CN103887261B - 一种柔性显示器及其制备方法 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 223
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 69
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 85
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000012769 display material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
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- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
- H10D30/67—Thin-film transistors [TFT]
- H10D30/6758—Thin-film transistors [TFT] characterised by the insulating substrates
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
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- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
- H10D86/40—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple TFTs
- H10D86/411—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple TFTs characterised by materials, geometry or structure of the substrates
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D86/00—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates
- H10D86/40—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple TFTs
- H10D86/60—Integrated devices formed in or on insulating or conducting substrates, e.g. formed in silicon-on-insulator [SOI] substrates or on stainless steel or glass substrates characterised by multiple TFTs wherein the TFTs are in active matrices
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/82—Cathodes
- H10K50/822—Cathodes characterised by their shape
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
-
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8052—Cathodes
- H10K59/80521—Cathodes characterised by their shape
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
- H10K2102/301—Details of OLEDs
- H10K2102/311—Flexible OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/1201—Manufacture or treatment
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
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Abstract
本发明涉及柔性显示技术领域,公开了一种柔性显示器及其制备方法,柔性显示器包括第一柔性基板、像素界定层和阴极,像素界定层为树脂材料制备的像素界定层,其中:第一分隔墙具有凸起结构,凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;第二分隔墙具有凸起结构,且凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;阴极与第一界定墙正对的部分具有与第一沟道相应的弯曲状,且阴极与第二界定墙正对的部分具有与第二沟道相应的弯曲状。上述柔性显示器在沿第一分隔墙弯曲,或者沿第二分隔墙弯曲时,阴极均可以释放受到的应力,提高柔性显示器的质量。
Description
技术领域
本发明涉及柔性显示技术领域,特别涉及一种柔性显示器及其制备方法。
背景技术
柔性显示器具有诸多优点,例如易弯曲、耐冲击,抗震能力强,重量轻、体积小,携带更加方便等特点。目前主要的柔性显示材料大致可分为三种:电子纸(或柔性电泳显示)、柔性OLED和柔性液晶等。
柔性显示器包括阳极,像素界定层、以及阴极,柔性显示器具有像素区域和非像素区域,像素界定层具有位于非像素区域的多个并行设置的横向分隔墙和多个并行设置的纵向分隔墙,横向分隔墙和纵向分隔墙交叉设置以将柔性显示器的多个像素区域进行分隔,阳极具有与像素区域一一对应、且位于像素区域内的电极图案,每一个像素区域内具有一个电致发光层,阴极为位于电致发光层背离阳极一侧、且形成于像素界定层之上的整层结构,通过控制每一个像素单元内的阳极图案的电位来控制该像素区域对应的电致发光层的发光情况,进而控制柔性显示器的显示。
但是,柔性显示器的阴极为金属材料制备的板状电极,在柔性显示器弯曲过程中,阴极弯折时受应力作用极容易产生断裂,进而对显示质量造成影响。
发明内容
本发明提供了一种柔性显示器及其制备方法,该柔性显示器能够释放柔性显示器弯曲时阴极受到的应力,提高柔性显示器的质量。
为达到上述目的,本发明提供以下技术方案:
一种柔性显示器,包括第一柔性基板、像素界定层和阴极,所述像素界定层位于所述第一柔性基板和所述阴极之间,所述像素界定层包括多个并行分布的第一分隔墙,和多个并行分布的第二分隔墙,所述第一分隔墙和第二分隔墙交叉设置以围成多个像素区域,所述像素界定层为树脂材料制备的像素界定层,其中:
所述第一分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第一分隔墙沿垂直于第一分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第一分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;
所述第二分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第二分隔墙沿垂直于第二分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第二分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;
所述阴极与所述第一分隔墙正对的部分沿所述第一分隔墙的表面设置,且具有与所述第一沟道相应的弯曲状;所述阴极与所述第二分隔墙正对的部分沿所述第二分隔墙的表面设置,且具有与所述第二沟道相应的弯曲状。
上述柔性显示器,其像素界定层为树脂材料制备的像素界定层,具有一定的柔韧性,且像素界定层的第一分隔墙以及第二分隔墙具有凸向背离第一柔性基板一侧的凸起结构,且第一分隔墙的凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道,第二分隔墙的凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道,阴极位于像素界定层上,且阴极与第一沟道正对的部分具有与第一沟道相应的弯曲状,阴极与第二沟道正对的部分具有与第二沟道相应的弯曲状,因此,柔性显示器沿第一分隔墙的长度方向弯曲的时候,第二分隔墙可以在垂直于第二沟道延伸方向的方向上发生形变,而阴极与第二沟道正对的弯曲状部分与第二沟道一起形变,并通过第二沟道的形变释放受到的应力;同理,当柔性显示器沿第二分隔墙的长度方向弯曲的时候,第一分隔墙可以在垂直于第一沟道延伸方向的方向上发生形变,而阴极与第一沟道正对的弯曲状部分与第一沟道一起形变,并通过第一沟道的形变释放受到的应力。
因此,上述柔性显示器在沿第一分隔墙弯曲,或者沿第二分隔墙弯曲时,阴极均可以释放受到的应力,减小阴极因受到弯曲应力发生断裂的风险,提高柔性显示器的质量。
优选地,每一个所述第一分隔墙位于任意相邻的两个第二分隔墙之间的部分:
所述第一分隔墙设置的凸起结构为多个沿所述第一分隔墙长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个所述第一沟道;或者,
所述第一分隔墙设置的所述凸起结构为阵列分布的多个凸起,且每一列所述凸起的排列方向与所述第一分隔墙的长度方向平行,每一行所述凸起的排列方向与所述第二分隔墙的长度方向平行,任意相邻两列凸起之间形成一个第一沟道,任意相邻的两行凸起之间形成一个延伸方向与所述第二沟道延伸方向平行的沟道。
优选地,每一个所述第二分隔墙位于任意相邻的两个第一分隔墙之间的部分:
所述第二分隔墙设置的凸起结构为多个沿所述第二分隔墙长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个所述第二沟道;或者,
所述第二分隔墙设置的所述凸起结构为阵列分布的多个凸起,且每一行所述凸起的排列方向与所述第二分隔墙的长度方向平行,每一列所述凸起的排列方向与所述第一分隔墙的长度方向平行,任意相邻两行凸起之间形成一个第二沟道,任意相邻的两列凸起之间形成一个延伸方向与所述第一沟道延伸方向平行的沟道。
优选地,还包括依次形成于所述第一柔性基板上的薄膜晶体管开关TFT、第一钝化层、阳极,所述TFT、第一钝化层、阳极位于所述像素界定层与所述第一柔性基板之间;所述第一分隔墙中,所述第一沟道的深度达到所述第一钝化层;和或,
所述第二分隔墙中,所述第二沟道的深度达到所述第一钝化层。
优选地,所述第一分隔墙具有的凸起为两个或多个,所述第二分隔墙具有的凸起为两个或多个。
优选地,所述阴极背离所述第一柔性基板的一面依次设有第二钝化层、以及通过粘结胶层粘结于所述第二钝化层背离所述阴极一侧的第二柔性基板。
优选地,所述柔性显示器具有顶发射型结构、底发射型结构、或者倒置型柔性显示器结构。
另一方面,本发明提供了一种上述技术方案中提供的任一种柔性显示器的制备方法,包括:
在第一柔性基板上形成薄膜晶体管开关TFT;
在所述TFT上形成阳极金属层,并通过构图工艺形成阳极图案;
形成树脂材料层,并通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,其中,所述第一分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第一分隔墙沿垂直于第一分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第一分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;所述第二分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第二分隔墙沿垂直于第二分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第二分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;
制备阴极金属层,其中,所述阴极与所述第一分隔墙正对的部分沿所述第一分隔墙的表面设置,且具有与所述第一沟道相应的弯曲状;所述阴极与所述第二分隔墙正对的部分沿所述第二分隔墙的表面设置,且具有与所述第二沟道相应的弯曲状。
优选地,所述通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,具体包括:
通过灰度曝光构图工艺形成第一分隔墙和第二分隔墙;
使第一分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构;
使第二分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构。
附图说明
图1为本发明实施例提供的柔性显示器的一种结构示意图;
图2a为本发明实施例提供的柔性显示器中像素界定层的一种结构示意图;
图2b为图2a中所示像素界定层中第一分隔墙受力变形时的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的柔性显示器中像素界定层的另一种结构示意图;
图4为图3所示像素界定层结构中的A-A向剖视图;
图5为图3所示像素界定层结构中的B-B向剖视图;
图6为本发明实施例提供的柔性显示器的另一种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参考图1和图2a,本发明实施例提供一种柔性显示器,如图1所示,该柔性显示器包括第一柔性基板6、依次形成于第一柔性基板6上像素界定层1和阴极2,像素界定层1位于第一柔性基板6与阴极2之间,如图2a所示,像素界定层1包括多个并行分布的第一分隔墙11,和多个并行分布的第二分隔墙12,第一分隔墙11和第二分隔墙12交叉设置以围成多个像素区域,像素界定层1为树脂材料制备的像素界定层,具体可以为感光树脂材料制备的像素界定层,其中:
第一分隔墙11具有凸向背离第一柔性基板6一侧的凸起结构111,第一分隔墙11沿垂直于第一分隔墙11长度方向的横截面中,凸起结构111的顶部为弧形,且第一分隔墙11具有的凸起结构111形成开口背离第一柔性基板6、且沿第一分隔墙11长度方向延伸的第一沟道112;
第二分隔墙12具有凸向背离第一柔性基板6一侧的凸起结构121,第二分隔墙12沿垂直于第二分隔墙12长度方向的横截面中,凸起结构121的顶部为弧形,且第二分隔墙12具有的凸起结构121形成开口背离第一柔性基板6、且沿第二分隔墙12长度方向延伸的第二沟道122;
阴极2与第一分隔墙11正对的部分沿第一分隔墙11的表面设置,使阴极2与第一分隔墙11正对的部分形成与第一分隔墙11背离第一柔性基板6一侧的表面形状对应的形状,以使阴极2与第一分隔墙11正对的部分具有与第一沟道112相应的弯曲状;同时,阴极2与第二分隔墙12正对的部分沿第二分隔墙12的表面设置,使阴极2与第二分隔墙12正对的部分形成与第二分隔墙12背离第一柔性基板6一侧的表面形状对应的形状,以使阴极2与第二分隔墙12正对的部分具有与第二沟道121相应的弯曲状。
上述柔性显示器,其像素界定层1为树脂材料制备的像素界定层,具有一定的柔韧性,且像素界定层1的第一分隔墙11具有凸向背离第一柔性基板6一侧的凸起结构111,第二分隔墙12具有凸向背离第一柔性基板6一侧的凸起结构121,且第一分隔墙11的凸起结构111形成开口背离第一柔性基板6、且沿第一分隔墙11长度方向延伸的第一沟道112,第二分隔墙12的凸起结构121形成开口背离第一柔性基板6、且沿第二分隔墙12长度方向延伸的第二沟道122,阴极2位于像素界定层1上,且阴极2与第一沟道112正对的部分具有与第一沟道112相应的弯曲状,阴极与第二沟道122正对的部分具有与第二沟道122相应的弯曲状,第一分隔墙11沿垂直于第一分隔墙11长度方向的横截面中凸起结构111的顶部为弧形,且第二分隔墙12沿垂直于第二分隔墙12长度方向的横截面中凸起结构121的顶部为弧形,从而使阴极2位于凸起结构111和第一沟道112、凸起结构121以及第二沟道122部分的形状也为弯曲状,减小了阴极2变形时的应力集中,通过阴极2的弯曲部分将应力释放掉,防止阴极2断裂。
因此,如图2b所示,柔性显示器沿图2a箭头所示b方向弯曲时,即沿第一分隔墙11的长度方向进行弯曲的时候,第二分隔墙12可以在垂直于第二沟道122延伸方向的方向上发生形变,而阴极2与第二沟道122正对的弯曲状部分与第二沟道122一起形变,并通过弯曲状部分的形变释放受到的应力,防止阴极2断裂。
同理,当柔性显示器沿图2a中箭头所示a方向弯曲时,即沿第二分隔墙12的长度方向进行弯曲的时候,第一分隔墙11可以在垂直于第一沟道112延伸方向的方向上发生形变,而阴极2与第一沟道112正对的弯曲状部分与第一沟道112一起形变,并通过弯曲状部分的形变释放受到的应力,防止阴极2断裂。
因此,上述柔性显示器在沿第一分隔墙11长度方向弯曲,或者沿第二分隔墙12长度方向弯曲时,阴极2均可以释放受到的应力,减小阴极2因受到弯曲应力发生断裂的风险,提高柔性显示器的质量。需要说明的是,本发明除了沿图2a中的a方向和b方向弯曲,也可以沿像素界定层1所在平面与第一分隔墙11或第二分隔墙12呈任意角度方向弯曲。例如当与第一分隔墙11逆时针成45度角弯曲的时候,此时的弯曲应力会作用在第一分隔墙11和第二分隔墙12的交叉位置处,此时也可以通过阴极2弯曲部分的形变释放受到的应力,防止阴极2断裂。
需要说明的是,本发明提供的柔性显示器中,像素界定层具有的第一分隔墙11的凸起可以为两个或多个,第二分隔墙12的凸起可以为两个或多个,凸起越多柔性显示器件的可弯曲性能越好,具体可以根据需要设置。
在上述实施方式的基础上,第一分隔墙11设置的凸起结构111可以有多种设置方式,如:
每一个第一分隔墙11位于任意相邻的两个第二分隔墙12之间的部分:
如图2a所示,第一分隔墙11设置的凸起结构111为多个沿第一分隔墙11长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个第一沟道112;或者,
如图3和图4所示,第一分隔墙11设置的凸起结构111为阵列分布的多个凸起,且每一列凸起的排列方向与第一分隔墙11的长度方向平行,每一行凸起的排列方向与第二分隔墙12的长度方向平行,任意相邻两列凸起之间形成一个第一沟道112,任意相邻两行凸起之间形成一个第二沟道122,如图4所示任意相邻的两行凸起之间形成一个延伸方向与第二沟道122延伸方向平行的沟道113。
同理,每一个第二分隔墙12设置的凸起结构121的设置方式也可以有多种选择方式,如:
每一个第二分隔墙12位于任意相邻的两个第一分隔墙11之间的部分:
如图2a所示,第二分隔墙12设置的凸起结构121为多个沿第二分隔墙12长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个第二沟道122;或者,
如图3和图5所示,第二分隔墙12设置的凸起结构121为阵列分布的多个凸起,且每一行凸起的排列方向与第二分隔墙12的长度方向平行,每一列凸起的排列方向与第一分隔墙11的长度方向平行,任意相邻两行凸起之间形成一个第二沟道122,如图5所示,任意相邻的两列凸起之间形成一个延伸方向与第一沟道112延伸方向平行的沟道123。
如图1所示,一种优选实施方式中,上述柔性显示器还包括依次形成于第一柔性基板6上的薄膜晶体管开关TFT、第一钝化层5、阳极3,TFT、第一钝化层5以及阳极3位于像素界定层1与第一柔性基板6之间,每一个阳极3与其对应的TFT的漏极46通过过孔连接;每一个像素区域内,阳极3与阴极2之间设有有机发光层9。
TFT可以为顶栅型,具体包括:
依次形成于第一柔性基板6的有源层41、栅极绝缘层42、栅极43、层间绝缘层44、源极45和漏极46;源极45和漏极46分别与有源层通过过孔连接。
或者,TFT为底栅型,具体包括:
依次形成于第一柔性基板6的栅极、栅绝缘层、有源层、源漏极。
上述柔性显示器中,第一沟道112和第二沟道122的深度越深,柔性显示器的可挠曲性越好,柔性显示器弯曲时阴极越不容易断裂。
一种具体实施方式中,第一分隔墙11中设置的第一沟道112的深度可以达到第一钝化层5;和/或,
第二分隔墙12中的第二沟道122的深度可以达到第一钝化层5。
如图1所示,上述柔性显示器中,阴极2背离第一柔性基板6的一面依次设有第二钝化层10、以及通过粘结胶层8粘结于第二钝化层10背离阴极2一侧的第二柔性基板7。
当然,如图6所示,上述柔性显示器中,阴极2背离第一柔性基板6的一侧依次设置有第二钝化层10和封装薄膜101。
通过第二钝化层10和第二柔性基板7、或者第二钝化层10和封装薄膜101进行封装,以提高柔性显示器的使用寿命。
具体地,上述柔性显示器具有顶发射型结构、底发射型结构、或者倒置型柔性显示器结构。
另一方面,本发明提供了一种上述技术方案中提供的任一种柔性显示器的制备方法,包括:
在第一柔性基板上形成薄膜晶体管开关TFT;
在TFT上形成阳极金属层,并通过构图工艺形成阳极图案;
形成树脂材料层,具体可以为感光树脂材料层,并通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,其中,第一分隔墙具有凸向背离第一柔性基板一侧的凸起结构,第一分隔墙沿垂直于第一分隔墙长度方向的横截面中,凸起结构的顶部为弧形,且第一分隔墙具有的凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;第二分隔墙具有凸向背离第一柔性基板一侧的凸起结构,第二分隔墙沿垂直于第二分隔墙长度方向的横截面中,凸起结构的顶部为弧形,且第二分隔墙具有的凸起结构形成开口背离第一柔性基板、且沿第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;
制备阴极金属层,其中,所述阴极与所述第一分隔墙正对的部分沿所述第一分隔墙的表面设置,且具有与所述第一沟道相应的弯曲状;所述阴极与所述第二分隔墙正对的部分沿所述第二分隔墙的表面设置,且具有与所述第二沟道相应的弯曲状。
优选地,通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,具体包括:
通过灰度曝光构图工艺形成第一分隔墙和第二分隔墙;
使第一分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构;
第二分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构。
显然,本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (9)
1.一种柔性显示器,包括第一柔性基板、像素界定层和阴极,所述像素界定层位于所述第一柔性基板和所述阴极之间,所述像素界定层包括多个并行分布的第一分隔墙,和多个并行分布的第二分隔墙,所述第一分隔墙和第二分隔墙交叉设置以围成多个像素区域,其特征在于,所述像素界定层为树脂材料制备的像素界定层,其中:
所述第一分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第一分隔墙沿垂直于第一分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第一分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;
所述第二分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第二分隔墙沿垂直于第二分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第二分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;
所述阴极与所述第一分隔墙正对的部分沿所述第一分隔墙的表面设置,且具有与所述第一沟道相应的弯曲状;所述阴极与所述第二分隔墙正对的部分沿所述第二分隔墙的表面设置,且具有与所述第二沟道相应的弯曲状。
2.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,每一个所述第一分隔墙位于任意相邻的两个第二分隔墙之间的部分:
所述第一分隔墙设置的凸起结构为多个沿所述第一分隔墙长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个所述第一沟道;或者,
所述第一分隔墙设置的所述凸起结构为阵列分布的多个凸起,且每一列所述凸起的排列方向与所述第一分隔墙的长度方向平行,每一行所述凸起的排列方向与所述第二分隔墙的长度方向平行,任意相邻两列凸起之间形成一个第一沟道,任意相邻的两行凸起之间形成一个延伸方向与所述第二沟道延伸方向平行的沟道。
3.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,每一个所述第二分隔墙位于任意相邻的两个第一分隔墙之间的部分:
所述第二分隔墙设置的凸起结构为多个沿所述第二分隔墙长度方向延伸的条形凸起,任意相邻的两个条形凸起之间形成一个所述第二沟道;或者,
所述第二分隔墙设置的所述凸起结构为阵列分布的多个凸起,且每一行所述凸起的排列方向与所述第二分隔墙的长度方向平行,每一列所述凸起的排列方向与所述第一分隔墙的长度方向平行,任意相邻两行凸起之间形成一个第二沟道,任意相邻的两列凸起之间形成一个延伸方向与所述第一沟道延伸方向平行的沟道。
4.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,还包括依次形成于所述第一柔性基板上的薄膜晶体管开关TFT、第一钝化层、阳极,所述TFT、第一钝化层、阳极位于所述像素界定层与所述第一柔性基板之间;所述第一分隔墙中,所述第一沟道的深度达到所述第一钝化层;和或,
所述第二分隔墙中,所述第二沟道的深度达到所述第一钝化层。
5.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,所述第一分隔墙具有的凸起为两个或多个,所述第二分隔墙具有的凸起为两个或多个。
6.根据权利要求1所述的柔性显示器,其特征在于,所述阴极背离所述第一柔性基板的一面依次设有第二钝化层、以及通过粘结胶层粘结于所述第二钝化层背离所述阴极一侧的第二柔性基板。
7.根据权利要求1~6任一项所述的柔性显示器,其特征在于,所述柔性显示器具有顶发射型结构、底发射型结构、或者倒置型柔性显示器结构。
8.一种如权利要求1~7任一项所述的柔性显示器的制备方法,其特征在于,包括:
在第一柔性基板上形成薄膜晶体管开关TFT;
在所述TFT上形成阳极金属层,并通过构图工艺形成阳极图案;
形成树脂材料层,并通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,其中,所述第一分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第一分隔墙沿垂直于第一分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第一分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第一分隔墙长度方向延伸的第一沟道;所述第二分隔墙具有凸向背离所述第一柔性基板一侧的凸起结构,所述第二分隔墙沿垂直于第二分隔墙长度方向的横截面中,所述凸起结构的顶部为弧形,且第二分隔墙具有的凸起结构形成开口背离所述第一柔性基板、且沿所述第二分隔墙长度方向延伸的第二沟道;
制备阴极金属层,其中,所述阴极与所述第一分隔墙正对的部分沿所述第一分隔墙的表面设置,且具有与所述第一沟道相应的弯曲状;所述阴极与所述第二分隔墙正对的部分沿所述第二分隔墙的表面设置,且具有与所述第二沟道相应的弯曲状。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述通过灰度曝光构图工艺形成具有第一分隔墙和第二分隔墙的像素界定层图案,具体包括:
通过灰度曝光构图工艺形成第一分隔墙和第二分隔墙;
使第一分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构;
使第二分隔墙背离第一柔性基板的一面形成凸起结构。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410074937.3A CN103887261B (zh) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 一种柔性显示器及其制备方法 |
US14/437,128 US9666650B2 (en) | 2014-03-03 | 2014-09-02 | Flexible display and manufacturing method thereof |
PCT/CN2014/085731 WO2015131515A1 (zh) | 2014-03-03 | 2014-09-02 | 柔性显示器及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410074937.3A CN103887261B (zh) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 一种柔性显示器及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103887261A CN103887261A (zh) | 2014-06-25 |
CN103887261B true CN103887261B (zh) | 2016-08-31 |
Family
ID=50956090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410074937.3A Active CN103887261B (zh) | 2014-03-03 | 2014-03-03 | 一种柔性显示器及其制备方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9666650B2 (zh) |
CN (1) | CN103887261B (zh) |
WO (1) | WO2015131515A1 (zh) |
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- 2014-03-03 CN CN201410074937.3A patent/CN103887261B/zh active Active
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- 2014-09-02 WO PCT/CN2014/085731 patent/WO2015131515A1/zh active Application Filing
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |