[go: up one dir, main page]

CN103537450B - 分流装置 - Google Patents

分流装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103537450B
CN103537450B CN201210240000.XA CN201210240000A CN103537450B CN 103537450 B CN103537450 B CN 103537450B CN 201210240000 A CN201210240000 A CN 201210240000A CN 103537450 B CN103537450 B CN 103537450B
Authority
CN
China
Prior art keywords
bottom wall
flow channel
tank
opening
accommodating space
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201210240000.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN103537450A (zh
Inventor
邓志明
陈绍禹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Els System Technology Co ltd
Original Assignee
Els System Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Els System Technology Co ltd filed Critical Els System Technology Co ltd
Priority to CN201210240000.XA priority Critical patent/CN103537450B/zh
Publication of CN103537450A publication Critical patent/CN103537450A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103537450B publication Critical patent/CN103537450B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning

Landscapes

  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

一种分流装置,包括一个桶槽及设于桶槽内的一个固定座及一个内分流环,桶槽的底壁具有一个第一开口及环绕第一开口且相隔离的一个第一流道及一个第二流道;固定座设于桶槽的底壁并封闭第一开口;内分流环具有由一个底壁上下分隔的一个上容置空间及一个下容置空间;该底壁位于桶槽的第一流道及第二流道上方,并具有一个第二开口以及多个与该第二流道对应的导流孔,内分流环的第二开口与固定座相套接,上容置空间可通过底壁的这些导流孔与桶槽的第二流道相连通,而内分流环的第二开口与固定座分离,会使下容置空间与桶槽的第一流道相连通。

Description

分流装置
技术领域
本发明涉及一种分流装置,特别是涉及一种使两种不同液体可以分开收集的分流装置。
背景技术
芯片清洗是芯片制造工艺中的一个必要程序,其主要去除喷洒在芯片表面的显影剂或光刻胶剥离剂,使芯片表面的图形能通过显影或光刻胶剥离工序而显现出来,让芯片的功能得以发挥并维持良好的稳定性。
例如图1所示,在以往的一个芯片蚀刻工序中,经过光刻胶覆盖及曝光之后的一个芯片90被放置在一个显影机台的显影槽91内,并固定在一个旋转器92的一个载盘93上。然后一个喷嘴94将显影液喷洒于芯片90表面,使显影液与芯片90上经曝光的光刻胶层产生化学反应以显影,当显影完成后,旋转器92带动芯片90旋转,并且另一个喷嘴95将清洗溶液,例如去离子水喷洒于芯片90表面,使将芯片90表面的显影液冲洗干净,而喷洒于显影槽91内的显影液与清洗溶液则会通过同一出口96收集于一个废水集中槽(图未示),再进行废水处理以避免环境污染。然而此种做法不但使显影液无法被回收再利用,而无法减少显影液的用量及采购费用,更重要的是微量的显影液混合大量的去离子水后,这大量的混合液体均被视为已污染化学液体,须特别进行化学废弃物处理,成本十分高昂,导致芯片制造成本无法有效降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可让有机物与无机物分流回收再利用,以降低有机物回收成本并减少环境污染的分流装置。
本发明的分流装置,包括:一个桶槽,具有一个底壁及环绕该底壁周缘的侧壁,该底壁具有位于中央的一个第一开口,以及环绕该第一开口且相隔离的一个第一流道及一个第二流道;一个固定座,设于该桶槽的底壁并封闭该第一开口;及一个内分流环,可相对该桶槽纵向位移地置于该桶槽内,并具有一个底壁,一个由底壁周缘向上环绕形成的上周壁,以及一个由底壁的底面向下环绕形成的下周壁,而由该底壁和该上周壁共同形成一个上容置空间,以及由该底壁和该下周壁共同形成一个下容置空间;该底壁位于该桶槽的第一流道及第二流道上方,并具有一个位于中央的第二开口,以及多个与该第二流道对应的导流孔;该内分流环的底壁的第二开口与该固定座相套接而密合时,会阻隔该上容置空间和该下容置空间,且该下周壁置入该第一流道中,使得该上容置空间通过该底壁的这些导流孔与该桶槽的第二流道相连通;该内分流环的底壁的第二开口与该固定座分离时,该内分流环的下周壁会阻隔该下容置空间与该桶槽的第二流道,并使该下容置空间与该桶槽的第一流道相连通。
较佳地,该内分流环的这些导流孔是分布在该内分流环的底壁周缘,且该第二开口与这些导流孔之间具有一个斜面,使得该第二开口高于这些导流孔。
较佳地,该第一开口与该第一流道之间是以一第一环形隔板相间隔,且该第一流道与该第二流道之间是以一第二环形隔板相间隔。
较佳地,该固定座的上端具有一个圆形端部,且该内分流环的底壁的第二开口是与该固定座的圆形端部套接而相密合。
较佳地,该固定座还具有由其底面周缘向下延伸形成的一个环形周壁,该环形周壁套设在该桶槽的底壁的该第一环形隔板的外面并与该第一环形隔板紧配合,而将该固定座固定在该桶槽的底壁的第一开口上方。
较佳地,该分流装置还包括一个环形盖板以及一个第一驱动件,该环形盖板固定在该内分流环的上周壁上缘,该第一驱动件与该环形盖板连接,并通过该环形盖板驱动该内分流环相对该桶槽纵向位移。
较佳地,该分流装置还包括一个设于该固定座的中央的升降机构,其包含一根可纵向位移地穿设于该固定座中央的活动杆,一根驱动杆以及设于该桶槽的底壁下方的一个第二驱动件及一个第三驱动件,该活动杆的顶端外露于该固定座外并形成一个承载面,该驱动杆的一个上端部与该活动杆的一个下半部相套接,且该驱动杆的一个下端部穿出该桶槽的底壁外并与该第二驱动件连接,该第二驱动件通过该驱动杆驱动该活动杆旋转,且该第三驱动件与该第二驱动件连接,并通过该第二驱动件驱动该活动杆相对该固定座纵向位移。
本发明的有益效果在于:借由在桶槽的底壁形成第一流道及第二流道,并于内分流环内形成上容置空间及下容置空间,使得内分流环与固定在桶槽的底壁的固定座分离时,下容置空间会与第一流道相连通并阻隔第二流道,让洒落在下容置空间中的液体可以通过第一流道排出,并在内分流环与固定在桶槽的底壁的固定座相套接而密合时,阻隔上容置空间与下容置空间,并使上容置空间通过这些导流孔与第二流道相连通,使得洒落在上容置空间的液体可以通过第二流道排出。
附图说明
图1是以往显影槽只有一个出口供排出显影剂及清洗溶液的示意图。
图2是本发明一个较佳实施例的分流装置组设在一平面上的立体图。
图3是本实施例分流装置的立体分解图。
图4是图2的分流装置的纵向剖面图,其中显示内分流环置入桶槽内并以其第二开口与固定座的圆形端部相套接而密合,使内分流环的上容置空间通过这些导流孔与第二流道相连通,以及第一喷嘴伸入桶槽内的内分流环的上容置空间中喷洒清洗溶液的态样。
图5是显示图4的内分流环上升而与固定座分离,使内分流环的下容置空间与第一流道相连通,以及第二喷嘴伸入桶槽内的内分流环的第二开口中喷洒无机溶剂的态样。
图6是图2的侧视平面图。
图7显示活动杆上升至桶槽外的态样。
具体实施方式
为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明。首先需要说明的是,本发明并不限于下述具体实施方式,本领域的技术人员应该从下述实施方式所体现的精神来理解本发明,各技术术语可以基于本发明的精神实质来作最宽泛的理解。图中相同或相似的构件采用相同的附图标记表示。
参见图2至图4所示,本发明一个较佳实施例的分流装置包括一个设置于一个平面100上的桶槽1,一个设置于桶槽1内的固定座2及一个设置于桶槽1内并可相对桶槽1纵向(上下)位移的内分流环3。
桶槽1呈圆桶状,并具有一个底壁10及环绕底壁10周缘的侧壁11,底壁10具有位于中央的一个第一开口12,以及环绕第一开口12外围且相间隔的一个第一流道14及一个第二流道15。其中第一开口12与第一流道14之间是以一个第一环形隔板13相间隔,且第一流道14与第二流道15之间是以一个第二环形隔板16相间隔。
固定座2设于桶槽1的底壁10并封闭第一开口12。且如图4所示,固定座2的纵切面大致呈一个上窄下宽的梯形,且其上端形成具有一定高度及相同宽度的一个圆形端部21。固定座2还具有由其底面周缘向下延伸形成的一个环形周壁22,且该环形周壁22套设在桶槽1底壁10的第一环形隔板13外面并与第一环形隔板13紧配合,使得固定座2固定在桶槽1底壁10的第一开口12上方。
内分流环3具有一个底壁31,一个由底壁31的周缘向上环绕形成的上周壁32,以及一个由底壁31的底面向下环绕形成的下周壁33,而由底壁31和上周壁32共同形成一个上容置空间34,以及由底壁31和下周壁33共同形成一个下容置空间35。且底壁31位于该桶槽1的第一流道14及第二流道15上方,并具有一个位于中央且与固定座2的圆形端部21相配合的第二开口36,以及多个对应第二流道15的导流孔37。且第二开口36与这些导流孔37之间具有一个斜面38,使得第二开口36高于这些导流孔37。
借此,如图4所示,当内分流环3置于桶槽1内时,其底壁31的第二开口36会与固定座2的圆形端部21套接而相密合,而阻隔了上容置空间34和下容置空间35,且其下周壁33置入第一流道14中,并使得上容置空间34通过底壁31的这些导流孔37与桶槽1的第二流道15相连通;且如图5所示,当内分流环3上移至使底壁31的第二开口36离开固定座2的圆形端部21时,上容置空间34与下容置空间35通过第二开口36相连通,且内分流环3的下周壁33上升至与第二环形隔板16顶端大约等高位置,而阻隔了下容置空间35与桶槽1底壁10上的第二流道15,并使下容置空间35与桶槽1底壁10上的第一流道14相连通。
此外,为了让内分流环3可以在桶槽1内纵向位移,如图2至图4所示,本实施例还包括一个覆盖于桶槽1上方的环形盖板4及一个与环形盖板4连结的第一驱动件5。
环形盖板4具有一个外(直)径与桶槽1的外(直)径相当的顶板部41以及一个位于顶板部41下方,且外(直)径与内分流环3的上端的内(直)径相当的底板部42。借此,环形盖板4覆盖在桶槽1上方时,顶板部41盖合在桶槽1的侧壁11的上缘并与侧壁11的周缘齐平,且底板部42与内分流环3的上周壁32的内面相嵌合,使环形盖板4定位,再借由螺丝(图未示)将环形盖板4锁固在内分流环3上。
第一驱动件5设在桶槽1的一侧,并包括一个与环形盖板4连接的弧形臂51以及一个驱动弧形臂51纵向位移的驱动单元52,借此,驱动单元52可通过驱动弧形臂51带动固定在环形盖板4的内分流环3相对桶槽1纵向位移。
而且当本实施例分流装置是应用在芯片的的蚀刻显影工序时,如图2、图4及图5所示,分流装置还包括一个设于固定座2的中央的升降机构6,其包含一根可纵向位移地穿设于固定座2中央的活动杆61,一根驱动杆62以及设于桶槽1的底壁10下方(即平面100下方)的第二驱动件63及第三驱动件64。活动杆61的顶端外露于固定座2外并形成一个供承载芯片(图未示)的承载面64。驱动杆62的上端部与活动杆61的下半部相套接,且驱动杆62的下端部穿出桶槽1的底壁10外并穿过平面100而与第二驱动件63连接。借此,第二驱动件63可通过驱动杆62驱动活动杆61旋转,且第三驱动件64与第二驱动件63连接,并通过第二驱动件63驱动活动杆61相对固定座2纵向位移。且由于第二驱动件63及第三驱动件64的作动方式并非本案重点,在此不加详述。
另外,如图2所示,在平面100上位于桶槽1的相反两侧边还分别设有一个第一喷嘴71及一个第二喷嘴81,以及与第一喷嘴71连接以驱动第一喷嘴71移动至桶槽1上方并伸入内分流环3的上容置空间34中的第四驱动件72,以及与第二喷嘴81连接以驱动第二喷嘴81移动至桶槽1上方并伸入内分流环3的上容置空间34中的第五驱动件82。且第二喷嘴81与一个有机溶剂,例如显影剂或光刻胶剥离剂的供给来源连接(图未示),以喷洒该有机溶剂;而第一喷嘴71与一做为清洗溶液的无机液体,例如去离子水的供给来源连接(图未示),以喷洒该清洗溶液。
借此,当要对芯片喷洒有机溶剂,例如显影剂时,参见图6所示,第三驱动件64通过第二驱动件63驱动活动杆61上升至使其承载面65露出桶槽1外,以方便芯片(图未示)置放在承载面65上,然后,第三驱动件64再通过第二驱动件63驱动活动杆61下降至使活动杆61的承载面65外露于固定座2外。接着,如图5所示,第一驱动件5通过环形盖板4驱动内分流环3向上抬升,使内分流环3的底壁31的第二开口36离开固定座2的圆形端部21,让上容置空间34与下容置空间35通过第二开口36相连通,且内分流环3的下周壁33上升至与第二环形隔板16顶端大约等高位置,而阻隔了下容置空间35与桶槽1底壁10上的第二流道15,并使下容置空间35与桶槽1底壁10上的第一流道14相连通。
因此,如图5所示,当第五驱动件82驱动第二喷嘴81移动至桶槽1上方并伸入内分流环3内时,由于内分流环3上升,所以第二喷嘴81会进入内分流环3的底壁31的第二开口36,并朝下容置空间35内的放置在承载面65上的芯片(图未示)喷洒显影剂,同时,第二驱动件63通过固定杆62驱动活动杆61旋转,使显影剂能均匀涂布在芯片上,而滴落在固定座2上的显影剂则沿着固定座2周缘流入第一流道14中而收集于一与第一流道14连接的显影剂集中槽(图未示)。
然后,芯片被静置一段时间以完成显影,当芯片显影完成后,如图4所示,第一驱动件5通过环形盖板4驱动内分流环3向下降落,使内分流环3的底壁31的第二开口36与固定座2的圆形端部21套接且相密合,而阻隔了上容置空间34和下容置空间35,且其下周壁33置入第一流道14中,并使得上容置空间34通过底壁31的这些导流孔37与桶槽1的第二流道15相连通,借此,如图4所示,换第四驱动件72驱动第一喷嘴71移动至桶槽1上方并伸入内分流环3的上容置空间34内,第一喷嘴71会朝放置在固定座2上方的芯片(图未示)喷洒清洗溶液,使将芯片90表面的显影液冲洗干净,同时,第二驱动件63通过固定杆62驱动活动杆61旋转,以将承载面65上的芯片旋干;且如图4所示,滴落在固定座2的清洗溶液会沿着内分流环3的底壁31的斜面38流到这些导流孔37,并通过导流孔37流入桶槽1的底壁10的第二流道15中,而收集于一个与第二流道15连接的清洗溶液集中槽(图未示)。
综上所述,本实施例通过在桶槽1的底壁10形成第一流道14及第二流道15,并于内分流环3内形成上容置空间34及下容置空间35,使得内分流环3与固定在桶槽1的底壁10的固定座2分离时,下容置空间35会与第一流道14相连通并阻隔第二流道15,让洒落在下容置空间35中的液体可以通过第一流道14排出,并在内分流环3与固定在桶槽1的底壁10的固定座2相套接而密合时,阻隔上容置空间34与下容置空间35,并使上容置空间34通过这些导流孔37与第二流道15相连通,使得洒落在上容置空间34的液体可以通过第二流道15排出,借此,通过上述第一流道14收集的液体,例如显影剂即可以被重复回收再利用,而节省成本;而通过上述第二流道14收集的另一液体,例如清洗溶液中的显影剂浓度若低于一个标准值,则可以被直接排放而不需再经过废水处理,亦可有效节省废水处理的费用,确实达成本发明分流的功效和目的。
应理解,在阅读了本发明的上述讲授内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

Claims (7)

1.一种分流装置,该分流装置包括:
一个桶槽,具有一个底壁及环绕该底壁周缘的侧壁,
其特征在于,
该底壁具有位于中央的一个第一开口,以及环绕该第一开口且相隔离的一个第一流道及一个第二流道;并且,
该分流装置还包括:
一个固定座,设于该桶槽的底壁并封闭该第一开口;及
一个内分流环,可相对该桶槽纵向位移地置于该桶槽内,并具有一个底壁,一个由底壁周缘向上环绕形成的上周壁,以及一个由底壁的底面向下环绕形成的下周壁,而由该底壁和该上周壁共同形成一个上容置空间,以及由该底壁和该下周壁共同形成一个下容置空间;该底壁位于该桶槽的第一流道及第二流道上方,并具有一个位于中央的第二开口,以及多个与该第二流道对应的导流孔;该内分流环的底壁的第二开口与该固定座相套接而密合时,会阻隔该上容置空间和该下容置空间,且该下周壁置入该第一流道中,使得该上容置空间通过该底壁的这些导流孔与该桶槽的第二流道相连通;该内分流环的底壁的第二开口与该固定座分离时,该内分流环的下周壁会阻隔该下容置空间与该桶槽的第二流道,并使该下容置空间与该桶槽的第一流道相连通。
2.如权利要求1所述的分流装置,其特征在于:该内分流环的这些导流孔是分布在该内分流环的底壁周缘,且该第二开口与这些导流孔之间具有一个斜面,使得该第二开口高于这些导流孔。
3.如权利要求1或2所述的分流装置,其特征在于:该第一开口与该第一流道之间是以一个第一环形隔板相间隔,且该第一流道与该第二流道之间是以一个第二环形隔板相间隔。
4.如权利要求3所述的分流装置,其特征在于:该固定座的上端具有一个圆形端部,且该内分流环的底壁的第二开口是与该固定座的圆形端部套接而相密合。
5.如权利要求3所述的分流装置,其特征在于:该固定座还具有由其底面周缘向下延伸形成的一个环形周壁,该环形周壁套设在该桶槽的底壁的该第一环形隔板的外面并与该第一环形隔板紧配合,而将该固定座固定在该桶槽的底壁的第一开口上方。
6.如权利要求3所述的分流装置,其特征在于:该分流装置还包括一个环形盖板以及一个第一驱动件,该环形盖板固定在该内分流环的上周壁上缘,该第一驱动件与该环形盖板连接,并透过该环形盖板驱动该内分流环相对该桶槽纵向位移。
7.如权利要求3所述的分流装置,其特征在于:该分流装置还包括一个设于该固定座的中央的升降机构,其包含一根可纵向位移地穿设于该固定座中央的活动杆,一根驱动杆以及设于该桶槽的底壁下方的一个第二驱动件及一个第三驱动件,该活动杆的顶端外露于该固定座外并形成一个承载面,该驱动杆的一个上端部与该活动杆的一个下半部相套接,且该驱动杆的一个下端部穿出该桶槽的底壁外并与该第二驱动件连接,该第二驱动件透过该驱动杆驱动该活动杆旋转,且该第三驱动件与该第二驱动件连接,并透过该第二驱动件驱动该活动杆相对该固定座纵向位移。
CN201210240000.XA 2012-07-12 2012-07-12 分流装置 Active CN103537450B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210240000.XA CN103537450B (zh) 2012-07-12 2012-07-12 分流装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210240000.XA CN103537450B (zh) 2012-07-12 2012-07-12 分流装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103537450A CN103537450A (zh) 2014-01-29
CN103537450B true CN103537450B (zh) 2015-08-05

Family

ID=49961528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210240000.XA Active CN103537450B (zh) 2012-07-12 2012-07-12 分流装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103537450B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001126982A (ja) * 1999-08-17 2001-05-11 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及びその方法
JP3966848B2 (ja) * 2003-11-07 2007-08-29 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP2008108775A (ja) * 2006-10-23 2008-05-08 Sumitomo Precision Prod Co Ltd 回転式基板処理装置
CN101826449A (zh) * 2009-03-04 2010-09-08 东京毅力科创株式会社 液体处理装置及液体处理方法
US20110297257A1 (en) * 2010-06-03 2011-12-08 Tokyo Electron Limited Substrate liquid processing apparatus, method of controlling substrate liquid processing apparatus, and storage medium performing substrate liquid processing apparatus control method on substrate liquid processing apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001126982A (ja) * 1999-08-17 2001-05-11 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及びその方法
JP3966848B2 (ja) * 2003-11-07 2007-08-29 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
JP2008108775A (ja) * 2006-10-23 2008-05-08 Sumitomo Precision Prod Co Ltd 回転式基板処理装置
CN101826449A (zh) * 2009-03-04 2010-09-08 东京毅力科创株式会社 液体处理装置及液体处理方法
US20110297257A1 (en) * 2010-06-03 2011-12-08 Tokyo Electron Limited Substrate liquid processing apparatus, method of controlling substrate liquid processing apparatus, and storage medium performing substrate liquid processing apparatus control method on substrate liquid processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
CN103537450A (zh) 2014-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101983897B1 (ko) 기판 처리 장치
CN103871938B (zh) 用于清洗半导体晶圆的清洗槽
KR20160087823A (ko) 세제자동투입 세탁기 및 방법
TWI396233B (zh) A rotation processing device and a rotation processing method
CN103537450B (zh) 分流装置
CN102580950A (zh) 工件清洗装置
CN108254517A (zh) 一种多点位水质采样检测装置及其采样方法
US11097318B2 (en) Cup wash disk with shims
CN203746808U (zh) 用于清洗晶圆的盘式载具
JP2008272762A (ja) ニードル洗浄装置
KR20230016859A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2007168039A (ja) 研磨テーブルの研磨面洗浄機構、及び研磨装置
TW201351489A (zh) 分流裝置
JP5216634B2 (ja) 自動分析装置
CN213726628U (zh) 一种可方便清理倾洒化学液的化学实验台
TWM631010U (zh) 分流裝置
US7596886B1 (en) Method and system to separate and recycle divergent chemistries
CN209982833U (zh) 一种用于cof湿制程的液浮喷盘
CN211635464U (zh) 废液过滤装置
KR101370074B1 (ko) 샤워헤드 세척 장치
CN203002672U (zh) 防止液体飞溅的清洗装置及具有该装置的清洗系统
CN106269750A (zh) 清洗色谱进样瓶的系统和方法
CN106890820A (zh) 一种镜片清洗装置
CN205893717U (zh) 用于洗衣机的分配器盒和具有其的洗衣机
JP2549535Y2 (ja) 洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant