0 calificaciones0% encontró este documento útil (0 votos) 161 vistas47 páginasSensores de Pelicula Gruesa
Derechos de autor
© © All Rights Reserved
Nos tomamos en serio los derechos de los contenidos. Si sospechas que se trata de tu contenido,
reclámalo aquí.
Formatos disponibles
Descarga como PDF o lee en línea desde Scribd
7
Sensores de Pelicula Gruesa
Liliana B. Braigi
1. INTRODUCCION
La tecnologia de pelicula grucsa permite fabricar, por medio de un
proceso de serigrafiay sinterizado, microcircuitos hibridos sobre un sustrato
aislado, generalmentecerémica, combinando componentes pasivos (resisto-
res, capacitores ¢ inductores), dispositivos semiconductores monoliticos y
partes discretas.
La automatizacién y alta productividad que ofrece la tecnologia de
pelicula gruesa; los cortos tiempos necesarios para pasar de prototipos 2
productos; el nivel medio de integracién que permite obtener dispositivos
robustos, de bajo peso y econdmicos; la alta confiabilidad y la habilidad de
manejar relativamente altas corrientes y voltajes son algunas de las razones
de éxito de esta tecnologia en el campo de la electronica.
Sin embargo, la utilizacién de esta tecnologia no se limita ala produc-
cién de circuitos electrénicos miniaturizados. Por el contrario, la misma
resulta particularmente adecuada para el desarrollo de nuevos sensores.
Podemos mencionar tres areas significativas donde esta tecnologia interviene
en el desarrollo de sensores [1,2]:
1. Como soporte electrénico, compacto y robusto, para ser incorporado
dentro del cuerpo del sensor.
2672. La posibilidad de crear estructuras de soporte sobre las cuales se
depositan materiales sensibles y prover nuevas formas de «array» de
sensores.
3. Elusodelos materiales de pelicula gruesa, aprovechando las propieda-
des intrinsecas de los diferentes tipos de pinturas 0 pastas, para el
desarrollo de sensores primarios.
Cabe mencionar que aunque estos aspectos de la tecnologia de pelicula
gruesa pueden ser explotados separadamente, son atin mds potentes y
econémicos cuando son usados en forma conjunta.
Un factor que hace sumamente atractivo el uso de la pelicula gruesa
para el desarrollo de sensores es el bajo costo de equipamiento necesario,
frentea las altas inversiones de capital requeridos por otras tecnologfas, tales
como la de sensores semiconductores. Una ventaja adicional frente a dichas
tecnologias ¢s que los sensores hibridos pueden ser fabricados en series cortas
sin incrementar los costos de produccién.
Acontinuacién describiremos algunos aspectos basicos dela tecnologia
de pelicula gruesa, para luego abordar los tres aspectos, arriba mencionados,
que hacen que dicha tecnologia sea adecuada pata el desarrollo de sensores.
En especial trataremos con mayor grado de detalle los sensores primarios de
pelicula gruesa.
2. FUNDAMENTOS DE LA TECNOLOGIA DE PELICULA GRUESA
Los microcircuitos hibridos de pelicula gruesa se obtienen al depositar,
1 través de una méscara con un formato dado, capas de pastas o pinturas
especiales sobre un sustrato aislado que luego son sinterizadas. El cardcter
distintivo de esta tecnologfa no esti en el espesor de las capas, sino en el
método de impresién serigréfico.
2.1 Propiedades de lax pastas
Tas pastas de pelicula gruesa tienen tes constituycnies principales:« Material de unién (binder): vidrio fritado.
* Vehiculo: solventes orgénicos
+ Elemento activo: metales, alcaciones, éxidos o compuestos cerdmicos.
as proporciones relativas del material de unién y del elemento activo
definirdn las caracteristicas eléctricas de las pastas, pudiéndoselas clasificar
principalmente en conductoras, dieléctricas y resistivas [3-5].
2.1.1 Pastas conductoras
Las pastas conductoras son las mds utilizadas en los microcircuitos
hibridos; generalmente son usadas para interconexién de componentes,
terminales de resistores y electrodos de capacitores de pelicula gruesa,
terminales de unién para componentes discretos, etc. Deben tener funda-
mentalmente baja resistividad (menores de 10 m/ 0), buena soldabilidad,
comoasf también buena linea de definicién, compatibilidad con otras pastas
y esencialmente buena estabilidad durante el proceso.
Como elemento activo se utilizan metales preciosos (oro, plata, paladio
co platino) con un tamafio de particula menor de 5 im y con una proporcién
del 50 al 70 % del peso de la pintura; por su composicién son las mas caras
de los tres tipos de pastas. El tamafio, distribucién y forma de las particulas
metilicas en el vidrio determinardn las propiedades fisicas y eléctricas
de la pasta.
El vidrio mantiene las particulas metdlicas en contacto y une el film al
sustrato. En la mayorfa de los materiales de pelfcula gruesa, incluyendo
conductores, el vidrio fritado es un vidrio de bajo punto de ablandamiento;
no tiene un punto de fusién definido debido a su estructura interatmica
desordenada. A medida que aumenta la temperatura, la viscosidad del vidrio
disminuye hasta alcanzar fluidez. Si se aumenta la cantidad de vidrio
aumentala resistividad por unidad dedreadela pasta (menor conductividad);
esto se debe a que las particulas metdlicas estarén mds aisladas. El porcentaje
de vidrio es de 10 a 20% del peso de la pasta conductora.
El vehiculo organico permite definir las caracteristicas de impresién.
Los solventes tipicos usados incluyenalcoholes y accites de pino. La presencia
del vehiculo no determina las propiedades cléctricas; sin embargo,
269es posible variar el espesor de la pelicula sinterizada al cambiar la fraccién de
volumen del vehiculo.
La pasta conductora paladio-plata (Pd Ag) es la mas utilizada pues
cumple con los requerimientos mencionados anteriormente y es de menor
costo que las de Au, Pd Au y Pt Au. El 80% de la demanda total de pastas
conductoras es de Pd Ag, El inconveniente que presenta este tipo de pasta
cs el de migracién de plata al resistor [6].
2.1.2 Pastas dieléctricas
Debido a que presentan una gran variedad de usos, la composicién de
las pastas dieléctricas varfa de acuerdo a la aplicacién requerida. Son
generalmente utilizadas como dieléctricos de capacitores de pelicula gruesa;
como aislante entre cruces de conductores multicapa; como capa pasivante
para la proteccién de resistores; y més recientemente como aislante de
sustratos de acero. Independientemente de la aplicaci6n, el material debe
tener una alta resistencia de aislacién (mayor que 10'°Q), alta tensién de
ruptura (mayor que 10KV/mm), minima tendencia a formar agujeros y
buena propiedad de impresién.
Enel caso de capacitores de pelicula gruesa se requieren pastas de alta
constante dieléctrica basadas en cerémicas ferroeléctricas, por ejemplo
titanato de bario. En cambio, para aislacién de cruces de conductores serd
necesario una baja constante dieléctrica para minimizar la capacidad de
acoplamiento entre conductores; en general se basan en materiales no
ferroeléctricos, por ¢). titanato de magnesio, titanato de zinc, éxidos de
titanio.
Laaplicacién de pastas dieléctricas como aislante en sustratos metélicos
cs relativamente nueva y atin no se utiliza en la industria microelectrénica.
Estas fueron inicialmente desarrolladas para ofrecer una alternativa de
menor costo que los sustratos de acero esmaltado y actualmente juegan un
rol importante en el desarrollo de sensores. Para este tipo de aplicaciones,
estas pastas deben tener, ademds de las propiedades antes mencionadas, un
buen coeficiente térmico de expansién lineal (TCE) apareado con el del
sustrato y con los distintos tipos de pastas.
2702.1.3 Pastas resistivas
Los resistores de pelfcula gruesa son similares en naturaleza a los
resistores tipo CERMET (cerémica/metal). En los comienzos se utilizaron
metales tales como plata, paladio u éxido de cobre como fase conductora
para luego ser reemplazados por dxido de rutenio, el cual tiene gran
estabilidad a clevadas temperaturas, sin presentar reacciones quimicas
durante el proceso de sinterizado del mismo.
Modificando las proporciones del material conductor y del vidrio
fritado se obtienen diferentes resistividades, desde aproximadamente
1 Qida 10 MQLo. Esta gran disponibilidad de valores permite «hibridizar»
casi cualquier circuito anal6gico o digital utilizando pelfcula gruesa.
Algunas de las propiedades requeridas para este tipo de pastas son:
+ Amplio rango de valores de resistores.
* Compatibilidad con pastas conductoras y dieléctricas.
* Bajo coeficiente de temperatura de resistencia (TCR).
* Bajo coeficiente de tensién de resistencia (VCR).
+ Buen apareamiento térmico entre resistores (TCR tracking).
+ Estabilidad a largo plazo.
* Bajo ruido.
+ Buena estabilidad durante el proceso.
Laseleccién del vidrio es més critica para este tipo de pasta, puesto que
afectara las propiedades eléctricas del resistor; factores tales como tamafio
de particula y condiciones de cocido definirdn las caracteristicas del mismo.
En cuantoasu composicién varia de fabricanteen fabricante. La formulacin
en porcentajes del peso esté dada por: vidrio aproximadamente 40%,
vehiculo 30% y material resistivo 30%.
Las propiedades eléctricas de los resistores pueden estar afectadas por
un fenémeno de migracién metalica desde Jos terminales. Es bien conocido
quela plata migra bajo lainfluencia de tensién de polarizacién y queel efecto
aumenta con la temperatura y la humedad. Por lo tanto, terminales que
contengan plata pueden facilitar difusién del metal en la capa resistiva y asi
cambiar las propiedades eléctricas del mismo, Esta tendencia de la Aga la
migracién es mayor que la de otros metales preciosos como oro, paladio y
platino. Estudios realizados por Cattaneo et al. [6] encontraron concentra-
271ciones mayores que 0,5% de plata hasta una distancia de 0,5 mm en la
interfase resistor- terminal. También hallaron quela resistividad volumétrica
decrecfa y que factores tales como coeficiente de temperatura de resistencia
nominal y nivel de ruido se modificaban por la presencia de la plata.
Las propiedades eléctricas de los resistores de pelicula gruesa también
pueden, verse afectadas por el bismuto, clemento presente en las pastas
conductoras. Por lo tanto debe tenerse en cuenta que atin en resistores con
terminales libres de plata puede haber migracién metilica [7]. Para minimi-
zar estos problemas, sino eliminarlos, se trata de mantener la longitud de los
resistores a un valor mayor que 0,5 mm.
2.2 Mecanismos de conduccién
El mecanismo de conduccién en los resistores de pelicula gruesa es un
proceso complicado que atin hoy no esté totalmente entendido [8], aunque
se sabe que presenta analogfas con el encontrado en semiconductores.
Existen distintos modelos que tratan de explicar dichos mecanismos de
conduccién. Siguiendo a G.E.Pike et al. [9] los distintos modelos pueden
agruparse en cinco categorfas:
‘Modelo uniforme: en este modelo se presume que el constituyente
metilico dopa el vidrio hasta Ilevarlo a un estado degenerado, dando lugar
as{ a.un tipo de conduccién debido al alto nivel de impurezas.
Modelo de canal uniforme:segiin este modelo la corriente eléctrica fluye
solamentea través de caminos formados por el constituyente conductor. Las
particulas conductoras se unen formando caminos durante el proceso de
sinterizado, La caracteristica que distingue esta categoria de otros modelos
de canal, es que los caminos por donde circula la corriente eléctrica son
basicamente de composicién uniforme. En esta categorfa se incluyen todos
los procesos de transporte de carga a través de barreras, excluyendo el efecto
ttinel (inyeccién de portadores, conduccién extrinseca, efecto Poole-Frenkel,
etc.).
Modelo de barreras semiconductoras: aqui los canales de particulas
metilicas estén en algunos tramos interrumpidos por barreras semicon-
ductoras o aislantes, Estas regiones pueden ser inclusiones de la fase de vidrioque ha sido dopada por el constituyente metdlico.
Modelo de barrera de efecto tinel:en este modelo los canales de corriente
estén constituidos por particulas metdlicas separadas por barreras [10,11].
En este caso sin embargo, las barreras son suficientemente delgadas, de mo-
do que la conductancia esta controlada por el proceso de efecto ttinel. Los
mecanismos pueden incluir tuneleo directo particula a particula, como
también tuneleo a través de uno o més estados intermedios en la barrera
(efecto riinel resonante).
‘Modelo de percolacié. estrechamente ligado al modelo anterior, el
mecanismo de conduccién descrito por la teorla de percolacién del electrén
explica el transporte de carga en semiconductores amorfos [12]. La estruc-
tura consiste de granos conductores con un diémetro de 0,1 a 0,31m
separados por capas dieléctricas. Es posible clasificar los granos conductores
en tres grupos:
+ un grupo de granos entre los cuales hay contacto shmico,
+ un segundo grupo de granos entre los cuales hay adn un contacto
eléctrico con una cierta resistencia,
+ un tercer grupo con una muy alta resistencia de contacto.
En a figura | se presenta una estructura simplificada de conduccién de
los resistores de pelicula gruesa. Asi, es posible desctibir un resistor de
pelicula gruesa como una red en la cual los electrones se mueven buscando
el camino de menor resistencia. La conduccién se produce por “filtracién”
de portadores de cargas eléctricas.
El mecanismo de conduccién presentado, que es muy similar al
encontrado en algunos materiales no cristalinos 0 amorfos, ha sido descripto
mateméticamente. Se ha demostrado que para los resistores de pelicula
gruesa la variacién de la resistividad p como una funcién de a temperatura
T, esti dada por la expresin:
p=yremn" a)
donde T, esa temperatura tipica que depende de la estructura (densidad y
dimensiones de los granos, tipos de vidrios, etc.).
2732.3 Sustratos
Desde un punto de vista estructural, el sustrato es el soporte mecénico
londe se conectan eléctricamente los componentes montados en él. Sus
sropiedades afectan tanto el proceso usado como las caracteristicas finales de
ircuito hibrido[13]. Podemos enumerar algunos de los requetimientos
sicos que los sustratos deben tener [14]:
© Ser mecdnicamente resistentes, para evitar tensiones y vibraciones.
* Poseer buena estabilidad a las temperaturas de sinterizado hasta
1000°C,
* Poser alta resistividad eléctrica (buena aislacién eléctrica).
* Poseer un buen coeficientede temperatura deexpansién lineal apareado
con la capa de pelicula gruesa.
* Tener un adecuado acabado superficial, que permita obtener una
buena adhesién, impresién uniforme y buena definicién.
* Poser alta conductividad térmica, permitiendo disipacién térmica de
los componentes de pelicula gruesa y de los dispositivos discretos.
* Estar libres de curvaturas o cambios dimensionales durante el proceso.
* Poseer alta resistencia a productos quimicos y humedad,* Ser quimicamente inerte.
* Ser relativamente econdémicos.
La mayorfa de los sustratos utilizados se basan en materiales tales como
akimina, éxidos de berilio, éxidos de magnesio, zirconia o combinacién de
tos, vidrio, cuarzo y nitruro de aluminio.
El estandar industrial son cerémicas con alto contenido de alimina
(94-97% Al,O,); siendo la alimina 96% la més utilizada. El éxido de
derilio se emplea en algunas aplicaciones de alta confiabilidad. Los sustratos
de vidrio tienen aplicaciones limitadas debido a que la temperatura de
sinterizado es demasiado alta para este tipo de material. :
Recientemente los sustratos de acero esmaltados han cobrado popula-
ridad, particularmente para aplicaciones de alta potencia. Estos sustratos se
preparan usando aceros de bajo contenido de carbono y una capa deesmalte,
compuesta de una mezcla de polvos de cuarzo con boro. Este tipo de sustra-
tos pueden ser fabricados a costos relativamente bajos en voltimenes gran-
des de produccién; pero presenta como mayor desventaja cambios en las
caracteristicas del esmalte cuando son horneados a temperaturas mayores
que 700 °C. Esto hace que deban usarse pastas especiales con temperaturas
de sinterizado menores de 650 °C.
Frente estos inconvenientes, en las investigaciones mds recientes se ha
puesto especial énfasis en el desarrollo de nuevas pastas dieléctricas que
permiten ser aplicadas sobre acero inoxidable y obtener asi sustratos aislados
de bajo costo y compatibles con pastas comercialmente disponibles. Esto es
particularmente itil para el disefio de sensores que a menudo requerirén
diferentes geometrias {15].
2.4 Proceso de fabricacién de pelicula gruesa
La técnica de fabricacién de peliculas gruesas es esencialmente un
proceso serigréfico, quelo podemos dividir en dos ctapas fundamentales: de
impresién y de secado y sinterizado [16].
El proceso de impresién consiste en depositar la pasta sobre el sustrato
por medio de un rodillo que es generalmentc de goma y sc desplaza
transversalmente a través de una malla o mascara. El rodillo fuerza la pasca
275276
aatravesarlas abercuras de la malla, que puede ser deacero inoxidable, poliés-
ter o nylon, Esta se mantiene paralela al sustrato a una distancia llamada
«snap-gap» o «snap-off» y que controla el espesor del depésito (figura 2).
Para obtener la mascaracon a figuradescada se procede acolocar la foto
de dicha figura sobre fa malla cubierta de una emulsién forosensible y
exponerlaaluzuultravioleta. Coneste método es posible obtener resoluciones
de hasta aproximadamente 110m, dependiendo de! tipo de malla (imero
de lineas por pulgada).
presidn
g
Bee,
substrato
desplazamiento
paste
bo
figura
impreso é.
Figura 2:Bsquema simplificade del proceso deimpresién.
Enel proceso de secado y sinterizado, una vez completada la etapa de
impresibn, los sustratos son aireados a temperatura ambiente por varios
minutos y luego secados a temperaturas entre 100 y 150°C durante
aproximadamente 10 minutos con el objeto de remover los solventes
organicos del sustrato. A continuacién sigue la etapa de sinterizado a altas
temperaturas para remover los solventes remanentes, fijar las caracteristicas
eléctricas de las pastas y adherir los elementos al sustrato.
El perfil de sinterizado depende del tipo de pasta, alcanzando tempe-
raturas pico de hasta 1000°C. En a figura 3 se presenta un perfil de tempera
tura tipico recomendado en la hoja de datos de una pasta resistiva comercial.$0090 ——_--—
3
a
°) 8 10 1% 20 25 30 3G 40 45 60 G5 60 65
‘Tern frin)
Figura 3: Esquema de un perfil de cemperatura.
Esta etapa es fundamental en el proceso de fabricacién de los resistores
de pelicula gruesa, ya que es posible modificar sus caracter{sticas eléctricas
al cambiar alguno de los parémetros involucrados, como por ejemplo
temperatura maxima de sinterizado, tiempo de mantenimiento de dicha
temperatura, etc.
3. SISTEMA ELECTRONICO DENTRO DEL SENSOR
En los sistemas de instrumentacién distribuidos como en los de
automatizacién industrial, la tendencia mundial es la de aliviar a la com-
putadora de las actividades periféricas y desplazar la capacidad informatica
hacia el elemento sensor. Paracllo cs necesario contar con unaelectrénica del
lado del sensor y preferentemente dentro del cuerpo de! mismo.
El concepto de los llamados sensores inteligentes 0 «smart sensors» es
posible alcanzarlo con la tecnologfa de interconeccién de pelicula gruesa.
Nos permite integrar en un mismo microcircuito el transductor, el acondi-
cionador de sefial, la compensacién adecuada, la fuente de alimentacién, la
microcomputadora interna y la interfase de comunicacién e identificacién.
En particular, la compensacién en forma digital ha encontrado un gran
4rea de investigacién y desarrollo en los sistemas electrénicos dentro del
277sensor (17,18).
En esta area ha tecnologia de pelicula gruesa hace una significaiva
contribucién en voneccién con varias tecnologias de sensores. Podemos
‘mencionar como ejemplos los sensores de silicio micromaquinados [19], los
instrumentos electroquimicos de pelfcula gruesa [20], los sensores para la
industria de la aviacién [21]. ‘Todas estas aplicaciones tienen ventajas por la
facilidad de interconeccién, la confiabilidad (ain en condiciones ambienta-
Jes extremas), los bajos costos y la capacidad de ajuste o «trimminge funcio-
nal de los circuitos integrados hibridos.
Similares ventajas encontramos en los sistemas multisensor donde la
elecerénica es necesaria para las funciones de barrido, chequeo y compensa-
cién, Asi lo demuestra el ejemplo de detectores de gas como un sistema
multisensor integrado de pelicula gruesa [22]. Estos alcances muestran
Giertamente una flexilidad de disefio, convenienciay répidasadecuaciones,
aparentemente no compartidas por otras tecnologfas integradas.
4, ARQUITECTURAS DE SOPORTE
Es posible utilizar la tecnologia de pelicula gruesa para el disefio y
desarrollo de estructuras de soporte de elementos sensibles. Esta versién de
dicha tecnologia se usa dfa.a dfa con mds frecuencia para:
© Realizar estructuras con temperatura controlada para sensores de gases,
Los sustratos de cerémica son provistos con un resistor calefactor de
pelfcula gruesa impreso en la parte posterior del sustratoy un termistor
“o RTD de pelicula gruesa para el control de temperatura. Estas
estructuras pueden trabajar continuamente a altas temperaturas, hasta
cerca de 500 °C [23,24].
© Realizar sensores de gas calorimétricos [25,26].
© Preparar contactos interdigitales para sensores basados en materiales de
baja conductividad tales como semiconductoresorginicos y dieléctricos
porosos [27].
Preparar sistemas integrados multisensor [28] y «array» de sensores
[29].
78electrodo
referencia
contra
electrodo
alumina
Figura 4:Sensor de glucosa sin la membrana GOD.
En la igura 4 presentamos, como ejemplo dela potencialidad que tiene
esta tecnologla para el desarrollo de estructuras de sensores, un sensor de
glucosa voltamétrico de pelicula gruesa para andlisisin vitro [30]. Consta de
tres electrodos de diéxido de rutenio (RuO,) y una membrana de glucosa
oxidasa (GOD). El mecanismo de sensado se basaen la oxidacién deglucosa,
cen presencia de oxigeno y glucosa oxidasa. Durante la rcaccién enzimatica se
forma peréxido de hidrdgeno y dcido glucénico. Fl peréxido de hidrégeno
se oxida cuantitativamente aplicando un voltaje adecuado al sistema de tres
electrodes, sensando de esta forma la concentracién original de glucosa.
5. SENSORES PRIMARIOS
El uso de la tecnologfa de pelicula gruesa en el desarrollo desensores no
estd solamente confinada a la miniaturizaci6n de la electronica asociada oa
la creacién de estructuras de soporte, como mencionéramos anteriormente.
Investigaciones recientes nos han mostrado que las pastas poscen propieda-
des en si mismas que las hacen idealmente adecuadas para usar como
elementos scnsibles primarios.
Los efectos que aparecen en las pastas bajo la accién de magnitudes
fisicas y quimicas, como por ejemplo presién, tempcratura, humedad,
cenergla radiante, etc, se aprovechan para el desarrollo de sensores [31].
‘A continuacién presentamos las abreviaturas que simbolizan los prin-
cipios bésicos 0 efectos intrinsecos de las pastas utilizadas en las tablas y
279ejemplos de aplicaciones descriptos més adelante.
* AR, ,¢! Vatiacién de la resistividad de una resistencia semiconductora
de pelfcula grucsa que disminuye casi exponencialmente a
medida que aumenta la temperatura ( por ej. sensor de tempe-
ratura, anemémetros, detectores de radiacién, etc.).
+ AR,: variacién aproximadamente lineal del valor delaresistencia con
Ja temperatura (por ¢). anemémetro, sensor de caudal, etc).
° AR ao svariacién de la resistencia de pelicula gruesa debido a tensiones
mecinicas (por ej. sensores de presién, strain gauges, de acele-
racién, etc.).
* AC: variacién de la capacidad entre electrodos de pelicula gruesa
(por ej. sensor de presién).
+ AR,,: variacién de la resistencia con la temperatura aprovechando el
alto valor TCR de la pastaconductora de platino (por ¢). sensor
de temperatura).
* AC,: variacién delaconstantedieléctrica de materiales erroeléctricos
con la temperatura por encima de la temperatura de Curie-
‘Weiss especifica del material (por ej. sensor de temperatura).
variacién de la constante dieléctrica de una pelicula gruesa
dieléctrica por absorcién de agua (por cj. sensor de humedad).
+ AR,: variacién de la conductividad de un electrolito medida
con electrodes de pelicula gruesa (por ¢j. medicién de con-
centracién iénica).
+ AC:
+ AR, .:vatiaci6n de la resistencia de pelicula gruesa semiconductora
producida por una reaccién redox sobre la superficie de la
resistencia, quimicamente activa.
* AV,_, :como en los termoelementos convencionales, caida de tensién
en el punto de contacto entre dos caminos conductores de
pastas apropiadas (por ¢j. sensor de temperatura).
+ AV,,+ tensién entre electrodos de celda electroquimica (por ¢j. sensor
de pH, sensor de O,).
La conversién de variables fisicas 6 quimicas a una sefial eléctrica se
puede obtener por miiltiples efectos. Podemos considerar cualquiera deestos
efectos como una conversién directa o indirecta de la energia mecinica,
térmica, quimica, radiactiva o magnética a energfa eléctrica.a3 uv 4ojn6uo oyuawoz0)ds0q
a3 av oBuy) owusjwozoidsag
YOUZNOVA VIDU3NI
a3 tlotoszegsag 139 ul
n3 ®1P2/SP2 “GAY és 49108 0s,90053
a3 IdSPD ouy ¢ IQ'SIA 207,
BUNVIOVE_VIOU3N3
‘BIaNENquOD 7 aD UDIDDIEY
19 oiuoaNz 9p sopx0 Suonsip ovebsxo
w web 7 Zod
03 2u9 19}01 o21Up pe
a3 SOUPIA day roby mp peg 8801
# SOUDA SOpIx wpbyg FE?" 'sas0}onpau 9809
03 S0U0A 6091,}291 "Og popawny
wl Sou0n’ Sop ay popawny
YOININO_VIOW3NI
a3 ony Tyy eaupbous oumoseduiay
03 sa0\0% wR ons) offs
a so}0u0iH, 199 oumozadusey
n ‘Saj0}0n ounjosedwa)
n ‘DLN — SOpIXO ounjosadwa,
YOUNaL VIOUINI
Wa Sa/0]2/N
rg sojousiny — Zong
W3 sojousyny ~ Zony
"3 sojouayny — Zqny
na 21019"
oavisa fae SOIdIONId Tieviva /NLINOWN
S3WIN3LVN
Tabla I: Estado del arte de sensores de pelicula gresa.
281En la tabla I se traté de resumir el estado del arte en fabricacién,
implementacién y desarrollo de sensores de pelicula gruesa, agrupados bajo
Ja forma de conversién de energia [32,33]. Esta tabla presenta la magnitud
variable convertida, principios de transduccién y componentes funcionales
principales de las pastas usadas en los dispositivos. La nomenclatura que
utilizamos en la evaluacién de la implementacién de estos sensores es la
siguiente: EM (en mercado) denota sensores comercialmente disponibles
como componentes o partes de sistemas; M (maduros) expresa un sensor
bien desarrollado con un amplio campo de aplicaciones; ED (en desarrollo)
se considera un sensor muy promisorio, que estd en desarrollo o que requiere
ensayos futuro.
Como podemos observar en la tabla I, la mayorfa de los sensores de
conversién de magnitudes mecinicas/térmicas se basan principalmente en
losefectos piezorresistivos y termorresistivos. Profundizaremos més detalla-
damente estos defectos.
5.1 Efecto piezorresistivo
Una de las propiedades importantes que presentan las pastas resistivas
de pelfcula gruesa es la piezorresistividad [34-36]; propiedad que tienen
algunos materiales de cambiar su valor de resistencia cuando se los somete
a deformaciones mecdnicas conocidas como «strain». Definiremos los paré-
metros basicos que describen este efecto.
La sensibilidad a las deformaciones esta dada por el factor extensomé-
trico o factor de «gauge» (FG), el cual representa la variacién de la resistencia
debido a ciertas deformaciones:
_ aRIR
€
FG (2)
donde ¢ (deformacién aplicada) ¢s Ja variacién d@/£ en la longitud del
resistor. Para un resistor dado de resistividad p , longitud £, ancho w y
espesor # (figura 5) su valor de resistencia estaré dado por:we (3)
Figura 5:Cambio de las dimensiones de un resistor cuando se le aplica una
tensién mecinica.
‘Como consecuencia dela relacién de Poisson, sise aplica una deforma-
cién en una direccién se tendran deformaciones normalesa esa direccién, de
signo opuesto y proporcional « ella; en otras palabras:
&y = & = —vDE& (4)
siendo v la constante de Poisson. Si se aplica al resistor una deformacién
longitudinal ¢, de la ecuacién (4) se.tendra:
(5)
Si diferenciamos la expresién (3) y aplicamos la relacién de Poisson
antes hallada, sc llega a:
aR _dp
Ss +(1+2 v0)
Rp ¢ ) ©)
283Esta ecuacién nos muestra qué cambios relativos a la resistencia se
deben a cambios en las dimensiones geomeétricas del resistor, y cudles a la
resistividad del material. Reemplazando (6) en (2) y recordando que en la
mayorfa de los materiales v= 0,3; luego FG seré:
(7)
Puede concluirse que en las bandas extensométricas de pelicula metd-
ica convencionales (FG~2) los cambios en la geometrfa juegan un papel
dominante frente a los cambios en la resistividad; no asi cn las bandas
semiconductoras (FG entre 30 y 180) donde los cambios debidos a la
resistividad son muchos mayores que los debidos a la geometria. En cuanto
alas bandas de pelicula gruesa (FG=10) ambos cambios, geométricos y de
resistividad, contribuyen al factor extensométricos [37].
Una evaluacién importante a considerar en este tipo de sensor es su
variaci6n con la temperatura, tanto el coeficiente de temperatura del resistor
(TCR) como el del factor de gauge (TCFG). En la tabla II se comparan las
caracteristicas principales delos trestipos de bandas extensomeétricas basados
en diferentes materiales y tecnologias de fabricacién disponibles comercial-
mente.
TECNOLOGIA | FG [TCR (ppm/°C) | TCFG (ppm/®C) | ESTABILIDAD
Pelicula ~2 20 100 Excelente
Semicon— | 50 1500 1000 Buena
ductora
Petfeule 2-18 30 200 Muy bueno
Tabla II:Caracteristicas principalesde trestiposde resistores de
pelicula ensiblesal esfuerzn.
La figura 6 muestra distintos FG longitudinales. La ARR se obtuvo
al someter un resistor pintado y sinterizado sobre una viga de alimina
empotrado en un extremo (estructura cantilever) acompresiény elongacién,aumentando su valor linealmente con la traccién y disminuyendo con la
compresi6n. Para este tipo de sustrato una deformacién de +1000 pe (el pe.
se define como A£/£=10%), da atin una variacién lineal de AR/R, pero
estaremos préximo a la fractura. En aplicaciones practicas, para el sustrato
de altimina, se debe tener en cuenta un AR/R mucho menor. Se ve
claramente que el factor extensométrico depende de la resistividad del
material, como lo demuestra la ecuacién (7). El FG mayor corresponde
a la pasta 100KQ/0 y su valor es de 13, mientras que para pastas de
10KQ/c corresponde a un FG de 10. Para pastas de 1KQ/Gel FG de 2,7
es comparable con el de las bandas de pelicula metélica. Por lo tanto para
bajos valores de resistividad de lamina, los «strain gauges» de pelicula
gruesa no presentan ventajas considerables sobre estos tltimos.
> 100K
+ 10K
=1K
~ Pot metal
mero strain
Figura 6:Variacién dela resistencia debidoa deformacionesde
traccién ycompresién,
Como se mencioné anteriormente (seccién 2.3) los sustratos de acero
inoxidable son una alternativa tecnolégica viable para diversas aplicaciones;
por lo que cabe efectuar algunas comparaciones entre los dos tipos de
sustratos.
En bandas extensométricas de pelfcula gruesa aplicadas sobre acero
inoxidable no se detectaron diferencias de sensibilidad a la deformacién
respecto a las aplicadas sobre alimina, En cambio, la dependencia con la
285° 6 SCO
Temo (°C) a)
Pigura 7-Coeficiente detemperatura dela resistencia vs temperatura de:
1b) resistor sobre aces able.
a) resistor sobrealimi
Enel rango de temperatura de 0 a 110°C, la variacién de la resistencia
aplicada sobre altimina es negativa a bajas temperatutas; ¢s 0 alrededor dela
temperatura ambiente y se hace positiva a temperaturas més altas. Para el
86susttato de acero inoxidable, en cambio Ia resistencia aumenta en forma
contiita con la temperatura, por lo que tiene un TCR siempre positivo. La
variacion de la caracteristica se debe principalmente al desapareamiento de
os coeficientes térmico de expansién (TCE) entre sustrato-aislante y
aislante-resistor, causando una deformacién térmica.
5.2 Efecto termorresistivo
El efecto termorresistivo es la propiedad que presentan algunos mate-
riales de cambiar el valor de su resistencia eléctrica con la temperatura. Los
sensores de temperatura que sc utilizan en metrologla clasica se basan en el
principio termorresistivo de metales tales como Pt, Cu, Ni, que tienen esta
caracteristica de variacién de su resistencia en forma lineal con la tempera-
tura, Este comportamiento se puede representar por las expresiones genc-
rales:
Ke K.P i eagi hol (8)
(9)
donde R, es Ja resistencia a la temperatura T, R, ¢s la resistencia a la
temperatura de referencia T, y 0: es el coeficiente de temperatura de la
resistencia (TCR).
El platino se ha utilizado por muchos afios como elemento para medir
temperaturas, pues es un material muy estable y puede ser expuesto a altas
temperaturas, en una gran variedad de ambientes, sin degradarse. Su TCR
es de 3927 ppm/"C para platino de extrema pureza.
La Escala Internacional de Temperatura (ITS 90), puesta recien-
temente en vigencia, establece a la termorresistencia de Pt como elemento
interpolador en el rango 0 a 930°C. Esto significa que el platino se utiliza
para establecer la temperatura termodindmica entre los puntos fijos de
referencia en ese intervalo de temperaturas. El alambre de platino se monta
287detal modo que no quede tensionado mecénicamente durante las variaciones
de temperatura a la que es sometido y se lo coloca dentro de una vaina de
cuarzo. Las resistencias que se emplean son de 25Q nominales a
O°C, siendo el material de maxima pureza que se puede conseguir.
Las termorresistencias de platino de uso industrial estén generalmente
bobinadas sobre un soporte cerdmico y su TCR es de 3850 ppm/*C
segtin normas BS1904 0 DIN43760. Este coeficiente de menor valor queel
antes mencionado se debe a las tensiones mecénicas ¢ impurezas tanto dela
materia prima como de las introducidas en el proceso de fabricacién. La
manufactura de estos sensores es costosa esencialmente por la mano de obra
de tipo artesanal y por el material empleado.
En cambio las termorresistencias de Pt planares [38], tanto de pelicula
gruesa como fina, usan cantidades minimas de metal precioso, tienen mayor
velocidad de respuesta y la tecnologfa empleada permite automatizar el
proceso de produccién.
Las termorresistencia planares de pelicula gruesa, segtin el tipo de
material, presentan distintas caracteristicas de sensibilidad (TCR) y rango
de medicién.
Similarmente, lostermistores de pelicula gruesa de coeficiente negativo
(NTC) exhiben alta sensibilidad sobre un razonable, pero a veces limitado,
rango de temperatura, La respuesta es generalmente de la forma:
T,-T,
R, = R, exp[ B( Tr)! (0)
donde R, y R, son respectivamente las resistencias a las temperaturas T, y
de referencia T.,. Bes una constante que depende del material y puede tener
tpicamente un valor de 2000, resultando ast grandes cambios de resistencia
para relativamente pequefias variaciones de temperatura.
Las pastas que se utilizan en la fabricaci6n de los termistores de pelicula
gruesa tienen un alto valor de resistividad, lo que permite obtener valores de
resistencias adecuados con dispositivos fisicamente pequefios.
Una desventaja significativa que presentan los termistores frente a las
termorresistencias de platino, ademés del reducido rango de operacién, es
su inherente no linealidad. Esto puede ser compensado usando un circuitoelectrénico de relativamente baja complejidad.
La respuesta dindmica de los termorresistores de pelicula gruesa es
generalmente mejor que sus equivalentes discretos, tal como los dispositivos
dealambre bobinados. La constante de tiempo térmica de un termorresistor
es de la forma:
qa)
siendo M la masa y C la constante térmica especifica del material usado,
‘A cl 4rea superficial y t un coeficiente de transferencia térmico deter-
minado empiricamente para un medio dado ( por ¢j. el flujo de aire). Se
deduce que al reducirla masa yaumentar el érea se optimizala respuesta para
el caso de sensores de pelicula gruesi.
Es apropiado recalcar las ventajas de la tecnologia de pelicula grucsa
para el desarrollo de termorresistencias: alcanzan un buen ajuste de toleran-
cias por medio del "trimeado" de resistencias, de facil integracién con los
circuitos integtados y amplia variacién de formas, tamafio, valores de
referencia y de sensibilidad.
6. APLICACIONES
Presentaremos a continuacién algunas aplicaciones de scnsores de
pelicula grucsa, agrupadas bajo las formas de conversién de encrgfa segiin
el dominio de la sefial de donde se extraerd la informacién para luego set
convertida en seftal cléctrica.
6.1 Energia mecdnica
Diferentes tipos de sensores basados en el efecto piezorresistive de los
resistores de pelicula gruesa ya haa sido desatrollados. Algunos de estos
sensores se comercialiran, micntras que orros estan en la etapa de desarrollo.
289Sensores de presin
El efecto piezorresistivo reversible que presentan los resistores de
pelicula gruesa ha sido estudiado desde los comienzos de 1970, pero su
ttilizacién para el desarrollo de sensores de presién comenz6 alrededor de
1980. Desde entonces se Ilevaron a cabo investigaciones sobre «strain
gauges» de pelicula gruesa, su influencia con la temperatura y su estabilidad
con el tiempo; desarrollindose distintos tipos de sensores de presién de
pelicula gruesa sobre aliimina para distintas aplicaciones, en particular para
la industria automotriz. [39].
El sensor de presién piczorresistivo de pelicula gruesa se basa en el
modelo clésico de diafragma circular con borde empotrado, donde cuatro
resistores de pelicula gruesa conectados en configuracién puente de
‘Wheatstone son adecuadamente posicionados [40-43].
Cuando la placa es sometida a una diferencia de presidn entre suscaras,
se prodiicen tensiones mecénicas radiales y tangenciales y una distribucién
de deformaciones. Para obtener maximo desbalance del puente dos
resistores deben ser posicionados alrededor del centro y los otros dos cerca
del empotramiento, con una orientacién tal que su eje longitudinal coinci-
dacon la direccién radial del diafragma, Como la maxima tension (,,,) 5€
produce en el borde de !a placa, es posible calcular la maxima presién
admisible en funcién de la relacién radio-espesor; dada por la expresién:
n
vax = 3 max 7 (12)
a
siendo hy r, el espesor y radio del diafragma respectivamente. La tensién
de salida del puente completo por unidad de tensién de alimentacién, para
una dada posicién de los resistores y una dada deformacién a fondo de es-
cala, sera
Me _ 0,3944,
V,
FGa rg.
E a-7) 3)
Rsiendo q la presién aplicada y E la alimentacién del puente. Las ecuacio-
nes (12) y (13) nos permiten sistematizar el disefio del sensor al obtener
familias de curvas que relacionan presin a fondo de escala en funcién del
-adio 0 espesor del diafragma teniendo como parimetro h (figura 8) or,
(figura 9) respectivamente; y tensiones de salida versus r,/h teniendo como
parametro el FG escogido para este sensor (figura 10).
a
04 05 0.6 0,7 0809 1 1,1 1213 14
tm)
Figura 8: Presién a fondo de escala versus radio del diafragma, con distintosespesores
‘como pardmetro.
Estos dos parimetros, radio y espesor, deben ser elepidos cuida-
dosamente para estar seguros que se esta dentro del limite eldstico del
diafragma y evitar su fractura mientras se maximiza Ja tensién de salida del
puente.
2012 8 0 ro)
oon (mm)
Figura 9:Presién a fondo de escala versus espesor, con distintos radios,
‘como pardmetto.
FG =2
+FG=s
*Fo=8
+FGo=1
Fgura 10: Tensién de salida en funcién de radio/espesor del diafragma, con distintos
FG comopardmetro.
292En la liguea 1) ye anuevua un ven de puevide le ndliiple de taupe.
salar abi seantciads dencrs del ene rps tel
on
aennan.
Figura 1 1:Sensor de presién de miiltiple de escape (cortesia Hibricom S.A).
Si bien la alimina ha sido el sustrato utilizado en forma casi excluyente
en la fabricacién de sensores de presién de pelicula gruesa, las nuevas
exigencias tecnolégicas indican la conveniencia de usar, en determinados
casos, sustratos metdlicos adecuadamentte aislados. En particular la utiliza~
cién de acero'inoxidable como sustrato presenta una de fas mas recientes
innovaciones’a nivel mundial en el tema, permitiendo alcandar mayores
sensibilidades [44].
El acero inoxidable presenta ventajas considerables, comparado con los
sustratos de altimina usados actualmente en el desarrollo de transductores de
pelicula gruesa, dado que tiene mejores caracteristicas mecinicas.
de tensién de flexién y maxima deformacién permitida. Otra ventaja a
considerar es que el acero puede ser maquinado y permite obtener en una
entérminos
tinica pieza tanto el diafragma como el cuerpo del sensor, siendo un
componente seguro y de facil industrializacién.
En la figura 12 se presentan sensores de presién sobre acero inoxidable
desarrollados en el CITEI, de 0-5 bar y 0-200 bar a fondo de escala. Las
ventajas principales de estos tipos de sensores es su simple estructura, muy
293194
Arun Tiuealiduahs bis slperntencun ats jo
y ly posibilidad de cuustuii stiusviey de puck aha
arto cou Ta temperat
m
itu, telarivay
tra importante caracteristica de este tipo de sensor es la posibilidad
de cubrir un amplio rango de presién con sélo modificaciones menores de
la estructura bésica; asf es posible obtener un sensor de baja presin con
deteccién de 0,1 mbar (de 8mm de didmetro y 1,5mm de espesor); y
también de alta presién de hasta 600 bar con solo cambiar el espesor y el
diémetro del diafragma.
Otro tipo de sensor de presién de pelicula gruesa que merece ser
mencionado ese! tipo capacitivo [31]. Consiste dedos cerdmicas enfrentadas
ysselladas en sus extremos, donde se depositan en el interior de sus superficies
los dos electrodos del capacitor (figura 13). Cuando se aplica presién el
diaftagma delgado se deforma y varia el valor de la capacidad. Es posible
correlacionar, con una electronica adecuada, la deflexién y por ende la
variacién de capacidad con la presién. La principal ventaja de los sensores de
presién capacitivos frente a los piezorresistivos es su excelente estabilidad
con el tiempo y su baja dependencia con la temperatura. Las mayores
desventajas que presentan son: la necesidad de contar con una electrénicasofisticada que puede detectar variaciones minimas de una capacidad
pequeiia (pocos pH en unas pocas decenas de pF) yla necesidad de mantener
la distancia entre los electrodos dentro de valores muy precisos, lo que
dificulta la construccién.
setodo de seria
Gatrogme
electrodes
cuncpe
ssetoao (preaién obeatute)
Figura 13:Bsquema de un scusur capacitive de presién
Sensores de fuerza
Lacelda de carga, ampliamente utilizada en laindustria como transduc-
tor de pesado, es esencialmente un elemento clistico que al aplicarle una
fuerza 0 peso se deforma. Por medio de «strain gauges» se mide dicha
deformacién obteniéndose una sefial eléctrica proporcional a la fuerza
aplicada.
Algunas de las consideraciones principales de disefio de una celda de
carga que debemos tener en cuenta son: facil fabricacién, construccién en
una tinica pieza, costo delos «strain gauges» instalacién delosmismos, efec-
tos de excentricidad de carga, como asi también estabilidad con el tiempo,
linealidad, histéresis y consideraciones térmicas. La facilidad de fabricacién.
es uno de los factores importantes en la determinacién del costo total del
transductor; asi un disefio geométrico simple tendra un considerable be-
neficio. La construccién en una tinica pieza mantendré las caracteristicas de
linealidad y repetibilidad. El costo final de la celda estar influenciada por
el costo de los «strain gauges» y de la factibilidad con que ellos puedan ser
instalados. Los efectos de excentricidad de carga aplicada deben ser minimi-
zados sin incrementar los costos de fabricacién.
295El uso de los «strain gauges» de pelicula gruesa sobre acero inoxidable
csmaltado, como elemento elastico, es usado como transductor de fuerza en
los tractores agropecuarios [47]. Para esta aplicacién, la tecnologia hibrida
¢s particularmente adecuada, no solo debido a su inmunidad a la contami-
nacién y a la resistencia mecénica, sino también por su amplio rango de
temperatura de operacién, donde el uso de strain gauges de silicio podria ser
riesgoso. Asimismo, el uso de strain gauges de pelicula gruesa evita el
problema de pegado sobre el elemento cléstico, que se requiere para las
bandas extensométricas discretas.
Otros desartollos sobre acero inoxidable que merecen ser citados son los
basados en el principio de vigas en voladizo: celdas de carga de vigas doble
acopladas y de triple viga (figura 14), diseftos que presentan ventajas sobre
la simple viga cantilever (48).
Fgura 14: Esquema de celdas de carga:
a) dedoble vigasacopladas,
b) de triple vigas.
En ambos casos se utilizaron «strain gauges» de pelicula gruesa como
sensores de deformacién. El transductor de triple viga consiste de tres vigas
cantilever similares sujetasen el centro donde tres «strain gauges» de pelicula
gruesa son pintados en ambos lados de la estructura y conectados en serie,
para conformar dos ramas activas del puente de Wheatstone. En el extremolibre de cada viga se apoya por medio de «pines» un platillo de pesas. Los tres
gauges» ubicados en la parte superior experimentan una deformacién
positiva (tensién), mientras que los tres ubicados en la parte inferior estén
sujetos a deformacién negativa (compresién). Con dimensiones geométricas
de Imm de espesor y de 25mm de longitud de cada viga se pueden medir
cargas de hasta 2Kg. Esta configuracién evita la excentricidad de carga pucs
la fuerza en cada brazo es directamente proporcional a la deformacién me-
dida y a los cambios de resistencia relativa de los piezorresistores
6.2 Energia térmica
Describiremos a continuacién algunos ejemplos de aplicacién de
sensores agrupados bajo esta forma de conversién de energia.
Sensores de temperatura
En la tabla III se presentan las principales caracteristicas de los sensores
de temperatura de pelicula gruesa [33,49,50].
Las pastas conductoras de pelicula gruesa exhiben propiedades
termorresistivas similares a la de sus respectivos metales de volumen. Las
pastas comerciales basadas en Ni, Cu, Pt, Au-Pt, Ag-Pd, pueden ser usadas
para la conversién de temperatura en una sefial cléctrica. Sin embargo,
debido a la alta conductividad que presenta este tipo de pastas, cuya carga
metdlica en peso varia de 60 a 90%, su utilizacién para el desarrollo de
termorresistencias es dificultosaen términos de area requerida por unidad de
resistencia, Se obtendrfan asi dispositivos grandes de baja respuesta y bajo
TCR, no respondiendo, generalmente, en forma exacta a las curvas de
calibracién de las normas.
En cambio, las pinturas resinadas de platino conocidas como organo-
metilicas, con una carga metilica de 10%, presentan una resistividad
superficial de 1 a 4Q/0 permitiendo producir elementos sensibles de ta-
mafio razonable. Este tipo de pastas son compuestos orgénicos que tienen
radicales de uno 0 varios elementos metilicos [51].
297By "omy at uy cetng)
u's *y* @ ody Ten O./A7 Ob | AW ' Id * Pd UpIDoaIy odnsowsa)
ojuidss ody @Xyy)
woyzor -,01 = 9 | c0z+ - os~ wooos-o0se =a ny - 09 - UW 30951039)
sieuidsa ody Puy)
B/u,01 00z+ - OS- 4 0002 = ny = UW soysiwsa},
Cay)
D/ow ozt - 06 =a ooz - 0 De /udd 0625 = N aus
Cav)
G/ow se - se 002 - 0 de/udd Guz =O Sv * eg au
(uv)
D/uw 06 - 08 =4 002 - 0 |d./udd oose-ooce =» id as
(uy)
O/o4 oO =u 002 - 0 |d./udd oore-oorz =» nv aly
Cay)
Oud zt - 0% De /wdd O42) = 0 Fong -ouz ane
eo)
‘OLN ozt ~ 02 Q./wdd aoor- =» | Fou ~ Fone -Zouz ow
sejodjoulg
SOUOIDDAIOSGO (D0) oBuoy POPI|}qIsuas, sojueuodwiog dosues
incipales caracteristicas dealgunastermorresistencias.En la figura 15 sc presentan distintas termorresistencias de Pt desarro-
ladas en el CITEL. Los prototipos se realizaron sobre aliimina 96% y se
utilizaron pastas de Pr metal-orgénicas de la serie Heraeus RP10000. Se
imprimieron capas dobles secadas a 100°C. en estufa de IR durante 10
minutos y sinterizadas con temperaturas pico de 850 y 950°C durante un
ciclo de una hora. A todas las muestra se les agregé terminales de platino de
0,2mm de diémetro. El valor de TCR medido para este tipo de termorre-
sistencia fue de 3799 ppm/*C.
Figura 15:Prototiposde termorresistenciasde Pt
desarrolladasen CITELINTI.
Existen otros materiales que pueden ser usados para producir termorre-
sistencias de pelicula gruesa con distintos TCR , como se presenta ena tabla
Ill [52-54]. Las pastas basadas en Ni son utilizadas para producir sensores
de mayor TCR, pero traen aparejado un aumento de complejidad cn cl
proceso de fabricacién, pues se debe prevenir la oxidacién del metal durante
el sinterizado [55,56].
Ourotipo desensores de temperatura queutilizan el efecto termorresistivo
son los termistores de pelicula gruesa [57,58]. Las pastas que sc utilizan son
sistemas de éxidos tipo espinela, gencralmente Mn-Co-Ni, en una matrizde
vidrio, A esta composicién bisica se suele agregar éxidos de metal precioso
como por ¢j. éxido de rutenio. Gran parte de la investigacién en la
299formulacién de estas pastas se centra en la variacién de la composicién de las
espinelas ya que afectan marcadamente la resistividad superficial desde
1K Q/G a 10M Qiny la constante del termistor B de 500 a 5000K.
También es posible medir temperatura por medio de termocuplas
realizadas en pelicula gruesa. Para ello se imprimen sobre un sustrato una
juntura de dos metales disimiles y por el efecto Seebeck se desarrolla una
tensién entre esta juntura y la juntura de referencia formada entre el camino
conductor en el sustrato y el cable externo cuando se hace contacto. La
dificultad que se presenta en esta clase de sensor radica en el material del
sustrato que debe dar suficiente aislacién térmica entre las dos junturas para
as{ poder medir la diferencia de tensién. Probablemente por esta razén no se
encuentran mayores evidencias en la literatura sobre termocuplasde pelicula
grucsa [59]. Sin embargo se han detectado esfuerzos puestos en el efecto
inverso para fabricar junturas Peltier con el propésito de enfriar electréni-
camente una regién localizada en un sustrato.
Sensor de flujo térmico
Otro tipo de sensor térmico que podemos mencionar es el sensor de
flujo térmico de pelicula gruesa. La versién de sensores de flujo térmico de
pelicula gruesa frente a los ya desarrollados con otras tecnologfas presentan
propiedades interesantes tales como altas temperaturas de operacién, altos
flujos térmicos y baja resistencia térmica. Para esta configuracién e! flujo
térmico es perpendicular al sustrato. Debido a la baja resistencia térmica la
caida de temperatura es baja y Ja influencia del sensor en la distribucién 0
forma del flujo es despreciable [60].
El sensor tiene una estructura, como se muestra en la figura 16, de
multicapas de termocuplas y capa dieléctrica que esta térmica y eléctrica-
mente aislada. El flujo se mide indirectamente por diferencia de temperatura
entre las junturas dela termocupla través del dieléctrico. Si suponemos que
el flujo tiene una direccién desde la parte inferior ala superior, la juntura fria
estard arriba y la caliente estard sobre el sustrato, conectadas a través del
dieléctrico,
‘Como las pastas conductoras comerciales utilizadas presentan una baja
tensién termoeléctrica por cupla y una baja resistencia térmica, es que seconectan un ntimero de termocuplas eléctricamenteen seriey térmicamente
en paralelo. Ast se obtiene una mayor tensién de salida por unidad de flujo
térmico sin incrementar la resistencia térmica del sensor. Se han obtenido
prototipos de 15x30 mm de drea sensible, resultando una pila con 509
uniones para un rango de flujo de hasta 100kW/m?.
Figura 16:Esquema transversal de un sensor de flujo térmico.
6.3 Energia Quimica
La tecnologia de pelicula gruesa ha permitido desarrollar un amplio
rango de sensores aplicados al campo de la energfa quimica. Presién parcial
de agua (humedad), pH, pO,, y gas 0 concentraciones de vapor son algunas
de las cantidades quimicas que son necesarias sensar tanto en los sistemas de
control de procesos industries como en el control del medio ambiente y
aplicaciones domésticas. A través de innumerables investigaciones, llevadas
a cabo por distintos grupos de investigacién, se ha puesto especial esfuerz0
en estudiar y alcanzar sensores de pelicula gruesa para esta forma de
conversin. A continuacién presentamos algunos ejemplos.
Sensor de humedad
Lahumedades uno delos pardmetros de proceso mésimportantestanto
en procesos industriales como agro-industriales. Sehan desatrollado y estén
comercialmente disponible una gran cantidad de sensores de humedad
basados en diferentes principios de operacién, que se pueden agrupar en
cuatro clases: higrométricos, psicrométricos, de punto de rocio y de absor-
cidn de radiacién.Los sensores de humedad de pelicula gruesa se basan en el principio
higrométrico, donde la respuesta del sensor se debe a un cambio de las
propiedades fisicas del material debido a la adsorcién/desorcién del vapor de
H,O. Generalmente se mide variacién de capacidad o de resistividad en
funcién de la HR. Como clementos sensibles se utilizan éxidos
semiconductores y materiales cerdmicos [61-64].
La resistividad de varios éxidos semiconductors muestra un
decrecimiento logaritmico con el aumento de la humedad. Diferentes pastas
han sido formuladas y ensayadas para esta aplicacién, como por ejemplo
NiWO, ZrCr,O, con vidrio, MgCr,O, con vidrio [22]. En la figura 17 se
presenta los cambios de la resistencia como una funcién de la humedad de
tun sensor de pelicula gruesa de MnWO, dopado con V,O, sin un vidrio de
unién para diferentes temperaturas atmosféricas. Puede observarse que para
50% HR se obtiene un adecuado valor de resistencia de 50K Q, con una
buena sensibilidad de 8,8% de variacién de resistencia por %HR.
lohm!
R
0 20 40 60 80 100
H i%RH1
Figura 17: Caracteristicas de sensores de humedad de pelicula gruesa [22].Los sensores resistivos basados en semiconductores son sensibles en el
rango de 5-95% HR, mientras que los sensores basados en cambios de
capacidad exhiben una respuesta saturada a baja HR (alrededor de 35-40%)
de acuerdo a la microestructura (porosidad) de las capas.
En el CITEI se llevaron a cabo estudios sobre el comportamiento de
distintos dieléctricos sensibles ala presién parcial de HO, paraser utilizados
como detectores de humidificacién en ensayos de corrosién atmosfética. El
detector se basé en un capacitor planar de dos electrodos interdigitales,
realizados con pastas conductoras sobre aliimina, recubiertos con pasta
dieléctrica. La figura 18 ilustra los resultados obtenidos con material
dieléctrico H9027W sobre electrodos de Ag. Las muestras, sinterizadas a
750°C, muestran una marcada caida dela conductividad como también una
mayor estabilidad, comparadas con las muestras sinterizadas a menor
temperatura. Para este tipo de detector la variacién de capacidad en
condiciones extremas de 100%HR a inmersién en H,O fue de 30pF a
800pF. Experiencias preliminares se llevaron a cabo con el propésito de
discriminar niveles de humedad en el rango de 60-100%HR. Los resultados
mostraron una variaci6n del 15% dela capacidad paracambiosdel 90-100%
HR [65-67].
Gus)
SEC © OSS — 750
0 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 22 24 28 2B
idles)
Figura 18: Influencia de a temperatura pico de sinterizado en la conductividad del
detectordehumidificacién.
303Sensores de gases
Los sensores quimicos en general, y en particular los sensores de gases,
son tratados en detalle en otros capitulos de este libro; sélo se dard aqu{ una
breve referencia de la potencialidad de la tecnologia de pelicula gruesa para
la deteccién de gases.
Los materiales sensibles utilizados en los sensores de concentracién de
gases de pelicula gruesa son generalmente éxidos semiconductores, a menu-
do asociados con un metal catalitico. El catalizador permite mejorar la
selectividad y sensibilidad del sensor hacia'una de las varias reacciones que
curren. Dentro de los materiales més utilizados deben destacarse SnO,,
TiO, [68-73].
Laadsorcién reversible del gas a sensar produce un cambio temporario
y reversible en la estequiometrfa de los éxidos; que se refleja en un cambio
en la concentracién (y a veces en el
efecto produce una variacién en la resistividad del material que se relaciona
directamente,con la concentracién del gas.
La posibilidad de contar con microestructuras porosas (sinterizado
0) de los portadores de carga. Este
pobre) y calefaccién del sensor en las condiciones de operacién son caracte-
risiticas que realzan las ventajas de estos sensores de gases de pelicula gruesa.
Las temperaturas relativamente altas dan un tiempo de respuesta més corto,
puesaceleran el proceso de difusién superficial asf como reacciones cataliticas
entre las especies quimicas involucradas. Poresta causa suelen incluirse en el
transductor el calefactor y un sensor de temperatura que junto a un sistema
de control a lazo cerrado mantiene la temperatura constante.
Investigaciones realizadas en los tiltimos afios permitieron desarrollar
sensores de ox{geno tanto potenciométricos como amperométricos utilizan-
do la tecnologia de pelicula gruesa. El sensor potenciométrico consiste de
capas de un electrolito de zircornia, un electrodo de medicién de platino,
un electrodo de referencia de Pd/PdO, una capa de vidrio protectora para
el electrodo de referencia y un elemento calefactor de platino pintado en la
cara posterior del sustrato @- altimina (74]. Las dimensiones tipicas de un
sensor de este tipo son aproximadamente 7 mm x 10 mm y la temperatura
de trabajo de 500°C (figura 19).Pratine
t
Goleocior Substrata Alg05
Figura 19:Sensor de oxigeno potenciométrico con electrolita sélido de zirconia.
En el caso de sensores amperométricos, el clectrolito consiste en
Zirconia con unaestructura de poros bien definida, figura 20. Elsensor opera
bajo condiciones de corriente limite, la que esta dada por la velocidad de
difusién del gas en la matriz porosa de ZrO,
20, Piating poroso
Pratino
Ccolelactor Substrate
Figura 20:Sensor deoxigenoamperométrico.
Los sensores amperométricos presentan algunas ventajas sobre los
potenciométricos debido a quie no es necesario contar con un electrodo de
referencia. Sin embargo estos sensores deben ser calibrado.
‘También se han llevado acabo investigacionesen sensoresdehidrégeno
potenciométricos con electrolito sélido Nasicon [75]. El sensor, que presen-
ta una configuracién similar al sensor de O,, se obtiene imprimiendo
sucesivamente sobre -alimina las siguientes capas: Nasicon, terminal de
‘Au, electrodo de medicién de Pt, terminal de Ag para el calefactor, el
calefactor de RuO,, el electrodo de referencia Na, WO, y finalmente un
vidrio protector que lo cubre. El sustrato es de lem x 2cm x 0,2cm y la
temperatura de trabajo es de 200°C. El sensor puede detectar concen-
traciones de gas H, en el aire desde 100ppm a 100%; la tensidn de salida del
sensor varfa en unos 300mV al pasar de aire a una mezcla de aire enrique-
cido en H, (4% del volumen). El tiempo de respuesta de este tipo de sensor
es de 1 segundo.
305‘También se han desarrollado sensores para la medicién de CO,, NO,,
SO,y Cl, utilizando tecnologfa de pelicula gruesa. En estos casos se utilizan
electrolitos sélidos modificados superficialmente de manera de mejorar la
sensibilidad de deteccién de gasa sensor.
Sensores de pH
En muchas industrias manufactureras, especialmente en la industria
alimentaria, se requiere un control cuidadoso del pH. En todas las reaccio-
nes enzimaticas ¢s necesario un monitoreo continuo del pH, debido a que
tuna pequefia variacién de su valor puede modificar la direccién de la
reaccién.
Enla produccién de quesos, leche, salchichas, cervezay jugos esesencial
la medicién y control del pH. También es importante el control del pH
durante la produccién de cosméticos y papel. Estos sensores son asimismo
aplicables en la proteccién del medio ambiente, tal como control de agua
potable, agua residual industrial y municipal, agua de pozo, etc.
Como alternativa de los convencionaleselectrodos de pH de vidrio
se han realizado estudios para la construccién de sensores de pH de pelfcu-
Ia gruesa [76]. La estructura basica del electrodo estudiada consiste de una
capa conductora y otra de vidrio, sobre un dado sustrato.
En esta aplicacién se pone especial cuidado en la seleccién del sustrato
que debe tener un coeficiente de expansién térmico compatible con el del
vidrio. Diferencias en el TCE puede causar fisuras en la capa de vidrio
durante el periodo de enfriamiento del sinterizado.
Los resultados experimentales alcanzados mostraron una sensibilidad
entre 45-55mV/pH, con un tiempo de respuesta lineal en un rango de 1-
12pH (33).
6.4 Energla magnetics
wlon eu jatopiedades magnéticas de los matersales se
Los sensures bos
urilizan para la deceecién de proxmmubal y velocidad de roacién Sinembargo este campo de aplicacién no ha recibido tanta atencién como en
los casos anteriores.
Por ejemplo, se han investigado las propiedades eléctricas de peliculas
basadas en Ni, preparadascon pastas comerciales sobre altimina, sinterizadas
a la atmésfera [77]. Especialmente se estudié el efecto magnetorresistivo
como una funcién de la temperatura, la intensidad y la direccién del campo
magnético. Para ello se prepararon muestras con una configuracién serpen-
teada y se definieron 3 orientaciones relativas entre la corriente Ly el campo
magnético B. Los magnetorresistores, ya scan normales (cl campo magnético
es perpendicular al sustrato) como con I en el mismo plano de B (sean
longitudinaleso transversales) son dependientes de la temperatura ambiente
y de la temperatura pico de sinterizado.
Existen algunas aplicaciones en el drea de monitoreo del medio
ambiente. Se han formulado pastas magnéticas semiconductoras partiendo
de polvos de ferrite (Mn, Cu,Fe,O,) de baja temperatura de Curie de
50°C, compuestos de rutenio (RuO), vidrios inorganicos (PbO-SiO,B,O,)
ms algunos solventes. Dichas pastas fueron sinterizadas a relativamente
bajas temperaturas (850°C durante 10 minutos); y mostraron propiedades
ferromagnéticas y semiconductoras, dependientes dela temperatura, hume-
dad y concentracién de gases. Esto permite desarrollar sensores para el
monitoreo del medio ambiente {78}.
AGRADECIMIENTOS
En primer lugar agradezco a la OEA por el subsidio para el Proyecto
"Sensores y Actuadores para Control de Procesos y Contaminacién Am-
biental” (1992). Asimismo, desco expresar mi profundo agradecimiento ala
‘Tec. Maria L. Malatto por la preparaci6n de los distintos sensores desarro-
Hados en el CITEL, cuyos resultados fueron aqui presentados; como asi
también por la realizacién de los dibujos que figuran en el presente trabajo.
Por tiltimo quiero manifestar mi agradecimiento a los integrantes del
CITEI que, de una u otra manera, han colaborado en los trabajos descriptos
en este capftulo.
3077. REFERENCIAS
1. J.E.Brignell, N.M.White and A.W,J.Cranny, Sensor applications of
thick-film technology. IEEE Proceeding Vol.135 Pt.I,No 4, 1988, pp
77-84.
2. M.Prudenziati, Thick film technology. EurosensorsIV Conf, Karlsruhe,
FRG, October 1990.
3. RD Jones, Hybrid circuit design and manufacture. Marcel Dekker,
Inc. 1982.
4. P.Moran, Hybrid microelectronic technology. Gordonand Breach Sci.
Pub., 1984.
5. N.M.White, Inks and substrates, Fundamental aspects of thick film
technology; Short Courses, Southampton, Spring 1992.
6. A.Cattaneo, F.Forlani, M.Cocito and M.Prudenziati, Influence of the
metal migration for screen and fired terminations on the electrical
characteristics of thick film resistors. Electrocomponent Science and
Technology, Vol.4, 1977, pp 205-211.
7.° M.Prudenziati, B.Morten, L.Moro,L.Olumekor and A.Tombesi,
Interactions between thick-film resistors and terminations: the role of
bismuth. J.Phys. D: Appl. Phys. 19, 1986, pp 275-282.
8. CJacoboni, M.Prudenziati and A.Rizzi, A simulative approach to
electron conduction in thick film resistors. Electrocomponent Science
and Technology, Vol.10, 1983, pp 103-110.
9. G.E.Pike and C,H Seager, Electrical properties and conduction
mechanisms of Ru-based thick-film (cermet) resistors. J.Appl. Phys.
48(12), December 1977, pp 5152-5169.
10. M.Prudenziati, A-Rizzi, P.Davoli and A.Mattei, Tunnelling in thick
film (cermet) resistors and the minimum of resistence. Il Nuovo
Cimento, Vol.2D, No3, Maggio-Giugno, 1983.
11.N.C.Halder and RJ.Snyder, Measurement of the tunneling and
hopping parameters in RuO, thick films. Electrocomponent Science
and Technology, Vol.11, 1984, pp 123-136.
12. F.Forlani and M.Prudenziati, Electrical conduction by percolation in
thick film resistors. Electrocomponent Scienceand Technology, Vol.3,
1976, pp 77-83.13, A.Cattaneo, L.Pirozzi, B.Morten and M.Prudenziati, Influence of the
substrate on the electrical properties of the thick film resistors.
European Hybrid Microelectronics Conf., Ghent, 1979, pp 123-131
14, P.C.Smith, Materials and processes for hybrid circuits. Futurescope,
December 1989, pplII1-4.
15. R.Kuzel and J.Broukal, Enamelled steel substrates for printed circuits.
Electrocomponent Science and Technology, Vol.10, 1983, pp 177-
183.
16. J.K.Atkinson, Basic processing techniques. Fundamental aspects of
thick film technology; Short Courses, Southampton, Spring 1992.
17. J E.Brignell, Digital compensation of sensors. J.Phys. E: Sci. Instrum.,
Vol.20, 1987, pp 1097-1102.
18. S.Middelhoek, P.J.French, J. H.Huijsing and W.J.Lian, Sensors with
digital or frequency output. Transducers'87, The 4th Int. Conf. on
Solid-State Sensors & Actuators, 1987, pp 17-24.
19. R.Dell ‘Acqua, A chance for future microelectronics: hybrid integrated
sensors. Proceed. 7th Europ. Hybrid Microelectronics Conf. RFD,
May 1989, paper 8.1.
20. J.K.Atkinson, S.S.Shahi, M.Varney, A thick film electrochemical
instrument. Eurosensors IV Conf. Karlsruhe, FRG, October 1990.
21. G.Menozzi, Thick film hybrid and SMT in sensors and displays for
avionics. Hybrid Circuit Technology, Jan. 1990, pp 21-25.
22. A.Tkegami, H.Arima, S.wanaga, M.Kaneyasu, Thick film sensors and
their integration. Proc. 4th Europ. Hybrid Microelectronics Conf,
Copenhagen, 1983, pp 211-218.
23.A.Wilson and R.A.Collins, Electrical characteristics of planar
phthalocyanine thin film gas sensors. Sensorsand Actuators, 12, 1987,
pp 389-403.
24. B.S.Hoffheins, R J.Laufand M.W.Siegel, Intelligent thick gas sensor.
Hybrid Circuits, No 14, September 1987, pp 8-12.
25. A.Chen, R.Luo, T.C. Tanand C.C.Liu, A thick film calorimetric sensor
for monitoring the concentration of combustible gases. Sensors and
Actuators, 19, 1989, pp 237-248.
26. J.Riegel and K.L.Hardtl, Analysis of combustibles gases in air with
calorimetric gas sensors based on semiconducting BaTiO, ceramics.
309Sensors and Actuators B, 1, 1990, pp 54-57.
27. J.K.Atkinson, A.W.Cranny, P.M.Burr, P.D.Jeffery, An evaluation of
the use of thick film organic semiconductor sensor array in the
detection of gases. Int. Measur. Exhibit. and Conf. sensors and
Systems, Wembley, 1989.
28, N.Hampp, C.Eppelsheim, J.Popp, M.Bisenberger and C.Brauchle,
Design and application of thick film multisensors. Sensorsand Actuators
A, 31, 1992, pp 144-148.
29.P.D. Jeffery, P.M. Burr, A. Cranny and J.K. Atkinson, Thick film
chemical sensor array allows flexibility in specificity. Proc.Int. Conf.
Measur. Exhibition Test and Transducers 1987.
30.M.Lambrechts, J.Suls and W.Sansen, A thick film glucose sensor.
Sensors and Actuators, 22, 1990, pp 115-120.
31. R.Dell’ Acqua, Non conventional applications of thick film technology.
Hybrid Circuits, 12, January 1987, pp 11-21.
32.M.Prudenziati, Screen printed and fired sensors for physical and
chemical quantities. Transducers’87, The 4th Int. Conf. on Solid-
State Sensors & Actuators, 1987, pp 85-90.
33. M.Prudenziati and B.Morten, Thick film sensors: an overview. Sensors
and Actuators, 10, 1986, pp 65-82.
34.C.Canali, D.Malavasi, B.Morten, M.Prudenziati and A.Taroni,
Piezoresistive effects in thick film resistors. J-Appl. Phys., Vol.51, No
6, June 1980, pp 3282-3288.
35.J.S.Shah, Strain sensitivity of thick film resistors. IEEE Trans. on
‘Comp.,Hyb,and Manuf. Tech., Vol. CHMT-3, No 4, Dec. 1980, pp
554-564.
36. S.Chitale, C.Huang, M.Stein, High gauge factors thick film resistors
for strain gauges, part I 8 I. Hybrid Circuits Technology, May 1989,
pp 45-47, & June 1989, pp 45-49.
37. L.B.Fraigi, N.M.White, J.K.Atkinson y J.E.Brignell, Sensores de
pelicula gruesa piezorresistivos. Mundo Electrénico, 191, Enero 1989,
pp 80-86.
38. J.K-Atkinson, Thick film temperature sensors. Thick films sensors and
materials for advanced applications, Short Course, Southampton,
Spring 1992.39. F.Forlani, Thick film sensors for automotive electronics. 4th European
Hybrid Microelectronics Conf., Copenhagen 1983, pp 165-177.
40. L.Pesic, R.Bozovic, A.Neskovic, L.Vrzic, Piezoresistivity pressure
transducer made thick film hybrid technology. Proc. of III Czechosl.
Microel. Conf., Bratislava, 1983.
41, V.Stamenov, A.Neskovic, A thick film pressure sensor, new results.
Proc. of the 19th Yugoslav Conference on Microlectronics, Belgrade,
May 1991, pp 355-360.
42.A.Di Flore, M.R.Haskard, Thick film pressure transducers.
Microelectronics Journal, Vol.17, No 1, 1986, pp 35-41.
43. B.Puers, W.Sansen, Assessment of thick film fabrication methods for
force (pressure) sensors. Sensors and Actuators, 12, 1987, pp 57-76.
44, K.M.Holford, N.M.White, The development of a high pressure thick
film sensor. IMech E 1990, C419/006.
45. L.Fraigi, D-Lupi, M.Malatto, Sensor de presién de pelicula gruesa.
AADECA 92, XIII Simposio Nacional de Control Automatico, 1992,
pp 417-421.
46. LFraigi, D.Lupi, M.Malatto, A thick film pressure transducer for car
propelled by natural gas. Sensors and Actuators A, Vol.42, No 13,
1994, pp 439-441.
47. B.Morten, M.Prudenziati, A. Taroni, Thick film technology and sensors.
Sensors and Actuators, 4, 1983, pp 237-45.
48.N.M.White, Thick film sensors for mechanical measurands. Thick
films sensors and materials for advanced applications, Short Course,
Spring 1992, Southampton.
49.S.Leppavuoti, New thick film sensors, European Hybrid Microe-
lectronics Conf., Ghent, 1979, pp 279-286.
50. H.Arima, A.Ikegami, K.Abe, S.Iwanaga, T.Isogai, Thcik film sensor.
Proc. ISHM Symposium, New York, 1980, pp 272-278.
51.Q.M.Reynolds, Thick film platinum temperature sensors. Proc. of
Test and Transducer Conf, Vol.2, Oct.1985, pp 31-44.
52. J.Gondek, M.Wojcicki, New Du Pont composition applied in thick
film temperature and humidity sensors. Electrocomponent Science
and Technology, Vol.9, 1981, pp 93-100.
53. J.Gondek, M.Wojcicki, New thick film temperature sensors applied in
aulsome hybrid measurement devices. Electrocomponent Science and
Technology, Vol.10, 1983; pp 95-102.
54. J.J-Gondek, T.H.Wojewodzki, A-Majowicz, New thick film tempe-
rature sensor of exhaust valves in Fiat 126P. Hybrid Circuits, No 7,
May 1985, pp 40-42.
55. B.Holodnik, A.Jakubowicz, M. Lukaszewic, W.Hauffe, Microstructural
studies of Ni-P thick film resistor temperature sensors. Activa and
Passive Elec, Comp., Vol.12, 1986, pp 127-135.
56. F.Sirotti, M.Prudenziati, T.Manfredini, Nickel based air firable thick
film conductors. Journal of Materials Science, 25, 1990, pp 636-641.
57. A.lkegami, H.Arima, H.Tosaki, Y.Matsuoka, M.Ai, H.Minorikawa,
Y.Asahino, Thick film thermistor and its applications. IEEE Trans. on
Components, Hybrids and Manufacturing Technology, Vol.CHMT-
3, No 4, 1990, pp 541-550.
58. H-Yongde, C.Lujin, L.Hong, Z.Dongxiang, G.Shuping, Research on
NTC thermally sensitive powder materials for thick film thermistors.
Sensors and Actuators A, 35, 1993, pp 269-272.
59.A.R.Robertson, Thick film thermocouples -a new approach to
temperature measurements. Proc. Electr. Comp. Conf., San Francisco,
1976, pp 163-167.
60. T.Kwikkers, Two thick film thermal sensors. Hybrid Circuits, No 16,
May 1988, pp 39-42.
61.N.D.Channon, A thick film humidity indicator. Journal of the Society
of Environmental Engineers, Sep. 1979, pp 23-25.
62.M.S.P.Lucas, L.E.Stephens, W.H.Dawes, M.R.Casey, Thick film
sensors for agricultural applications. J.Agric.Engng Res., 21, 1976, pp
1-8.
63. W.Smetana, W.Wiedermann, Experimental characterization of thick
film dielectrics for humidity sensor application, 4th European Hybrid
Microelectronics Conf., Copenhagen, 1983, pp 203-210.
64. G.Huyberechts, M.Honore, J.Roggen, Characterisation of strontium
containing tin dioxide based thick film humidity sensors. Burosensors
VI, San Sebastian, 1992.
65. LFraigi, S.Gwirc, D.Lupi, Sensor de Humidificacién. AADECA 92,
XIII Simposio Nacional de Control Automitico, 1992, pp 413-416.66. L.Fraigi, S.Gwirc, D.Lupi,A thick film sensor for atmosphericcorrosion
testing, Sensors and Actuators B, Vol.19, No 13, 1994, pp 558-561.
67. S.N.Gwirc, Thick film humidity sensor with glass modified sensitive
surface, Eurosensors VI, Budapest, 1993.
68. H. Torvela, P.Romppainen and S.Leppavuori, Detection of CO levels
in combustion gases by thick film SnO, sensor. Sensors and Actuators,
14, 1988, pp 19-25.
69. P.Dutronc, C.Lucat, F Menil, M.Loesch, Apotentially selectivemethane
sensor based on the differential conductivy responses of Pd and
Prdoped tin oxide thick layers, Eurosensor VI, San Sebastian, 1992.
70. J.Huusko, V.Lantto and H.Torvela, TiO, thick fitm gas sensors and
their suitability for NO,-monitoring. Eurosensors VI, 1992.
-T.Oyabu, T.Osawa, T.Kurobe, Sensing characteristics of tin oxide
thick film gas sensor. J.Appl. Phys. 53, No 11, November 1982, pp
7125-7130.
72.R. Ionescu, V.Vasilescu, A.Vancu, Conduction-concentration
relationship in chemoresistive thick film SnO, gas sensors. Sensors and
Actuators B, 8, 1992, pp 151-154.
73. G.Martinelli and M.Carotta, Influence of additives in the sensing
7
properties of screen-printed SnO, gas sensors. Eurosensors VI, San
Sebastian, 1992.
74.W.Chu, V.Leonhard, H.Erdmann and M.ligenstein, Thick film
chemical sensors. Sensors and Actuators B,4,1991,pp321-324.
75.G. Tschulena, W.Chu, H.Guth, V.Leonhard, Chemical Sensors and
their Applications. Battelle Technical Inputs to Planning, Report No
80, 1992.
76. S.Leppavouri and P.Romppainen, The use of hybrid microelectronics
in the construction of ion selective electrodes. Electrocomponent
Science and Technology, Vol.10 1983, pp 129-133.
77. B.Morten, M.Prudenziati, F Sirorti, G.DeCicco, A.Alberigi-Quaranta,
Magnetorosistive, properties of Ni based thick films. J. of Materials
Science: Materials in Electronics 1, 1990, pp 118-122.
78. K Seki, J.Shida, H.Matsuki, K. Murakami, A new environmental moni-
tor sensor utilizing thick film magnetic semiconductor. IEEE Trans-
actions on Magnetics, Vol.26, No 5,september 1990, pp 2035-2037.
313
También podría gustarte
Material Fr4
Aún no hay calificaciones
Material Fr4
4 páginas
1) Ejercicio
Aún no hay calificaciones
1) Ejercicio
1 página