中，密封容器(5)的整体漏率通过下式计算得到：
式中,QL为密封容器(5)整体漏率；QS为标准漏孔的标准漏率；I0为单一气体成分的系统本底离子流；I1为单一气体成分的系统本底累积离子流；I2为单一气体成分的标准漏孔响应离子流；I3为单一气体成分的标准漏孔累积响应离子流；I4为单一气体成分的密封容器(5)响应离子流；I5为单一气体成分的密封容器(5)累积响应离子流。
7.根据权利要求6所述的方法，静态法测量过程中，所述本底累积离子流测量包括：测量室(13)内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，通过四极质谱计(12)测量系统本底氦气离子流I0，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12)测量本底氦气累积离子流I1；t0由四极质谱计(12)的测量能力而定，确保累积后的离子流在四极质谱计(12)的线性测量范围内；
所述标准漏孔累积响应离子流测量包括：测量室(13)内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，打开第三标准漏孔(3)，氦气离子流稳定后通过四极质谱计(12)测量标准漏孔响应氦气离子流I2，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12)测量标准漏孔累积响应氦气离子流I3；所述密封容器累积响应离子流测量包括：密封容器(5)内充入1atm氦气，测量室(13)内达到良好的本底真空条件，打开吸气剂泵(4)，氦气离子流稳定后通过四极质谱计(12)测量密封容器响应氦气离子流I4，关闭插板阀(10)，累积时间t0后通过四极质谱计(12)测量密封容器累积响应氦气离子流I5。
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